Title:
研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5646996
Kind Code:
B2
Abstract:
The inventive method comprises chemically-mechanically polishing a substrate with an inventive polishing composition comprising a liquid carrier and abrasive particles that have been treated with a compound.
Inventors:
グルムバイン，スティーブン
リー，ショウチャン
ワード，ウィリアム
シン，パンカジ
ディサード，ジェフリー
リー，ショウチャン
ワード，ウィリアム
シン，パンカジ
ディサード，ジェフリー
Application Number:
JP2010525838A
Publication Date:
December 24, 2014
Filing Date:
September 19, 2008
Export Citation:
Assignee:
キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
International Classes:
H01L21/304; B24B37/00; C09K3/14
Attorney, Agent or Firm:
Aoki 篤
Ishida 敬
Tetsuji Koga
Yoshihiro Kobayashi
Satoru Ideno
Naoki Kobayashi
Ishida 敬
Tetsuji Koga
Yoshihiro Kobayashi
Satoru Ideno
Naoki Kobayashi