以下、本発明を実施するための最良の形� ��について説明するが、本発明はこれらに限� ��されない。

 以下、本発明を更に詳細に説明する。

 《アルミニウム支持体》
 (支持体製造方法)
 本発明の平版印刷版材料に係る支持体は、� ��ルミニウム板であり、純アルミニウム板ま� ��はアルミニウム合金板が用いられる。

 アルミニウム合金としては、種々のもの� ��使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、� ��グネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス� ��ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金� ��とアルミニウムの合金が用いられ、各種圧� ��方法により製造されたアルミニウム板が使� ��できる。また、近年普及しつつあるスクラ� ��プ材およびリサイクル材などの再生アルミ� ��ウム地金を圧延した再生アルミニウム板も� ��用できる。

 本発明の平版印刷版材料に用いることが� ��きるアルミニウム支持体は、粗面化(砂目立 て処理)するに先立って表面の圧延油を除去� �るために脱脂処理を施すことが好ましい。� �脂処理としては、トリクレン、シンナー等� �溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエ� �ノール等のエマルジョンを用いたエマルジ� �ン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理� �は、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用� �ることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等� �アルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処� �のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除� �することができる。脱脂処理に苛性ソーダ� �のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の� �面にはスマットが生成するので、この場合� �は、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、� �いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理� �施すことが好ましい。

 粗面化の方法としては、例えば、機械的� ��法、電解によりエッチングする方法が挙げ� ��れる。本発明における一つの形態では、粗� ��化方法は特に限定されないが、表面粗さRa� �0.4~0.8μmである。また、本発明における一つ� ��形態では、塩酸を主体とする酸性電解液中� ��交流電解処理により粗面化を行う。

 機械的粗面化法は特に限定されるものでは� ��いが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が� ��ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例� ��ば、直径0.2~0.8mmのブラシ毛を使用した回転� ��ラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒� ��10~100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散さ� ��たスラリーを供給しながら、ブラシを押し� ��けて行うことができる。ホーニング研磨に� ��る粗面化は、例えば、粒径10~100μmの火山灰� ��粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧� ��をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突� ��せて粗面化を行うことができる。又、例え� ��、支持体表面に、粒径10~100μmの研磨剤粒子� ��、100~200μmの間隔で、2.5×103~10×103個/cm ² の密度で存在するように塗布したシートを張 り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パター ンを転写することにより粗面化を行うことも できる。

 上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支� ��体の表面に食い込んだ研磨剤、形成された� ��ルミニウム屑等を取り除くため、酸又はア� ��カリの水溶液に浸漬することが好ましい(以 降、デスマット処理と呼ぶことがある)。酸� �しては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐� �、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては� �例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム� �が用いられる。これらの中でも、水酸化ナ� �リウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好� �しい。表面のアルミニウムの溶解量として� �、0.5~5g/m ² が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行 った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸 或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施す ことが好ましい。

 電気化学的粗面化法も特に限定されるもの� ��はないが、酸性電解液中で電気化学的に交� ��電流で粗面化を行う方法が好ましい。酸性� ��解液は、電気化学的粗面化法に通常用いら� ��る酸性電解液を使用することができるが、� ��酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ま� ��い。電気化学的粗面化方法については、例� ��ば、特公昭48-28123号、英国特許第896,563号、� ��開昭53-67507号に記載されている方法を用い� �ことができる。この粗面化法は、一般には� �1~50ボルトの範囲の電圧を印加することによ� ��て行うことができるが、10~30ボルトの範囲� �ら選ぶのが好ましい。電流密度は、10~200A/dm ² の範囲を用いることができるが、40~150A/dm ² の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100 ~5000c/dm ² の範囲を用いることができるが、100~2500c/dm ² の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法 を行う温度は、10~50℃の範囲を用いることが� ��きるが、15~45℃の範囲から選ぶのが好まし� �。

 電解液として硝酸系電解液を用いて電気化� ��的粗面化を行う場合、一般には、1~50ボルト の範囲の電圧を印加することによって行うこ とができるが、10~30ボルトの範囲から選ぶの� ��好ましい。電流密度は、10~200A/dm ² の範囲を用いることができるが、20~100A/dm ² の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100 ~5000c/dm ² の範囲を用いることができるが、100~2500c/dm ² の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗 面化法を行う温度は、10~50℃の範囲を用いる� ��とができるが、15~45℃の範囲から選ぶのが� �ましい。電解液における硝酸濃度は0.1~5質量 %が好ましい。電解液には、必要に応じて、� �酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、� �酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等� �加えることができる。

 電解液として塩酸系電解液を用いる場合、� ��般には、1~50ボルトの範囲の電圧を印加する ことによって行うことができるが、2~30ボル� �の範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は� �10~200A/dm ² の範囲を用いることができるが、30~150A/dm ² の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100 ~5000c/dm ² の範囲を用いることができるが、好ましくは 100~2500c/dm ² 、更には200~2500c/dm ² の範囲から選ぶのがより好ましい。電気化学 的粗面化法を行う温度は、10~50℃の範囲を用� ��ることができるが、15~45℃の範囲から選ぶ� �が好ましい。電解液における塩酸濃度は0.1~5 質量%が好ましい。電解液には、必要に応じ� �、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド� �、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう� �等を加えることができる。

 上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後� ��表面のアルミニウム屑等を取り除くため、� ��又はアルカリの水溶液に浸漬することが好� ��しい(デスマット処理)。酸としては、例え� �、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸� �が用いられ、塩基としては、例えば、水酸� �ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられ� �。これらの中でもアルカリの水溶液を用い� �のが好ましい。表面のアルミニウムの溶解� �としては、0.5~5g/m ² が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処 理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸 等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理 を施すことが好ましい。

 機械的粗面化法、電気化学的粗面化法は� ��れぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、� ��、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的� ��面化法を行って粗面化してもよい。

 粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行う� ��本発明において用いることができる陽極酸� ��処理の方法には特に制限はなく、公知の方� ��を用いることができる。陽極酸化処理を行� ��ことにより、支持体上には酸化皮膜が形成� ��れる。該陽極酸化処理には、硫酸を10~50%の� ��度で含む水溶液を電解液として、電流密度1 ~50A/dm ² で電解する方法が好ましく用いられるが、他 に、米国特許第1,412,768号に記載されている硫 酸中で高電流密度で電解する方法や、同3,511, 661号公報に記載されている燐酸を用いて電解 する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等 を一種又は二種以上含む溶液を用いる方法等 が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は 、3.0~4.0g/m ² である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニ ウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、酸 化クロム(IV):20gを1Lの水に溶解して作製)に浸� ��し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後� ��質量変化測定等から求められる。

 陽極酸化した後、陽極酸化膜を除去し、� ��の表面を観察することで、陽極酸化のセル� ��確認し、その長さを測定することで、陽極� ��化のセル径を測定することが出来る。陽極� ��化膜のセル径は30~80nmであることが好ましく 、より好ましくは40~70である。上記範囲をセ� ��径をすることで、長期使用しても、現像ス� ��ッジが少なく、耐キズ性が良好にできる。

 陽極酸化処理された支持体は、必要に応� ��封孔処理を施してもよい。これら封孔処理� ��、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪� ��ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜� ��酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の� ��法を用いて行うことができる。

 機械的粗面化法、硝酸系電解液による交流� ��解粗面化法では本発明において好ましい平� ��間隔(30~150nm)または平均径が30~150nmで構成さ� ��る凹凸部が50~1100個/μm ² である微細粗面は形成されにくいため、封孔 処理により形成する必要がある。その場合は 、熱水処理または酢酸アンモニウム処理が好 ましい。熱水処理の場合は、温度は70~97℃、� ��理時間5~180秒の間で条件を組み合わせ所望� �微細粗面を得ることが出来る。また、酢酸� �ンモニウムでpHを7~9.5に調整することにより� ��より短時間で所望の微細粗面を得ることが� ��来る。

