Title:
配向堆積のための装置及び方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022531091
Kind Code:
A
Abstract:
高アスペクト比の分子構造体、ＨＡＲＭ構造体、の気相堆積のための装置及び方法が提示される。第１の態様は、フィルタ上でのＨＡＲＭ構造体の配向性のある気相堆積のために構成された装置に関する。第２の態様は、基材上でのＨＡＲＭ構造体の配向性のある気相堆積のために構成された装置に関する。また、複数の第２の態様に係る装置を含むシステムも提示される。これらの装置の要素は、ＨＡＲＭ構造体を含むガスの層流を堆積領域に形成し、この流れを少なくとも部分的に堆積領域と平行に向けるように配置されている。本発明の別の態様は、フィルタ上及び基材上の両方に堆積するのに適した、ＨＡＲＭ構造体の配向堆積の方法である。【選択図】なし
Inventors:
Valyos Ilkka
Anisimov Anton Sergevic
Mikladal Bjorn Fridur
Tian Dewey
Anisimov Anton Sergevic
Mikladal Bjorn Fridur
Tian Dewey
Application Number:
JP2021561922A
Publication Date:
July 06, 2022
Filing Date:
April 20, 2020
Export Citation:
Assignee:
Kanatooi
International Classes:
C01B32/15; B01D46/00; B82Y40/00
Attorney, Agent or Firm:
Masayuki Masabayashi
Hayashi Kazuyoshi
Hayashi Kazuyoshi