Title:
足湯装置及び足湯システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7446652
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】 容易に清掃を行うことができ、かつ足の温まり具合や血行状態といった足の状態を客観的に把握することができる足湯装置を提供する。【解決手段】 足湯装置１００は、足湯本体器１０の上に着脱自在に装着される足湯容器２０、足湯容器２０内に着脱自在に装着され、誘導加熱プレート３３と、この誘導加熱プレート３３を覆う保護カバー３４とを有する発熱ユニット３０と、を備える。足湯本体器１０は、加熱コイル１３、この加熱コイル１３に高周波電力を供給制御する誘導加熱制御基板１６を備える。また、足湯本体器１０は、足湯容器２０の足置部２１に向けて光を発射する光源部１４、足裏からの反射光を受光し、ＲＧＢの各信号成分からなる色データを出力するカラーセンサー部１４、色データに応じて足裏の状態を表す画像を表示する表示部１８を備えている。【選択図】図１
Inventors:
Atsushi Morita
Application Number:
JP2023128995A
Publication Date:
March 11, 2024
Filing Date:
August 08, 2023
Export Citation:
Assignee:
Yong Tai Sangyo Co., Ltd.
International Classes:
A47K3/022; A47K4/00; H05B6/02; H05B6/06
Domestic Patent References:
| JP200534494A | ||||
| JP3157386U |
Foreign References:
| CN212346331U | ||||
| CN109743804A | ||||
| CN207166811U | ||||
| CN109414183A |
Attorney, Agent or Firm:
Katsuhiko Sudo
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