面位置検出装置、露光装置、およびデバイス製造方法

Japanese Patent JPWO2009093594

A1

光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。被検面（Ｗａ）の近傍に設けられる参照面（９ａ）を有した参照部材（９）と、第１パターン面上の第１パターンからの測定光を被検面へ導いて第１パターンの中間像を投射し、第２パターン面上の第２パターンからの参照光を参照面に導いて第２パターンの中間像を投射する送光光学系（５〜８）と、被検面によって反射された測定光を第１観測面へ導いて第１パターンの観測像を形成し、参照面によって反射された参照光を第２観測面に導いて第２パターンの観測像を形成する受光光学系（１５〜１８）と、第１観測面における第１パターンの観測像の第１位置情報および第２観測面における第２パターンの観測像の第２位置情報を検出し、第１位置情報および第２位置情報に基づいて被検面の面位置を検出する検出部（１１〜１４；ＰＲ）とを備えている。

WO/1996/015861	NON-AMINIC PHOTORESIST ADHESION PROMOTERS FOR MICROELECTRONIC APPLICATIONS
WO/2017/052647	LITHOGRAPHICALLY DEFINED VIAS FOR ORGANIC PACKAGE SUBSTRATE SCALING
JP2008532273	Optical system for microlithography projection exposure equipment

Yasuhiro Hidaka

JP2009550526A

May 26, 2011

January 21, 2009

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NIKON CORPORATION

H01L21/027; G01B11/00; G03F9/02; H01L21/68

Takao Yamaguchi

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