Title:
ステアリング反射面の決定方法及び外部測定液面計フォーカスステアリング
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023552238
Kind Code:
A
Abstract:
【要約】【課題】本発明はステアリング反射面の決定方法及び外部測定液面計フォーカスステアリングに係り、液面測定技術分野に関する。【解決手段】ステアリング反射面の決定方法は放射線放出源ステアリング反射面の中心との距離である焦点距離及び、超音波がステアリングの反射面を介して反射する出射角である設定反射角を取得すること(101)と、焦点距離と設定反射角に基づきステアリング反射面の第０段反射面を決定すること(102)と、第０段反射面に基づき幾何学的方法を用い正数段反射面と負数段反射面を含む隣接段反射面を決定すること(103)と、ステアリング反射面の段数が設定段数に達すると第０段反射面と前記隣接段反射面に基づきステアリング反射面を決定すること(104)を含み、外部測定液面計フォーカスステアリングは該当方法に従って決定されるステアリング反射面、外部測定液面計フォーカスステアリングを含み、縦型貯液タンクの側壁外側で液面を測定する。
Inventors:
Wang Dinghua
Wang Rui
Wang Qi
Wang Rui
Wang Qi
Application Number:
JP2023544624A
Publication Date:
December 14, 2023
Filing Date:
May 07, 2021
Export Citation:
Assignee:
Xidian Hua Electronics Co., Ltd.
International Classes:
G01N29/26; G01F23/296; G01N29/02
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Maku Patent Office
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