 一方、塩酸系電解液による交流電解粗面� ��法では上記本発明において好ましい微細粗� ��が形成されるが、デスマット処理により微� ��粗面も溶解してしまった場合は、上記熱水� ��理または酢酸アンモニウム処理で再形成す� ��ことが出来る。また、デスマット処理条件� ��熱水処理または酢酸アンモニウム処理の組� ��合わせで微細構造を形成しても良い。

 (下塗層(親水化処理))
 更に、これらの処理を行った後に、親水化� ��理を施すことが好ましい。上記することで� ��支持体と下層との接着性の向上により耐薬� ��性の向上が図られる。また親水化処理層は� ��熱層として機能し、赤外線レーザの露光に� ��り発生した熱が支持体に拡散せず、酸分解� ��合物等の反応が効率よく使用できることか� ��、高感度化を図ることができる。

 親水化処理は特に限定されないが、水溶� ��の樹脂、たとえばポリビニルホスホン酸、� ��リビニルアルコール及びその誘導体、カル� ��キシメチルセルロース、デキストリン、ア� ��ビアガム、2-アミノエチルホスホン酸など� �アミノ基を有するホスホン酸類、スルホン� �基を側鎖に有する重合体および共重合体、� �リアクリル酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸� ��鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗 りしたものが使用できる。更に、特開平5-3043 58号公報に開示されているようなラジカルに� ��って付加反応を起し得る官能基を共有結合� ��せたゾル-ゲル処理基板も用いられる。好適 なのは、ポリビニルホスホン酸で支持体表面 に親水化処理を行うことである。

 また親水化処理素材として、水溶性の赤� ��染料を用いることができる。水溶性の赤外� ��料を用いることにより、断熱層として機能� ��向上と赤外線レーザの露光により発生した� ��の支持体への拡散防止、さらに赤外染料特� ��の光熱変換剤として機能を両立できるので� ��ましい、水溶性の赤外染料は公知の染料で� ��溶性のものなら特に限定はない。例えば、� ��アニン系の染料の、ADS830WS(日本シーベルヘ� ��ナー)やNK-4777(林原生物科学研究所)等のスル ホン酸やスルホン酸塩を含有するものが挙げ られる。

 処理としては、塗布式、スプレー式、デ� ��ップ式等限定されないが、設備を安価にす� ��にはディップ式が好適である。ディップ式� ��場合には、ポリビニルホスホン酸を0.05~3%の 水溶液で処理することが好ましい。処理温度 は20~90℃、処理時間は10~180秒が好ましい。処� ��後、過剰に積層したポリビニルホスホン酸� ��除去するため、スキージ処理または水洗処� ��を行うことが好ましい。更に乾燥処理を行� ��ことが好ましい。乾燥温度としては、40~180� ��が好ましく,更に好ましくは50~150℃である。 乾燥処理することで下層との接着性、断熱層 としての機能が向上し、耐薬品性、感度が向 上するので好ましい。

 親水性処理層の膜厚は接着性、断熱性の� ��から、0.002~0.1μが好ましく、更に好ましく� �0.005~0.05μである。

 (支持体の表面形状)
 支持体の表面形状は、平均開口径5.0~10.0μm� �中波構造と、平均開口径0.5~3.0μmで開口径に� ��する深さの比の平均が0.2以上である小波構� ��とを重畳した構造の砂目形状を表面に有す� ��ことが好ましい。

 平均開口径5.0~10.0μmの中波構造は、主に� �ンカー(投錨)効果によって画像記録層を保持 し、耐刷力を付与する機能を有する。

 上記中波構造に重畳される、平均開口径0 .5~3.0μmμmで開口径に対する深さの比の平均が 0.2以上である小波構造は、耐刷低下を最小限 に抑えつつ感度をアップさせる役割を果たす 。特定の中波構造に特定の小波構造を組み合 わせることで、支持体/画像記録層界面に現� �液が滲入しやすくなり、現像速度が向上す� �ためと考えられる。

 上記の中波構造と小波構造とを重畳した� ��造は、更に、平均波長5.0~100.0μmの大波構造� ��重畳した構造であってもよい。この大波構� ��は、平版印刷版の非画像部の表面の保水量� ��増加させる効果を有する。この表面に保持� ��れた水が多いほど、非画像部の表面は雰囲� ��中の汚染の影響を受けにくくなり、印刷途� ��で版を放置した場合にも汚れにくい非画像� ��を得ることができる。また、大波構造が重� ��されていると、印刷時に版面に与えられた� ��し水の量を目視で確認することが容易とな� ��。即ち、平版印刷版の検版性が優れたもの� ��なる。

 表面の中波構造の平均開口径、小波構造� ��平均開口径および開口径に対する深さの平� ��、ならびに、大波の平均波長の測定方法は� ��以下の通りである。

 (1)中波構造の平均開口径
 電子顕微鏡を用いて支持体の表面を真上か� ��倍率2000倍で撮影し、得られた電子顕微鏡写 真においてピットの周囲が環状に連なってい る中波構造のピット(中波ピット)を少なくと� ��50個抽出し、その直径を読み取って開口径� �し、平均開口径を算出する。大波構造を重� �した構造の場合も同じ方法で測定する。

 また、測定のバラツキを抑制するために� ��市販の画像解析ソフトによる等価円直径測� ��を行うこともできる。この場合、上記電子� ��微鏡写真をスキャナーで取り込んでデジタ� ��化し、ソフトウェアにより二値化した後、� ��価円直径を求める。

 (2)小波構造の平均開口径
 高分解能走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて支� �体の表面を真上から倍率50000倍で撮影し、得 られたSEM写真において小波構造のピット(小� �ピット)を少なくとも50個抽出し、その直径� �読み取って開口径とし、平均開口径を算出� �る。

 (3)小波構造の開口径に対する深さの比の平� ��
 小波構造の開口径に対する深さの比の平均� ��、高分解能SEMを用いて支持体の破断面を倍� ��50000倍で撮影し、得られたSEM写真において� �波ピットを少なくとも20個抽出し、開口径と 深さとを読み取って比を求めて平均値を算出 する。

 (4)大波構造の平均波長
 触針式粗さ計で2次元粗さ測定を行い、ISO428 7に規定されている平均山間隔Smを5回測定し� �その平均値を平均波長とする。

 《上層のアルカリ可溶性樹脂》
 (変性フェノール樹脂)
 本発明において、感光層上層(以下単に、上 層ともいう)のアルカリ可溶性樹脂として用� �られる、本発明に係る一般式(1)で表される� �造単位とフェノール性水酸基とを有する樹� �(以下、本発明に係る変性フェノール樹脂、� ��いは単に、変性フェノール樹脂、とも言う� ��)について説明する。本発明に用いられる変 性フェノール樹脂は、前記一般式(1)で表され る構造単位とフェノール性水酸基とを有する ことを特徴とする。

 一般式(1)中、R ¹ は、水素原子、または任意の置換基を表す。 ここで言う任意の置換基とは、後述する「-X- R ² 」の構造に起因する本発明の効果を損なわな い限り、どのような置換基であってもよく、 また、1つのベンゼン環に対して複数個存在� �ていてもよい。具体的には、アルキル基、� �ルケニル基、アルキニル基、アリール基、� �リル基等が挙げられるが、これらに限定さ� �るものではない。本発明において、R ¹ として、アルキル基が好ましく、用いられる 。

 Xは、2価の連結基を表し、好ましくは、� �記式からなる群より選ばれる部分構造を、� �なくとも1つ有する2価の連結基を表す。ここ で「部分構造を少なくとも1つ有する」とは� �Xで表される連結基が、(1)下記部分構造のい� ��れか1つのみからなるものであってもよく、 (2)下記部分構造を複数個連結させた連結基で あってもよく、或いは、(3)上記(1)又は(2)の連 結基と他の炭化水素基等とを連結させた連結 基であってもよい。なお、上記(2)においては 、複数存在する部分構造のそれぞれが、同種 であっても異種であってもよく、連結の順序 についても任意である。また、下記部分構造 の表記は、連結基の連結方向を規定するもの ではない。

