Title:
化学プラント設備の制御及び／又は監視方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023517983
Kind Code:
A
Abstract:
化学プラント設備（１１０）を制御及び／又は監視するためのコンピュータ実装方法が提案される。前記方法は、以下のステップ：ａ）最適化される生産プロセスの少なくとも１つのパラメータを特定するステップと；ｂ）少なくとも１つの入力チャネル（１２６）を介して入力データを受信するステップであって、前記入力データは、前記生産プロセスの運転条件、プラント設備のレイアウトの物理的特性、及び物理化学的ホワイトボックスモデル（１２８）から決定される少なくとも１つの予測パラメータを含み、前記物理化学的ホワイトボックスモデル（１２８）は、少なくとも１つの熱力学モデル（１３０）、少なくとも１つの固体形成モデル（１３２）、及び析出プロセスを予測するための計算流体力学（ＣＦＤ）ベースの数値シミュレーション（１３４）を含むステップと；ｃ）少なくとも１つの処理装置（１３８）を介して、特定された前記パラメータである特定パラメータを最適化するステップであって、前記特定のパラメータは、前記予測パラメータに基づいて、前記生産プロセスの運転条件及び／又は前記プラント設備のレイアウトの物理的特性を適合させることによって最適化される、ステップと、を含む。【選択図】図５
Inventors:
Metsger, Lucas
Kespe, Michael Andreas
Vialink, Torsten
Luther, Ferry
Kespe, Michael Andreas
Vialink, Torsten
Luther, Ferry
Application Number:
JP2022554816A
Publication Date:
April 27, 2023
Filing Date:
March 11, 2021
Export Citation:
Assignee:
BASF SE
International Classes:
G05B13/04; G05B11/36
Attorney, Agent or Firm:
Sato Eto
Akiko Kurawaki
Osamu Yamaguchi
Kenji Inagaki
Hironori Nagayama
Akiko Kurawaki
Osamu Yamaguchi
Kenji Inagaki
Hironori Nagayama