Title:
エネルギービームの照射を利用したシリコーン薄膜の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5647985
Kind Code:
B2
Inventors:
キム，ヨンファン
Application Number:
JP2011532012A
Publication Date:
January 07, 2015
Filing Date:
October 05, 2009
Export Citation:
Assignee:
インフォビオン カンパニー リミテッド
キム，ヨンファン
キム，ヨンファン
International Classes:
H01L21/203; C23C14/24
Attorney, Agent or Firm:
Ryoichi Takaoka