 上記連結基のより好ましい例としては、ア� ��ド、スルホンアミド、ウレア、ウレタン、� ��オウレア、カルボニル、カルボン酸エステ� ��(-CO-O-)、スルホニル、スルホン酸エステル(- SO ₂ -O-)等を含むものが挙げられ、具体的には、� �下に示す構造が挙げられるが、本発明はこ� �らに限定されるものではない。また、下記� �分構造の表記は、連結基の連結方向を規定� �るものではない。

 また、R ² は、非共有電子対結合部位と水素結合可能な 水素原子とを有し、熱的に可逆な2以上の水� �結合を形成しうる1価の置換基を表す。

 ここで、非共有電子対結合部位とは、後� ��の水素結合可能な水素原子と水素結合を形� ��しうる部位を指し、具体的には、=O、=N-、=S 、=P-、などが挙げられ、中でも、水素原子と より強い水素結合を形成する観点からは、=O� ��=N-が好ましい。

 また、水素結合可能な水素原子とは、上� ��非共有電子対結合部位と水素結合しうる活� ��状態の水素原子を指し、具体的には、窒素� ��子と共有結合している水素原子、酸素原子� ��共有結合している水素原子、硫黄原子と共� ��結合している水素原子、リン原子と共有結� ��している水素原子、などが挙げられ、中で� ��、上記非共有電子対結合部位とより強い水� ��結合を形成する観点からは、窒素原子と共� ��結合している水素原子、酸素原子と共有結� ��している水素原子が好ましい。

 R ² の具体的な構造としては、下記一般式(R-1)~(R- 7)に示すような構造を挙げることができる。� ��こで、R ⁴ 、R ⁵ 、R ⁶ 、R ⁷ は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭化 水素基を表し、Yは炭化水素連結基を表す。

 本発明においては、変性フェノール樹脂を� ��いて形成された膜中において、主に、上記� ��共有電子対結合部位と水素結合可能な水素� ��子とが熱的に可逆な水素結合を形成する。� ��こで、該水素結合は、同一の置換基中の部� ��同士で形成されるのではなく、膜中に存在� ��る別の特定置換基との間に形成される。以� ��、後述する変性フェノール樹脂の具体例(A)� ��特定置換基(R ² で表される置換基)を例に挙げて、上記結合� �具体的に説明する。

 上記反応式1において、非共有電子対結合 部位に該当する部位は、(=O)および(=N-)であり 、水素結合可能な水素原子に該当する水素原 子は、(>N-H)の(-H)である。反応式1の特定置� ��基は、非共有電子対結合部位と水素結合可� ��な水素原子とをそれぞれ2つずつ持っている ため、水素結合が、計4つ形成される。なお� �本発明においては、水素結合が2つ以上形成� ��れればよいので、一つの特定置換基中に、� ��共有電子対結合部位と水素結合可能な水素� ��子とをそれぞれ1つ以上有していればよいこ とになる。

 このように、本発明に係るR ² で表される特定置換基は、他の特定置換基と の間に2以上の水素結合が形成されるため、� �子の回転運動が起こらない安定した相互作� �が形成され、優れた耐薬品性の向上効果が� �られるものと考えられる。なお、この水素� �合は、熱的に可逆であるため、本発明の感� �性組成物を平版印刷版材料の感光層として� �いた場合、画像形成時のレーザー露光等で� �易に解除され、現像により露光部(非画像部) が除去される。

 本発明に係る変性フェノール樹脂として� ��、前記一般式(1)で表される構造単位に加え� ��分子内にフェノール性水酸基を有するもの� ��あればいずれも使用することができる。中� ��も、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリ� ��ドロキシスチレン樹脂等に、前記一般式(1)� ��表される構造単位を導入したものが好まし� ��。

 特に、以下の如き、前記一般式(1)で表さ� ��る構造単位と、一般式(2)で表される構造単� ��とから構成される樹脂であることが最も好� ��しい。

 一般式(2)におけるR ³ はそれぞれ独立して、水素原子、又は任意の 置換基を表す。
ここで、任意の置換基とは、前記一般式(1)に おけるR ¹ と同義であり、また、一つのベンゼン環に対 して複数個存在していてもよい。

 前記一般式(1)で表される構造単位(構造単 位(1))、及び前記一般式(2)で表される構造単� �(構造単位(2))の共重合比としては、耐薬品性 、及び、感度の観点から、構造単位(1):構造� �位(2)が1:99~95:5の範囲であることが好ましく� �2:98~90:10の範囲であることがより好ましく、3 :97~80:20の範囲であることが最も好ましい。

 また、変性フェノール樹脂は、構造単位( 1)、構造単位(2)以外の共重合成分を有してい� ��もよい。

 以下に、本発明に係る変性フェノール樹� ��の構造単位の具体例を示すが、本発明はこ� ��らに限定されるものではない。

 (合成方法)
 本発明に係る特定フェノール樹脂の合成方� ��は特に限定されるものではないが、例えば� ��水酸基の一部を特定置換基に置換するため� ��フェノール樹脂を、溶媒中で、Sn金属を触� �として、イソシアネート基と共に反応(求核� ��加反応)させて、ウレタン結合を形成するこ とにより製造することができる。

 水酸基の一部を特定置換基に置換するた� ��のノボラック型フェノール樹脂のフェノキ� ��ドと、イソシアネート基含有化合物との求� ��付加反応は、以下のように行うことができ� ��。

 即ち、水酸基の一部を特定官能基に置換� ��るためのノボラック型フェノール樹脂の総� ��量を、濃度20~80質量%(好ましくは30~70質量%)� �なるよう溶媒に溶解し、これに当該ノボラ� �ク型フェノール樹脂が有する水酸基の総モ� �数に対して、イソシアネート基含有化合物� �そのモル比率が特定官能基に置換したいモ� �比率になるように加え、更にSn金属を触媒と してイソシアネート基含有化合物のモル数に 対するモル比率が0.5~5.0%(好ましくは1.0~2.5)に� ��るように10℃~200℃の範囲の温度条件下で加� ��、その温度範囲に維持しながら数時間撹拌� ��ることにより行うことができる。なお、反� ��温度は、20℃~150℃の範囲であることが好ま� ��く、20℃~100℃の範囲であることがより好ま� ��い。

 このとき、上記反応に用いられる溶媒と� ��ては、例えば、クロロホルム、ジクロロメ� ��ン、ジメトルスルホキシド(DMSO)、N,N-ジメチ ルホルムアミド(DMF)、ジメチルエーテル(DME)� �テトラヒドロフラン(THF)等が挙げられ、中で も、テトラヒドロフラン(THF)を用いることが� ��ましい。

 また、上記Sn金属としては、ジブチルス� �ジラウレート(dibutyltin dilaurate)を用いること が好ましい。

 本発明に係る変性フェノール樹脂は、重� ��平均分子量が200以上、数平均分子量が200以� ��のものが好ましい。さらに好ましくは、重� ��平均分子量が500~30,000で、数平均分子量が500 ~250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平� �分子量)が1.1~10のものである。

 本発明に係る変性フェノール樹脂の含有� ��は、感度、及び、形成された皮膜の耐久性� ��観点から、感光層の全固形分に対して、40~9 9質量%であることが好ましく、45~95質量%であ� ��ことがさらに好ましく、50~90質量%であるこ� ��が最も好ましい。

 なお、本発明においては、前記変性フェ� ��ール樹脂の1種または2種以上を適宜混合し� �用いることができる。

 (アクリル樹脂)
 上層のアルカリ可溶性樹脂としては、本発� ��に係る一般式(1)で表される構造単位を有す� ��樹脂以外に、アクリル樹脂、アセタール樹� ��、ウレタン樹脂を含有してもよい。

