Title:
描画装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024041379
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】描画装置における焦点位置の補正が適切であるかが確認されやすい技術が提供される。【解決手段】変調器は、パターンに基づいて第１の光を空間変調して描画光を出射する。第１の光学系は、描画光および第２の光が入射して、描画光および第２の光を出射する。第２の光学系は、第１の光学系から出射された描画光および第２の光が入射して、第１の光学系から出射された描画光を基板へ導き、第１の光学系から出射された第２の光を、基板を避けて出射する。検出部は、第２の光学系から出射された第２の光に基づいて第１の光学系の焦点位置を検出する。第１の光が有する第１の波長と第２の光が有する第２の波長とは異なる。【選択図】図６
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Inventors:
Kazumasa Ishida
Daisuke Kishiwaki
Yukihide Shigeno
Hiroyuki Shirota
Daisuke Kishiwaki
Yukihide Shigeno
Hiroyuki Shirota
Application Number:
JP2022146160A
Publication Date:
March 27, 2024
Filing Date:
September 14, 2022
Export Citation:
Assignee:
Screen Holdings Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/20; G02B7/00
Attorney, Agent or Firm:
Hidetoshi Yoshitake
Takahiro Arita
Takahiro Arita