Title:
露光光周波数増強装置、フォトマスクおよびその作製方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7382113
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】投影リソグラフィ用の露光光周波数増強装置を提供する。【解決手段】対向する第１面および第２面を備える透光性基板１０１と、表面プラズモン層１０２であって、透光性基板の第１面に位置し、露光光の作用により表面プラズモンを生成し、複数のナノ単位構造は、それぞれ表面プラズモン層の平面の第１方向および第２方向で露光光の波長と整合して和周波効果を発生することができる周期的間隔配列に設けられ、ナノ単位構造の周期寸法は、それぞれ露光光の波長の１倍～５倍になるように設定され、第１方向および第２方向における表面プラズモンの近接場光波の共振周波数は、それぞれ同じ方向に偏光された第１光波および第２光波の光周波数と同一であるか整数倍になり、和周波数効果を形成することにより透光性基板を透過する和周波光を生成し、和周波光の出力が表面プラズモン層を透過する露光光の総出力に占める比率が３０％を超える。【選択図】図８
Inventors:
Kimeika
yellow early red
Ren Xinping
Yueaki Hayashi
yellow early red
Ren Xinping
Yueaki Hayashi
Application Number:
JP2023078840A
Publication Date:
November 16, 2023
Filing Date:
May 11, 2023
Export Citation:
Assignee:
SHANGHAI CHUANXIN SEMICONDUCTOR CO., LTD.
International Classes:
G03F7/20; G03F1/00; G03F1/32
Domestic Patent References:
| JP2005303197A | ||||
| JP2005328020A | ||||
| JP2012190915A |
Foreign References:
| WO2011108259A1 |
Attorney, Agent or Firm:
Hiroshi Ogami
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