 アクリル樹脂としては、フェノール性水� ��基を含有するアクリルアミド、メタクリル� ��ミド、アクリレート、メタクリレート、ヒ� ��ロキシスチレンから選ばれるモノマーを10� �ル%以上、50モル%以下含有する共重合体が好� ��しく用いることができる。

 その他の構成単位としては、下記構成単� ��を含む共重合体であることが好ましい。好� ��に用いられる他の構成単位としては、例え� ��、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ� ��テル類、アクリルアミド類、メタクリルア� ��ド類、ビニルエステル類、スチレン類、ア� ��リル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル� ��無水マレイン酸、マレイン酸イミド、ラク� ��ン類、等の公知のモノマーより導入される� ��成単位が挙げられる。

 用いることのできるアクリル酸エステル� ��の具体例としては、メチルアクリレート、� ��チルアクリレート、(n-またはi-)プロピルア� ��リレート、(n-、i-、sec-またはt-)ブチルアク� ��レート、アミルアクリレート、2-エチルヘ� �シルアクリレート、ドデシルアクリレート� �クロロエチルアクリレート、2-ヒドロキシエ チルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルア� ��リレート、5-ヒドロキシペンチルアクリレ� �ト、シクロヘキシルアクリレート、アリル� �クリレート、トリメチロールプロパンモノ� �クリレート、ペンタエリスリトールモノア� �リレート、グリシジルアクリレート、ベン� �ルアクリレート、メトキシベンジルアクリ� �ート、クロロベンジルアクリレート、2-(p-ヒ ドロキシフェニル)エチルアクリレート、フ� �フリルアクリレート、テトラヒドロフルフ� �ルアクリレート、フェニルアクリレート、� �ロロフェニルアクリレート、スルファモイ� �フェニルアクリレート、が挙げられる。

 メタクリル酸エステル類の具体例として� ��、メチルメタクリレート、エチルメタクリ� ��ート、(n-またはi-)プロピルメタクリレート� ��(n-、i-、sec-またはt-)ブチルメタクリレート� ��アミルメタクリレート、2-エチルヘキシル� �タクリレート、ドデシルメタクリレート、� �ロロエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエ チルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピル� ��タクリレート、5-ヒドロキシペンチルメタ� �リレート、シクロヘキシルメタクリレート� �アリルメタクリレート、トリメチロールプ� �パンモノメタクリレート、ペンタエリスリ� �ールモノメタクリレート、グリシジルメタ� �リレート、メトキシベンジルメタクリレー� �、クロロベンジルメタクリレート、2-(p-ヒド ロキシフェニル)エチルメタクリレート、フ� �フリルメタクリレート、テトラヒドロフル� �リルメタクリレート、フェニルメタクリレ� �ト、クロロフェニルメタクリレート、スル� �ァモイルフェニルメタクリレート等が挙げ� �れる。

 アクリルアミド類の具体例としては、ア� ��リルアミド、N-メチルアクリルアミド、N-エ チルアクリルアミド、N-プロピルアクリルア� ��ド、N-ブチルアクリルアミド、N-ベンジルア クリルアミド、N-ヒドロキシエチルアクリル� ��ミド、N-フェニルアクリルアミド、N-トリル アクリルアミド、N-(p-ヒドロキシフェニル)ア クリルアミド、N-(スルファモイルフェニル)� �クリルアミド、N-(フェニルスルホニル)アク� ��ルアミド、N-(トリルスルホニル)アクリルア ミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N-メチル -N-フェニルアクリルアミド、N-ヒドロキシエ� ��ル-N-メチルアクリルアミド,N-(p-トルエンス� ��ホニル)アクリルアミド等が挙げられる。

 メタクリルアミド類の具体例としては、� ��タクリルアミド、N-メチルメタクリルアミ� �、N-エチルメタクリルアミド、N-プロピルメ� ��クリルアミド、N-ブチルメタクリルアミド� �N-ベンジルメタクリルアミド、N-ヒドロキシ� ��チルメタクリルアミド、N-フェニルメタク� �ルアミド、N-トリルメタクリルアミド、N-(p-� ��ドロキシフェニル)メタクリルアミド、N-(ス ルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N- (フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N-(� ��リルスルホニル)メタクリルアミド、N,N-ジ� �チルメタクリルアミド、N-メチル-N-フェニル メタクリルアミド、N-(p-トルエンスルホニル) メタクリルアミド、N-ヒドロキシエチル-N-メ� ��ルメタクリルアミド等が挙げられる。

 ラクトン類の具体例としては、パントイ� ��ラクトン(メタ)アクリレート、α-(メタ)アク リロイル-γ-ブチロラクトン、β-(メタ)アクリ ロイル-γ-ブチロラクトンが挙げられる。

 マレイン酸イミド類の具体例としては、� ��レイミド、N-アクリロイルアクリルアミド� �N-アセチルメタクリルアミド、N-プロピオニ� ��メタクリルアミド、N-(p-クロロベンゾイル)� ��タクリルアミド等が挙げられる。

 ビニルエステル類の具体例としては、ビ� ��ルアセテート、ビニルブチレート、ビニル� ��ンゾエート等が挙げられる。

 スチレン類の具体例としては、スチレン� ��メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリ� ��チルスチレン、エチルスチレン、プロピル� ��チレン、シクロヘキシルスチレン、クロロ� ��チルスチレン、トリフルオロメチルスチレ� ��、エトキシメチルスチレン、アセトキシメ� ��ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキ� ��スチレン、クロロスチレン、ジクロロスチ� ��ン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フ� ��オロスチレン、カルボキシスチレン等が挙� ��られる。

 アクリルニトリル類の具体例としては、� ��クリロニトリル、メタクリロニトリル等が� ��げられる。

 これらのモノマーのうち特に好適に使用� ��れるのは、炭素数20以下のアクリル酸エス� �ル類、メタクリル酸エステル類、アクリル� �ミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸� �メタクリル酸、アクリロニトリル類、マレ� �ン酸イミド類、下記化合物である。

 本発明では、フェノール性水酸基を含有� ��るアクリルアミド、メタクリルアミド、ア� ��リレート、メタクリレート、ヒドロキシス� ��レンから選ばれるモノマーを10モル%以上、5 0モル%以下含有する共重合体であることが好� ��しく、更に好ましくは15モル%以上、45モル%� ��下、特に好ましくは20モル%以上、40モル%以� ��である。

 これらを用いた共重合体の分子量は好ま� ��くは重量平均分子量(Mw)で2000以上であり、� �に好ましくは0.5万~10万の範囲であり、特に� �ましくは1万~5万である。上記範囲にするこ� �で感度、膜べりを調整でき、本発明の効果� �得やすくなる。一方、本発明のアクリル樹� �の重合形態は、ランダムポリマー、ブロッ� �ポリマー、グラフトポリマー等いずれでも� �いが、現像液の溶解性等を制御できる点で� �親水性基と疎水性基を相分離可能なブロッ� �ポリマーであることが好ましい。

 アクリル樹脂は、単独で用いてもあるい� ��2種類以上を混合して用いてもよい。

 (アセタール樹脂)
 本発明において、上層のアルカリ可溶性樹� ��として用いることができるポリビニルアセ� ��ール樹脂は、ポリビニルアルコールをアル� ��ヒドによりアセタール化し、さらにその残� ��ヒドロキシ基と酸無水物とを反応させる方� ��で合成することができる。ここで用いられ� ��アルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、� ��セトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、� ��チルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘ� ��シルアルデヒド、グリオキシル酸、N,N-ジメ チルホルムアミドジ-n-ブチルアセタール、ブ ロモアセトアルデヒド、クロルアセトアルデ ヒド、3-ヒドロキシ-n-ブチルアルデヒド、3-� �トキシ-n-ブチルアルデヒド、3-(ジメチルア� �ノ)-2,2-ジメチルプロピオンアルデヒド、シ� �ノアセトアルデヒド等が挙げられるがこれ� �限定されない。

