Title:
マグネトロンスパッタリング用磁場発生装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2014125889
Kind Code:
A1
Abstract:
直線部及びコーナー部からなるレーストラック形状を有し、非磁性体のベース上に、(a)直線状の中央磁極部材と、(b)前記中央磁極部材を取り囲むように設置された外周磁極部材と、(c)前記中央磁極部材と前記外周磁極部材との間に配置された、ターゲット面に対して垂直な方向に磁化された複数の垂直永久磁石と、(d)その両側に配置されたターゲット面に対して平行な方向に磁化された複数の第1及び第2の水平永久磁石とを有し、前記第1及び第2の水平永久磁石の、前記垂直永久磁石に対向する側の極が、前記垂直永久磁石のターゲット表面に対向する側の極と同じであるマグネトロンスパッタリング用磁場発生装置。
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Inventors:
Yoshihiko Kuriyama
Application Number:
JP2015500169A
Publication Date:
February 02, 2017
Filing Date:
January 23, 2014
Export Citation:
Assignee:
Hitachi Metals Co., Ltd.
International Classes:
C23C14/35
Domestic Patent References:
| JPH08232063A | 1996-09-10 | |||
| JPH02118750U | 1990-09-25 | |||
| JPH04187766U | ||||
| JP2008156735A | 2008-07-10 |
Foreign References:
| WO2012102092A1 | 2012-08-02 |
Attorney, Agent or Firm:
Takaishi Tachibana
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