透明導電膜の成形方法、その透明導電膜、それを含むガラス基板およびそのガラス基板を用いた光電変換装置

Title:

透明導電膜の成形方法、その透明導電膜、それを含むガラス基板およびそのガラス基板を用いた光電変換装置

Document Type and Number:

Japanese Patent JPWO2003065386

Kind Code:

A1

Abstract:

本発明は、いわゆるオンラインＣＶＤ法によりガラスリボン上に酸化スズを主成分とする透明導電膜を成形する場合に、酸化スズの巨大結晶粒の生成を防止しつつ、炭素の濃度が低い、換言すれば波長４００〜５５０ｎｍの吸収係数が低い透明導電膜の成形方法を提供する。本発明の方法は、ガラスリボン上にＣＶＤ法により酸化スズを主成分とする透明導電膜を成形する方法であって、有機スズ化合物が０．５〜２．０ｍｏｌ％含まれる原料ガスを用いて、成膜速度３０００〜７０００ｎｍ／ｍｉｎで透明導電膜を成形する方法である。

Inventors:

藤沢章
清原康一郎
平田昌宏
市來聖敬
澤田徹

Application Number:

JP2003564885A

Publication Date:

May 26, 2005

Filing Date:

January 27, 2003

Export Citation:

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Assignee:

日本板硝子株式会社
株式会社カネカ

International Classes:

H01B13/00; C03C17/00; C03C17/245; C03C17/34; C23C16/40; C23C16/54; H01B5/14; H01L31/04; H01L31/18

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