 アセタール樹脂の構造としては、下記一� ��式(I)で表されるポリビニルアセタール樹脂� ��好ましい。

 上記一般式(I)で表されるポリビニルアセ� ��ール樹脂は、前記構成単位のうち、ビニル� ��セタール成分である構成単位(i)、ビニルア� ��コール成分である構成単位(ii)及び無置換の エステル成分である構成単位(iii)から形成さ� ��る。なお、n1~n3は各構成単位の構成比(モル% )を示す。

 上記構成単位(i)中、R ¹ は置換基を有していてもよいアルキル基、水 素原子、カルボキシル基、またはジメチルア ミノ基を表す。置換基としては、カルボキシ ル基、ヒドロキシル基、クロル基、ブロム基 、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、� �ルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミド� �、エステル基などが挙げられる。R ¹ の具体例としては、水素原子、メチル基、エ チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基 、カルボキシ基、ハロゲン原子(-Br、-Clなど)� ��たはシアノ基で置換されたメチル基、3-ヒ� �ロキシブチル基、3-メトキシブチル基、フェ ニル基等が挙げられ、中でも水素原子、プロ ピル基、フェニル基が特に好ましい。

 また、n1は5~85モル%の範囲であることが好 ましく、特に、25~70モル%の範囲であることが より好ましい。上記構成単位(ii)中、n2は0~60� �ル%の範囲であることが好ましく、特に10~45� �ル%の範囲であることがより好ましい。

 上記構成単位(iii)中、R ² は置換基を有さないアルキル基、カルボキシ ル基を有する脂肪族炭化水素基、脂環式炭化 水素基、または、芳香族炭化水素基を表し、 これらの炭化水素基は、炭素数1~20を表す。� �でも、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、� ��にメチル基、エチル基が現像性の観点から� ��ましい。n3は0~20モル%の範囲であることが好 ましく、特に1~10モル%の範囲であることがよ� ��好ましい。

 ポリビニルアセタール樹脂の酸含有量は� ��0.5~5.0meq/g(即ち、KOHのmg数で84~280)の範囲であ ることが好ましく、1.0~3.0meq/gであることがよ り好ましい。

 また、ポリビニルアセタール樹脂の分子� ��としては、ゲルパーミネーションクロマト� ��ラフィーにより測定した重量平均分子量で� ��約5000~40万程度であることが好ましく、約2� �~30万程度であることがより好ましい。上記� �囲にすることで膜強度、アルカリ溶解性、� �品に対する溶解性等を調整でき、本発明の� �果を得やすくなる。

 なお、これらのポリビニルアセタール樹� ��は、単独で用いても、2種以上を混合して用 いてもよい。

 ポリビニルアルコールのアセタール化は� ��公知の方法に従って行なうことができ、例� ��ば、米国特許第4665124号;米国特許第4940646号; 米国特許第5169898号;米国特許第5700619号;米国� �許第5792823号;日本特許第09328519号等に記載さ� ��ている。

 (ポリウレタン樹脂)
 本発明において、上層のアルカリ可溶性樹� ��として用いることができるポリウレタン樹� ��は、特に限定はしないが、特開平5-281718号� �報及び特開平11-352691号公報に記載のカルボ� �シル基を0.4meq/g以上含有するアルカリ現像液 可溶性のポリウレタン樹脂が好ましい。具体 的には、ジイソシアネート化合物とカルボキ シル基を有するジオール化合物との反応生成 物で表される構造単位を基本骨格とするポリ ウレタン樹脂である。ジオール化合物として は、カルボキシル基含有量の調整やポリマー 物性のコントロールのため、カルボキシル基 をもたないジオール化合物を併用することが 好ましい。

 上記ジイソシアネート化合物としては、� ��えば、2,4-トリレンジイソシアネート、2,4-� �リレンジイソシアネートの二量体、2,6-トリ� ��ンジレンジイソシアネート、p-キシリレン� �イソシアネート、m-キシリレンジイソシアネ ート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネ� �ト、1,5-ナフチレンジイソシアネート、3,3’- ジメチルビフェニル-4,4’-ジイソシアネート� ��のような芳香族ジイソシアネート化合物;ヘ キサメチレンジイソシアネート、トリメチル ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジ イソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネー ト等のような脂肪族ジイソシアネート化合物 ;イソホロンジイソシアネート、4,4’-メチレ� ��ビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メ� �ルシクロヘキサン-2,4(または2,6)ジイソシア� �ート、1,3-(イソシアネートメチル)シクロヘ� �サン等のような脂環族ジイソシアネート化� �物;1,3-ブチレングリコール1モルとトリレン� �イソシアネート2モルとの付加体等のような� ��オールとジイソシアネートとの反応物であ� ��ジイソシアネート化合物等が挙げられる。

 カルボキシル基を有するジオール化合物� ��しては、例えば、3,5-ジヒドロキシ安息香酸 、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、 2,2-ビス(2-ヒドロキシエリア)プロピオン酸、2 ,2-ビス(3-ヒドロキシプロピル)プロピオン酸� �ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4-ヒドロ キシフェニル)酢酸、2,2-ビス(ヒドロキシメチ ル)酪酸、4,4-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ペン タン酸、酒石酸、N,N-ジヒドロキシエチルグ� �シン、N,N-ビス(2-ヒドロキシエチル)-3-カルボ キシ-プロピオンアミド等が挙げられる。そ� �他のジオール化合物としては、例えば、エ� �レングリコール、ジエチレングリコール、� �リエチレングリコール、テトラエチレング� �コール、プロピレングリコール、ジプロピ� �ングリコール、ポリエチレングリコール、� �リプロピレングリコール、ネオペンチルグ� �コール、1,3-ブチレングリコール、1,6-ヘキサ ンジオール、2-ブテン-1,4-ジオール、2,2,4-ト� �メチル-1,3-ペンタンジオール、1,4-ビス-β-ヒ� ��ロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘ� ��サンジメタノール、トリシクロデカンジメ� ��ノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフ ェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキ� ��イド付加体、ビスフェノールAのプロピレン オキサイド付加体、ビスフェノールFのエチ� �ンオキサイド付加体、ビスフェノールFのプ� ��ピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノ� ��ルAのエチレンオキサイド付加体、水添ビス フェノールAのプロピレンオキサイド付加体� �ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル� �p-キシリレングリコール、ジヒドロキシエチ ルスルホン、ビス(2-ヒドロキシエチル)-2,4-ト リレンジカルバメート、2,4-トリレン-ビス(2-� ��ドロキシエチルカルバミド)、ビス(2-ヒドロ キシエチル)-m-キシリレンジカルバメート、� �ス(2-ヒドロキシエチル)イソフタレート等が� ��げられる。

 好適なポリウレタン樹脂としては、上記� ��他に、テトラカルボン酸2無水物をジオール 化合物で開環させた化合物から由来される構 造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂が 挙げられる。構造単位をポリウレタン樹脂中 に導入する方法としては、例えば、a)テトラ� ��ルボン酸二無水物をジオール化合物で開環� ��せて得られたアルコール末端の化合物と、� ��イソシアネート化合物とを反応させる方法� ��b)ジイソシアネート化合物をジオール化合� �過剰の条件下で反応させ得られたアルコー� �末端のウレタン化合物と、テトラカルボン� �二無水物とを反応させる方法などがある。

 ポリウレタン樹脂の分子量は、好ましく� ��質量平均で1000以上であり、さらに好ましく は5000~50万の範囲である。

 《下層のアルカリ可溶性樹脂》
 本発明で感光層下層(以下単に、下層ともい う)で使用できるアルカリ可溶性樹脂は、上� �上層で使用できるものを便宜選択して使用� �ることができる。下層の構成としては以下� �5つの構成のいずれかが好ましい。

