Title:
チタンジルコニウム酸化物ナノ粒子、フォトレジスト、フォトレジストのパターニング方法及びプリント回路基板を生成する方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024500565
Kind Code:
A
Abstract:
フォトレジスト、フォトレジスト組合せ製品、フォトレジストのパターニング方法、プリント回路基板の生成方法である。フォトレジストは、有機溶媒と、チタンジルコニウム酸化物ナノ粒子と、を含み、チタンジルコニウム酸化物ナノ粒子の一般式は、ＴｉｘＺｒｙＯｚＬｎであり、式中、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ独立して１～６から選ばれる任意の整数であり、ｎは５～３０から選ばれる任意の整数であり、Ｌはラジカル重合開始可能な基を有する有機物配位子である。【選択図】図２
Inventors:
Xu Hong
He Xiangming
Wang Xiaolin
He Xiangming
Wang Xiaolin
Application Number:
JP2023558927A
Publication Date:
January 09, 2024
Filing Date:
December 07, 2021
Export Citation:
Assignee:
TSINGHUA UNIVERSITY
BEIJING VFORTUNE NEW ENERGY POWER TECHNOLOGY DEVELOPMENT CO., LTD.
BEIJING VFORTUNE NEW ENERGY POWER TECHNOLOGY DEVELOPMENT CO., LTD.
International Classes:
C07C57/04; C07F7/00; C07F7/28; G03F7/004; G03F7/09; G03F7/20; G03F7/32; G03F7/40
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation ATEN
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