Title:
電子ビーム描画装置、生産装置、電子ビーム描画方法、生産方法、プログラム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7129676
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】従来、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に取得できなかった。【解決手段】図形情報が特定する図形領域を分割した２以上の各第一小領域の中に、図形が含まれる面積に応じた第一密度情報の集合が、１以上の各図形情報ごとに格納される密度集合格納部と、１以上の各図形情報に対応する第一密度集合を密度集合格納部から取得する密度集合取得部３３と、１以上の各図形情報ごとの１以上の第一密度集合に応じた補正量であり、２以上の各第二小領域の補正量を取得する補正量取得部と、当該２以上の各第二小領域の補正量に応じた強さの電子ビームの照射量を、２以上の第二小領域ごとに取得する照射量取得部と、当該２以上の第二小領域ごとの照射量に従って、２以上の各第二小領域に電子ビームを照射する描画部とを具備する電子ビーム描画装置により、電子ビームを用いて図形を描画する際の適切な照射量を高速に取得できる。【選択図】図１
Inventors:
Masakazu Hamaji
Issei Masumoto
Natsuki Suzuki
Issei Masumoto
Natsuki Suzuki
Application Number:
JP2021105443A
Publication Date:
September 02, 2022
Filing Date:
June 25, 2021
Export Citation:
Assignee:
Japan Control System Co., Ltd.
IMS Nano Fabrication GM Beher
IMS Nano Fabrication GM Beher
International Classes:
H01L21/027; G03F7/20; H01J37/305
Domestic Patent References:
| JPH1126360A | 1999-01-29 | |||
| JP2012243939A | 2012-12-10 | |||
| JP2016201472A | 2016-12-01 | |||
| JP2012212792A | 2012-11-01 | |||
| JP2007115891A | 2007-05-10 | |||
| JP2013171946A | 2013-09-02 | |||
| JP2012253316A | 2012-12-20 |
Attorney, Agent or Firm:
Tanigawa Hidekazu