 (1)ノボラック樹脂、(2)ノボラック樹脂+ア クリル樹脂、(3)ノボラック樹脂+アセタール� �脂、(4)アクリル樹脂、(5)アセタール樹脂。

 下層で使用するノボラック樹脂としては� ��アルカリ溶解性、現像ラチチュード等が求� ��られるので、重量平均分子量は上層より比� ��的低め1000~5000が好ましい。なお、本発明に� ��ける重量平均分子量は、ノボラック樹脂の� ��分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミ� ��ーションクロマトグラフ(GPC)法により求め� �ポリスチレン換算の値を採用している。ま� �ノボラック樹脂の添加量は、高感度、現像� �等の観点から1~70質量%であることが好ましく 、3~50質量%であることが好ましい。

 《光熱変換剤》
 下記は、以下のようでよろしいでしょうか� ��

 本発明に係る上層は、光熱変換剤を含有� ��ることが好ましい。光熱変換剤は、700以上� ��好ましくは750~1200nmの赤外域に光吸収域があ り、この波長の範囲の光において、光/熱変� �能を発現するものを指し、具体的には、こ� �波長域の光を吸収し熱を発生する種々の染� �、もしくは顔料を用いる事ができる。

 (染料)
 染料としては、市販の染料および文献(例え ば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和 45年刊)に記載されている公知のものが利用で きる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ 染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン 染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染 料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニ ン染料などの染料が挙げられる。本発明にお いて、これらの顔料、もしくは染料のうち赤 外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、 赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザで の利用に適する点で特に好ましい。

 そのような赤外光、もしくは近赤外光を� ��収する染料としては例えば特開昭58-125246号� ��特開昭59-84356号、特開昭59-202829号、特開昭60 -78787号等に記載されているシアニン染料、特 開昭58-173696号、特開昭58-181690号、特開昭58-194 595号等に記載されているメチン染料、特開昭 58-112793号、特開昭58-224793号、特開昭59-48187号� ��特開昭59-73996号、特開昭60-52940号、特開昭60- 63744号等に記載されているナフトキノン染料� ��特開昭58-112792号等に記載されているスクワ� ��リウム色素、英国特許434,875号記載のシアニ ン染料等を挙げることができる。また、染料 として米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収 増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第 3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(� �オ)ピリリウム塩、特開昭57-142645号(米国特許 第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウ� �塩、特開昭58-181051号、同58-220143号、同59-41363 号、同59-84248号、同59-84249号、同59-146063号、� �59-146061号に記載されているピリリウム系化� �物、特開昭59-216146号記載のシアニン色素、� �国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチ� �ピリリウム塩等や特公平5-13514号、同5-19702号 公報に開示されているピリリウム化合物、Epo light III-178、Epolight III-130、Epolight III-125等は 特に好ましく用いられる。

 これらの染料のうち特に好ましいものと� ��ては、シアニン染料、フタロシアニン染料� ��オキソノール染料、スクアリリウム染料、� ��リリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケ� ��チオレート錯体が挙げられる。さらに、下� ��一般式(a)で示されるシアニン染料は、本発� ��に係る画像形成材料で使用した場合に、ア� ��カリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、� ��つ、安定性、経済性に優れるため最も好ま� ��い。

 一般式(a)中、X ¹ は、水素原子、ハロゲン原子、-NPh ₂ 、X ² -L ¹ 又は下記一般式(b)で表される基を表す。ここ で、X ² は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L ¹ は、炭素原子数1~12の炭化水素基、ヘテロ原� �を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素� �子数1~12の炭化水素基を示す。なお、ここで� ��テロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Se� �示す。
一般式(b)

 上記式中、Xa ^- は、後述するZa ^- と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキ� ��基、アリール基、置換又は無置換のアミノ� ��、ハロゲン原子より選択される置換基を表� ��。R ¹ 及びR ² は、それぞれ独立に、炭素原子数1~12の炭化� �素基を示す。記録層塗布液の保存安定性か� �、R ¹ 及びR ² は、炭素原子数2個以上の炭化水素基である� �とが好ましく、さらに、R ¹ とR ² とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成し� ��いることが特に好ましい。

 Ar ¹ 、Ar ² は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、 置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基 を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては 、フェニル基及びナフチル基が挙げられる。 また、好ましい置換基としては、炭素原子数 12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素� ��子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる� �Y ¹ 、Y ² は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、 硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキ� ��メチレン基を示す。R ³ 、R ⁴ は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、 置換基を有していてもよい炭素原子数20個以� ��の炭化水素基を示す。好ましい置換基とし� ��は、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、� �ルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R ⁵ 、R ⁶ 、R ⁷ 及びR ⁸ は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、 水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素� ��を示す。原料の入手性から、好ましくは水� ��原子である。また、Za ^- は、対アニオンを示す。但し、一般式(a)で示 されるシアニン色素が、その構造内にアニオ ン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない 場合にはZa ^- は必要ない。好ましいZa ^- は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲ ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロ ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェー トイオン、及びスルホン酸イオンであり、特 に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフル オロフォスフェートイオン、及びアリールス ルホン酸イオンである。

 好適に用いることのできる一般式(a)で示� ��れるシアニン染料の具体例としては、以下� ��例示するものの他、特開2001-133969号公報の� �落番号[0017]~[0019]、特開2002-40638号公報の段落 番号[0012]~[0038]、特開2002-23360号公報の段落番� ��[0012]~[0023]に記載されたものを挙げることが できる。

 赤外線吸収染料は、感度、耐薬品性、耐� ��性の観点から、上層を構成する全固形分に� ��し0.01~30質量%、好ましくは0.1~10質量%、特に� ��ましくは0.1~7質量%の割合で添加することが� ��きる。

 (顔料)
 顔料としては、市販の顔料およびカラーイ� ��デックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本 顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用� ��術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術� ��(CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が� ��用できる。

 顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔� ��、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、� ��色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、� ��属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙� ��られる。具体的には、不溶性アゾ顔料、ア� ��レーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ� ��料、フタロシアニン系顔料、アントラキノ� ��系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、� ��オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、� ��オキサジン系顔料、イソインドリノン系顔� ��、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料� ��アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、� ��然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ� ��ック等が使用できる。

 顔料の粒径は0.01μm~5μmの範囲にあること� ��好ましく、0.03μm~1μmの範囲にあることがさ� ��に好ましく、特に0.05μm~0.5μmの範囲にある� �とが好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のと� ��は分散物の感光層塗布液中での安定性の点� ��好ましくなく、また、5μmを越えると感光層 の均一性の点で好ましくない。顔料を分散す る方法としては、インク製造やトナー製造等 に用いられる公知の分散技術が使用できる。 分散機としては、超音波分散器、サンドミル 、アトライター、パールミル、スーパーミル 、ボールミル、インペラー、ディスパーザー 、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本 ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。 詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986� ��刊)に記載がある。

 顔料は、感度、感光層の均一性及び耐久� ��の観点から、上層を構成する全固形分に対� ��0.01~10質量%、好ましくは0.1~5質量%の割合で� �加することができる。

 また感度向上のために顔料を下層に添加� ��ることができる.また顔料は染料と異なり,� �ルカリ可溶性樹脂との相互作用が小さいた� �,下層に添加しても現像ラチチュードの劣化� ��く,感度向上が図れるので,好ましい.下層に� ��加できる顔料種は上述の顔料が使用できる. また下層に添加できる顔料量は,感度、膜物� �の観点から、下層を構成する全固形分に対� �0.1~50質量%、好ましくは1~20質量%の割合で添� �することが好ましい。

