Title:
ＥＵＶ光用回転楕円体ミラーの反射率計測装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016151682
Kind Code:
A1
Abstract:
本開示によるＥＵＶ光用回転楕円体ミラーの反射率計測装置は、回転楕円反射面を含む回転楕円体ミラーに向けて、ＥＵＶ光を出力するＥＵＶ光源と、ＥＵＶ光を回転楕円体ミラーの第１の焦点位置を通過させた後、回転楕円反射面に入射させる光学系と、回転楕円体ミラーの第２の焦点位置に配置され、第１の焦点位置を通過した後、回転楕円反射面で反射したＥＵＶ光を検出する第１の光センサとを備えてもよい。
Inventors:
Yohei Kobayashi
Mizoguchi
Junichi Fujimoto
Katsunori Isomoto
Wakabayashi Osamu
Georg Smann
Mizoguchi
Junichi Fujimoto
Katsunori Isomoto
Wakabayashi Osamu
Georg Smann
Application Number:
JP2017507148A
Publication Date:
January 18, 2018
Filing Date:
March 20, 2015
Export Citation:
Assignee:
National University Corporation Tokyo University
Gigaphoton Co., Ltd.
Gigaphoton Co., Ltd.
International Classes:
G01M11/00; G02F1/37; G03F7/20; H01S3/00; H01S3/10
Domestic Patent References:
| JP2011180039A | 2011-09-15 | |||
| JP2005241597A | 2005-09-08 | |||
| JPH01202637A | 1989-08-15 |
Foreign References:
| US20070091314A1 | 2007-04-26 | |||
| US5056917A | 1991-10-15 |
Other References:
長野 晃尚、外６名: "強制再結合ＬｉターゲットＥＵＶ光源のレーザー波長依存性", 第６８回応用物理学会学術講演会講演予稿集, vol. Vol.2, JPN6019004953, 2007, pages 7 - 3
永田 豊、外３名: "極微パタン構造計測のためのコヒーレント１３ｎｍ高次高調波光源の開発Ｉ", ２０１０年秋季第７１回応用物理学会学術講演会講演予稿集, JPN6019004955, 2010, pages 07 - 044
永田 豊、外３名: "極微パタン構造計測のためのコヒーレント１３ｎｍ高次高調波光源の開発Ｉ", ２０１０年秋季第７１回応用物理学会学術講演会講演予稿集, JPN6019004955, 2010, pages 07 - 044
Attorney, Agent or Firm:
Patent Business Corporation Tsubasa International Patent Office