Title:
二重入射スリット分光器の設計方法及び二重入射スリット分光器
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017501422
Kind Code:
A
Abstract:
凹面グレーティング(G)、2つの入射スリット(A1、A2)及び2つの光検出器(B1B2、B1'B2')で分光器を構築する二重入射スリット分光器の設計方法及び二重入射スリット分光器であって、前記設計方法は、第1入射スリットの入射角及び凹面グレーティングの溝周期を確定するステップ1)と、凹面グレーティングのブレーズ角を推定し、凹面グレーティングの表面材料と溝構造を確定するステップ2)と、入射角範囲を推定し、入射角度がΘA1である時及び入射角範囲内に分布された複数の角度での凹面グレーティングの波長-回折効率曲線を取得するステップ3)と、入射角ΘA2の値及び波長λ2とλ3の値を確定するステップ4)と、記録構造パラメータ及び使用構造パラメータを得るステップ5)と、凹面グレーティングの製造パラメータを確定するステップ6)と、凹面グレーティングに対する2つの入射スリットと2つの光検出器の位置を確定し、それにより分光器を構築するステップ7)と、を含む。本発明の設計方法で得られた分光器により、大部分のスペクトル領域内の回折効率を向上させることができる。
Inventors:
D, Kai
Elephant, thian
Bread, jinchao
Jean, Jin Chao
Tian, Louis
Shu, Minfei
Don, Hao
Elephant, thian
Bread, jinchao
Jean, Jin Chao
Tian, Louis
Shu, Minfei
Don, Hao
Application Number:
JP2016554788A
Publication Date:
January 12, 2017
Filing Date:
January 06, 2015
Export Citation:
Assignee:
Graduate School at Shenzhen, Zingwa University
International Classes:
G01J3/18; G01J3/04; G02B5/18
Domestic Patent References:
| JPH11513134A | 1999-11-09 | |||
| JP2009544015A | 2009-12-10 |
Foreign References:
| WO2012077351A1 | 2012-06-14 |
Attorney, Agent or Firm:
Longhua International Patent Service Corporation