Title:
２層のマイクロ波キャビティによる径方向均一性の動的制御のための方法および装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022546574
Kind Code:
A
Abstract:
複数の方法と装置が半導体処理チャンバのためのプラズマ発生を提供する。幾つかの実施形態においては、プラズマは、複数の放射スロットを有する金属板によって下側マイクロ波キャビティから隔てられている少なくとも２つの上側マイクロ波キャビティを有する処理チャンバと、少なくとも２つの上側マイクロ波キャビティのうちの第１の上側マイクロ波キャビティに接続された少なくとも１つのマイクロ波入力ポートと、少なくとも２つの上側マイクロ波キャビティのうちの第２の上側マイクロ波キャビティに接続された少なくとも２つのマイクロ波入力ポートとを含み得るシステムによって発生される。下側マイクロ波キャビティは、金属板の複数の放射スロットを通して少なくとも２つの上側マイクロ波キャビティの両方から放射を受け入れ、下側マイクロ波キャビティは、処理チャンバの処理空間内に均一なプラズマ分布を提供する電界を形成するように構成されている。【選択図】図３２
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Inventors:
Kobayashi, Satoru
Hideo Sugai
Ivanov, Dennis
Scudder, Lance
Lubomirsky, Dmitry
Hideo Sugai
Ivanov, Dennis
Scudder, Lance
Lubomirsky, Dmitry
Application Number:
JP2022514503A
Publication Date:
November 04, 2022
Filing Date:
August 31, 2020
Export Citation:
Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
H05H1/46; H01L21/3065
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda & Kobayashi Patent Attorneys Corporation