Title:
希釈水素ガス供給装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7129123
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】電気分解に際し希釈ガス中の粉塵を効率的に除去し得る希釈水素ガス供給装置の構成の提供。【解決手段】正極部のみに電解液供給部１０を備えている電解槽１において、負極１１及び正極１２が電解液Ｗを滲出可能な状態にあり、かつ両電極に対し、負極１１から滲出した電解液Ｗから水蒸気が発生し得るような加熱を可能とする加電が行われると共に、排出された水蒸気、水素ガス、酸素ガス、及び負極部又は正極部若しくは電解液供給部１０から突設された流動パイプ２中に備えた希釈ガス噴出器３から噴出された希釈ガスを流動する流動パイプ２を設置し、流動パイプ２における下方への流動領域に対する冷却を原因として、水蒸気から凝縮し、かつ希釈ガス中に含有された粉塵が混入している水が流動パイプ２から落下し、かつ希釈された水素ガスを流動パイプ２から導出することによって、前記課題を達成する希釈水素ガス供給装置。【選択図】図１
Inventors:
Takahashi Hisashi
Application Number:
JP2022016968A
Publication Date:
September 01, 2022
Filing Date:
February 07, 2022
Export Citation:
Assignee:
LIBLAT identity
International Classes:
C25B9/00; B01D47/05; B01D47/06; C25B1/04; C25B9/13; C25B9/23; C25B9/67; C25B11/031; C25B15/021; C25B15/023; C25B15/08
Domestic Patent References:
| JP2018068531A | 2018-05-10 | |||
| JP2009005881A | 2009-01-15 | |||
| JP2017036482A | 2017-02-16 | |||
| JP2013249531A | 2013-12-12 |
Foreign References:
| US20190091436 | 2019-03-28 |
Attorney, Agent or Firm:
Naoto Akao