Title:
基板支持システム、リソグラフィ装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023525150
Kind Code:
A
Abstract:
【解決手段】支持部分であって、基板の底面を支持面に支持するように構成された支持部分と、可動部分であって、可動部分の上端が支持面より下方にある格納位置と可動部分の上端が支持面より上方にある伸長位置との間で移動可能であり、上端が伸長位置において基板の底面を支持面より上方に支持する可動部分と、可動部分が格納位置から伸長位置へと移動するのに掛かる時間を測定し、測定時間を基準時間と比較し、測定時間が基準時間から所定量を超えて外れるとき信号を生成するように構成された測定システムと、を備える基板支持システムが提供される。【選択図】図２
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Inventors:
Gilliams, Roger, Sebastian
Kunen, Johann, Hartludis, Cornelis
Van den Huebel, Marco, Adrian, Peter
zoo bokyung
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Application Number:
JP2022569099A
Publication Date:
June 14, 2023
Filing Date:
May 03, 2021
Export Citation:
Assignee:
ASM L Netherlands B.V.
International Classes:
G03F7/20; H01L21/683
Attorney, Agent or Firm:
Kenki Morishita
Takeshi Aoki
Takeshi Aoki