 《酸分解化合物》
 本発明に係る酸分解化合物について述べる� ��

 本発明に係る感光層下層は、酸分解化合� ��を含有することが好ましい。酸分解化合物� ��しては、アセタール、ケタール基を少なく� ��も一つ以上有する酸により分解し得る結合� ��有する化合物が好ましい。

 アセタール、ケタール基を少なくとも一� ��以上有する化合物は、特願昭61-155481号に記� ��されている化合物が用いられ、さらに他の� ��分解化合物を用いる事も可能である。その� ��合物としては、特開昭48-89003号、同51-120714� �、同53-133429号、同55-12995号、同55-126236号、同 56-17345号に記載されているC-O-C結合を有する� �合物、特開昭60-37549号、同60-121446号に記載さ れているSi-O-C結合を有する化合物、特開昭60- 3625号、同60-10247号各公報に記載されているそ の他の酸分解化合物が挙げられ、更に特願昭 61-16687号に記載されているSi-N結合を有する化 合物、特願昭61-94603号に記載されている炭酸� ��ステル、特願昭60-251744号に記載されている� ��ルト炭酸エステル、特願昭61-125473号に記載� ��れているオルトチタン酸エステル、特願昭6 1-125474号に記載されているオルトケイ酸エス� ��ル、特願昭61-87769号に記載されているC-S結� �を有する化合物、特開2005-91802号に記載のフ� ��ノールフタレイン、クレゾールフタレイン� ��フェノールスルホフタレインを熱または酸� ��解基で保護した化合物などが挙げられる。

 アセタール、ケタール基を少なくとも一� ��以上有する化合物の好ましいものとしては� ��前記本発明に係る一般式(4)または一般式(5)� ��表される化合物が挙げられる。

 式中、nは2~30の整数を表す。

 一般式(4)で表される化合物において、現� ��ラチチュードの面から、重量平均分子量は3 00~5000が好ましく、より好ましくは500~2500であ る。

 式中、R、R ₁ 及びR ₂ は、各々独立に、水素原子、炭素原子数1~5の アルキル基、炭素原子数1~5のアルコキシ基、 スルホ基、カルボキシル基又はヒドロキシル 基を表し、p、q及びrは、各々独立に、1~3の整 数を表し、m及びlは、各々独立に、1~5の整数� ��表す。

 R、R ¹ 及びR ² が表すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、 例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イ ソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル基、ペ� ��チル基等が挙げられ、アルコキシ基として� ��例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキ� ��基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、tert-� �トキシ基、ペントキシ基等が挙げられ、ス� �ホ基及びカルボキシル基はその塩を包含す� �。一般式で表される化合物のうち、m及びnが 1又は2である化合物が特に好ましい。

 一般式(4)または一般式(5)で表される化合� ��は公知の方法で合成することができる。

 一般式(4)で表される化合物の具体例とし� ��は、nが2~30のものが挙げられる。

 一般式(5)で表される化合物の具体例とし� ��は、以下のものが挙げられる。

 本発明において、酸分解化合物の含有量� ��、下層を形成する組成物の全固形分に対し� ��0.5~50質量%が好ましく、特に好ましくは1~30� �量%である。

 酸分解化合物は1種を用いてもよいし、2� �以上を混合して用いてもよい。

 (酸発生剤)
 本発明では上層および下層から選ばれる少� ��くとも1層に酸発生剤として下記一般式(2)で 表されるポリハロゲン有機化合物を含有する 。

 本発明では下層に本発明に係る一般式(2)� ��表されるポリハロゲン有機化合物を酸発生� ��として含有することが好ましい。

 一般式(2)  R ₃ -C(A) ₂ -(C=O)-R ₄
 一般式(2)中、R ₃ は、1価の置換基を表す。Aはハロゲン原子を� ��す。R ₄ は、1価の置換基を表す。)
 本発明においては、一般式(2)で表されるポ� ��ハロゲン有機化合物が下記一般式(3)で表さ� ��るポリハロゲン有機化合物であることがさ� ��に好ましい。

 一般式(3)  R ₅ -C(B) ₂ -(C=O)-Z-R ₆
 一般式(3)中、R ₅ は、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基、 オキシカルボニル基、アルキルスルホニル基 、アリールスルホニル基またはイミノスルホ ニル基を表す。Zは、-O-、-NR ₇ -、-S-、を表す。R ₇ は、水素原子またはアルキル基を表す。R ₆ は水素原子または一価の置換基を表す。R ₆ とR ₇ は結合して環を形成してもよい。R ₅ とR ₆ が結合して環を形成してよい。Bは塩素原子� �たは臭素原子を表す。

 これらの中でも特にアセチルアミノ基を� ��するものが好ましく用いられる。

 一般式(2)で表される構造の具体的として� ��下記BR1~BR63(特開2006-58419号に記載)の化合物� �挙げられる。

 尚、これらの化合物はハロゲン原子を臭� ��から塩素に置き換えた化合物も本発明にお� ��ては好適に用いることができる。本発明に� ��ましく用いられる、ポリハロゲン有機化合� ��の具体例を以下に挙げる。

 これらの酸発生剤の含有量は、下層の組� ��物全固形分に対して、現像ラチチュード、� ��存性の面から通常0.1~30質量%、より好ましく は1~15質量%である。

 酸発生剤は1種を用いてもよいし、2種以� �を混合して用いてもよい。

 《可視画剤》
 本発明の平版印刷版材料の感光層は、可視� ��剤として染料を含有してもよい。塩形成性� ��機染料を含めて、好適な染料として油溶性� ��料と塩基性染料を挙げることができる。特� ��フリーラジカル又は酸と反応して色調が変� ��するものが好ましく使用できる。「色調が� ��化する」とは、無色から有色の色調への変� ��、有色から無色或いは異なる有色の色調へ� ��変化の何れをも包含する。好ましい染料は� ��と塩を形成して色調を変化するものである� ��

 例えば、ビクトリアピュアブルーBOH(保土 谷化学社製)、オイルブルー#603(オリエント化 学工業社製)、パテントピュアブルー(住友三� ��化学社製)、クリスタルバイオレット、ブリ リアントグリーン、エチルバイオレット、メ チルバイオレット、メチルグリーン、エリス ロシンB、ペイシックフクシン、マラカイト� �リーン、オイルレッド、m-クレゾールパープ ル、ローダミンB、オーラミン、4-p-ジエチル� ��ミノフェニルイミノナフトキノン、シアノ- p-ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等� ��代表されるトリフェニルメタン系、ジフェ� ��ルメタン系、オキサジン系、キサンテン系� ��イミノナフトキノン系、アゾメチン系又は� ��ントラキノン系の色素が有色から無色或い� ��異なる有色の色調へ変化する変色剤の例と� ��て挙げられる。

 一方、無色から有色に変化する変色剤と� ��ては、ロイコ色素及び例えば、トリフェニ� ��アミン、ジフェニルアミン、o-クロロアニ� �ン、1,2,3-トリフェニルグアニジン、ナフチ� �アミン、ジアミノジフェニルメタン、p,p″-� ��ス-ジメチルアミノジフェニルアミン、1,2-� �アニリノエチレン、p,p″,p′-トリス-ジメチ� ��アミノトリフェニルメタン、p,p″-ビス-ジ� �チルアミノジフェニルメチルイミン、p,p″,p ′-トリアミノ-o-メチルトリフェニルメタン� �p,p″-ビス-ジメチルアミノジフェニル-4-アニ リノナフチルメタン、p,p″,p′-トリアミノト リフェニルメタンに代表される第1級又は第2� ��アリールアミン系色素が挙げられる。これ� ��の化合物は、単独或いは2種以上混合して使 用できる。尚、特に好ましい色素はビクトリ アピュアブルーBOH、オイルブルー#603である� �

