Title:
有機材料を還元してメタンおよび／または水素を生成するためのプロセス
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022540345
Kind Code:
A
Abstract:
有機材料を還元して、メタンおよび／または水素を生成するためのプロセスが開示される。このプロセスは、（ａ）周囲温度で、密閉された還元チャンバ内で有機材料を過剰量の水素ガスと接触させることであって、還元チャンバが、実質的に酸素を含まない、接触させること、ならびに還元チャンバを加熱して、正圧下で、毎分最大約８℃の速度で、有機材料内に、周囲温度から最大４２５℃までの温度増加をもたらして、メタン、水素、酸、および部分的に還元された揮発性有機分子を含む、第１のガス状混合物を形成することと、（ｂ）過剰量の水素ガスの存在下で、第１のガス状混合物を約６７５℃～約８７５℃の温度まで加熱して、メタン、水素、および酸を含む、第２のガス状混合物を形成することと、（ｃ）第２のガス状混合物を塩基で中和することと、を含む。別の態様では、このプロセスは、（ａ１）周囲温度で、密閉された還元チャンバ内で有機材料を過剰量の水素ガスと接触させることであって、還元チャンバが、実質的に酸素を含まない、接触させること、ならびに還元チャンバを加熱して、正圧下で、毎分最大約８℃の速度で、有機材料内に、周囲温度から最大４２５℃までの温度増加をもたらして、メタン、水素、酸、および部分的に還元された揮発性有機分子を含む、第１のガス状混合物を形成することと、（ｂ１）第１のガス状混合物を塩基で中和することと、を含む。【選択図】図１
Inventors:
HALLETT, Douglas John Frederick
WILLIS, David Jonathan
WILLIS, David Jonathan
Application Number:
JP2021577278A
Publication Date:
September 15, 2022
Filing Date:
June 26, 2020
Export Citation:
Assignee:
HALLETT, Douglas John Frederick
WILLIS, David Jonathan
WILLIS, David Jonathan
International Classes:
C10L3/08; B09B3/40; B09B3/70; C01B3/02
Attorney, Agent or Firm:
Takako Koiso
Toshihiro Kintaka
Toshihiro Kintaka