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Patent Searching and Data


Title:
安定性ビス(アルキル-アレーン)遷移金属錯体、及びそれを用いた膜堆積方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024520373
Kind Code:
A
Abstract:
【解決手段】 基材上に金属含有膜を形成する方法であって、金属含有前駆体を含有する膜形成性組成物の蒸気に基材を暴露するステップと、気相堆積プロセスを介して、金属含有前駆体の少なくとも一部を基材の上に堆積して、基材上に金属含有膜を形成するステップと、を含み、金属含有前駆体は純M(アルキル-アレーン)2であり、MはCr、Mo、又はWであり、アレーンは、(式中、R1、R2、R3、R4、R5、及びR6のそれぞれは独立して、H、C1-C6アルキル、C1-C6アルケニル、C1-C6アルキルフェニル、C1-C6アルケニルフェニル、又は-SiXR7R8から選択され、Xは、F、Cl、Br、Iから選択され、R7、R8のそれぞれは、H、C1-C6アルキル、C1-C6アルケニルから選択される)である、方法が開示される。【選択図】図14

Inventors:
Arteaga Murrah, Rocio, Alejandra
Rocha, Raphael
Ganteau, Julien
Beppu, Teruo
Pen, bow
Application Number:
JP2023572152A
Publication Date:
May 24, 2024
Filing Date:
May 20, 2022
Export Citation:
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Assignee:
Rail Liquide-Societe Anonym Pools Retude e Rex Prosatation de Procede Georges Claude
International Classes:
C23C16/18; C07F11/00
Attorney, Agent or Firm:
Michie Obuchi
Yukio Fuse