Title:
過分極材料の生成のためのシステムおよび方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024505215
Kind Code:
A
Abstract:
標的化合物の核スピン偏極を増加させるためのシステムおよび方法が開示される。こうしたシステムおよび方法によれば、第一の非熱平衡核スピン偏極は、少なくとも一つのソース化合物のソース原子に付与されてもよく、ソース原子は、テスラ当たり少なくとも１２メガヘルツ（ＭＨｚ／Ｔ）の核ジャイロ磁気比を有する。ソース化合物および標的化合物を含む第一の溶液を得ることができる。少なくとも一つのソース原子は、第一の溶液中において少なくとも０．１モル（Ｍ）のソース濃度で存在することができる。少なくとも０．０１％の第二の非熱平衡核スピン偏極を、第一の非熱平衡核スピン偏極の少なくとも一つの標的原子への核オーバーハウザー効果（ＮＯＥ）移動を介して、標的化合物の少なくとも一つの標的原子に付与することができる。【選択図】図１
Inventors:
Eli Schwartz
anna parker
Stefan Knecht
Tim Eichhorn
John Blanchardt
anna parker
Stefan Knecht
Tim Eichhorn
John Blanchardt
Application Number:
JP2023545843A
Publication Date:
February 05, 2024
Filing Date:
January 31, 2022
Export Citation:
Assignee:
NVision Imaging Technologies Gesellschaft mit Beschlenktel Haftung
International Classes:
G01N24/12; G01N24/08; G01R33/465
Attorney, Agent or Firm:
Atsushi Aoki
Shinji Mihashi
Kazuhiro Nakamura
Nobuo Sekine
Shujiro Aoki
Satoshi Murakami
Shinji Mihashi
Kazuhiro Nakamura
Nobuo Sekine
Shujiro Aoki
Satoshi Murakami