 これらの可視画剤は、組成物の全固形分� ��対し、0.01~10質量%、好ましくは0.1~3質量%の� �合で感光層下層中に添加することができる� �

 《現像促進剤》
 感光層上層または下層は、必要に応じて溶� ��性を向上させる目的で低分子量の酸性基を� ��する化合物を含んでもよい。酸性基として� ��、チオール基、フェノール性水酸基、スル� ��ンアミド基、活性メチレン基等のpKa値が7~11 までの酸性基を挙げることができる。添加量 として好ましいのは、組成物中に占める割合 が0.05~5質量%、より好ましくは0.1~3質量%であ� �。5%より多いと各層の現像液に対する溶解性 が増加してしまう傾向があり、好ましくない 。

 《現像抑制剤》
 感光層上層または下層は溶解性を調節する� ��的で種々の溶解抑制剤を含んでもよい。溶� ��抑制剤としては、特開平11-119418公報に示さ� ��るようなジスルホン化合物又はスルホン化� ��物が好適に用いられ、具体例として、4,4’- ビスヒドロキシフェニルスルホンを用いるこ とが好ましい。添加量として好ましいのは、 それぞれ組成物中に占める割合が0.05~20質量%� ��より好ましくは0.5~10質量%である。

 また感光層上層または下層は溶解抑制能� ��高める目的で、現像抑制剤を含有すること� ��できる。現像抑制剤としては、前記アルカ� ��可溶性樹脂と相互作用を形成し、未露光部� ��おいては該アルカリ可溶性樹脂の現像液に� ��する溶解性を実質的に低下させ、且つ、露� ��部においては該相互作用が弱まり、現像液� ��対して可溶となり得るものであれば特に限� ��はされないが、特に4級アンモニウム塩、ポ リエチレングリコール系化合物等が好ましく 用いられる。

 4級アンモニウム塩としては、特に限定さ れないが、テトラアルキルアンモニウム塩、 トリアルキルアリールアンモニウム塩、ジア ルキルジアリールアンモニウム塩、アルキル トリアリールアンモニウム塩、テトラアリー ルアンモニウム塩、環状アンモニウム塩、二 環状アンモニウム塩が挙げられる。4級アン� �ニウム塩の添加量は上層全固形分に対して0. 1~50質量%であることが好ましく、1~30質量%で� �ることがより好ましい。

 また、ポリエチレングリコール化合物と� ��ては、特に限定されないが、下記一般式(4)� ��表される構造のものが挙げられる。

   R ₁ -{-O-(R ₃ -O-) _m -R ₂ } _n ・・・一般式(4)
 上記一般式(4)中、R ₁ は多価アルコール残基又は多価フェノール残 基を表し、R ₂ は水素原子、置換基を有していても良い炭素 原子数1~25のアルキル基、アルケニル基、ア� �キニル基、アルキロイル基、アリール基又� �アリーロイル基を表す。R ₃ は置換基を有しても良いアルキレン残基を表 し、mは平均で10以上、nは1以上4以下の整数を 表す。

 上記一般式(4)で表されるポリエチレング� ��コール化合物の例としては、ポリエチレン� ��リコール類、ポリプロピレングリコール類� ��ポリエチレングリコールアルキルエーテル� ��、ポリプロピレングリコールアルキルエー� ��ル類、ポリエチレングリコールアリールエ� ��テル類、ポリプロピレングリコールアリー� ��エーテル類、ポリエチレングリコールアル� ��ルアリールエーテル類、ポリプロピレング� ��コールアルキルアリールエーテル類、ポリ� ��チレングリコールグリセリンエステル、ポ� ��プロピレングリコールグリセリンエステル� ��、ポリエチレンソルビトールエステル類、� ��リプロピレングリコールソルビトールエス� ��ル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エス� ��ル類、ポリプロピレングリコール脂肪酸エ� ��テル類、ポリエチレングリコール化エチレ� ��ジアミン類、ポリプロピレングリコール化� ��チレンジアミン類、ポリエチレングリコー� ��化ジエチレントリアミン類、ポリプロピレ� ��グリコール化ジエチレントリアミン類が挙� ��られる。ポリエチレングリコール系化合物� ��添加量は上層全固形分に対して0.1~50質量%で あることが好ましく、1~30質量%であることが� ��り好ましい。

 《感度向上剤》
 感光層上層または下層は感度を向上させる� ��的で、環状酸無水物類、フェノール類、有� ��酸類を含有することもできる。

 環状酸無水物としては米国特許第4,115,128� ��明細書に記載されている無水フタル酸、テ� ��ラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水� ��タル酸、3,6-エンドオキシ-δ4-テトラヒドロ� ��水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、� ��水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α-� ��ェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無� ��ピロメリット酸などが使用できる。

 フェノール類としては、ビスフェノールA 、p-ニトロフェノール、p-エトキシフェノー� �、2,4,4″-トリヒドロキシベンゾフェノン、2, 3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、4-ヒドロ キシベンゾフェノン、4,4″,4′-トリヒドロキ シトリフェニルメタン、4,4″,3′,4′-テトラ� ��ドロキシ-3,5,3″,5″-テトラメチルトリフェ� ��ルメタンなどが挙げられる。

 更に、有機酸類としては、特開昭60-88942� �公報、特開平2-96755号公報などに記載されて� ��る、スルホン酸類、スルフィン酸類、アル� ��ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル� ��及びカルボン酸類などがあり、具体的には� ��p-トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼン� �ルホン酸、ナフタレンスルホン酸、p-トルエ ンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホス ホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェ ニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフ タル酸、アジピン酸、p-トルイル酸、3,4-ジメ トキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、 4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸、エルカ� �、ラウリン酸、n-ウンデカン酸、アスコルビ ン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物 、フェノール類及び有機酸類の組成物中に占 める割合は、0.05~20質量%が好ましく、より好� ��しくは0.1~15質量%、特に好ましくは0.1~10質量 %である。

 また特開2005-99298号に記載のトリフルオロ メチル基が少なくとも1つα位に置換したアル コール化合物も使用できる.この化合物は、� �リフルオロメチル基の電子吸引効果により� �α位の水酸基の酸性度が向上し、アルカリ現 像液に対する溶解性を向上させる作用を示す 。

 《塩基性分解剤》
 感光層上層または下層は塩基の作用により� ��解し、新たに塩基性分子を発生する化合物� ��含んでも良い。塩基の作用により分解し、� ��たに塩基性分子を発生する化合物は、塩基� ��存在下、好ましくは加熱条件で塩基を発生� ��る化合物である。発生した塩基により、再� ��塩基を発生する。従って連鎖的に塩基発生� ��進行する。このような化合物としては、Proc .ACS.Polym.Mater.Sci.Eng.,vol.81,93(1999)、Angew.Chem.Int.E d.,vol.39,3245(2000)に記載された化合物を例示す� ��ことができる。好ましくは特開2004-151138号� �載の一般式(I)~(IV)で表される化合物が挙げら れる。

 《バックコート層》
 本発明の平版印刷版材料には、両面に陽極� ��化皮膜が設けられた後、支持体の裏面に、� ��像処理でのアルミニウムの陽極酸化皮膜の� ��出を抑えるために、バックコート層が設け� ��もよい。

 《塗布乾燥》
 本発明の平版印刷版材料の上層および下層� ��、通常上記各成分を溶媒に溶かし感光層塗� ��液を調製して、感光層塗布液をアルミニウ� ��支持体上に順次塗布することにより形成す� ��ことができる。ここで使用する溶媒として� ��下記の塗布溶剤が使用できる。これらの溶� ��は単独あるいは混合して使用される。

 (塗布溶剤)
 例えばn-プロパノール、イソプロピルアル� �ール、n-ブタノール、sec-ブタノール、イソ� �タノール、2-メチル-1-ブタノール、3-メチル- 1-ブタノール、2-メチル-2-ブタノール、2-エチ ル-1-ブタノール、1-ペンタノール、2-ペンタ� �ール、3-ペンタノール、n-ヘキサノール、2-� �キサノール、シクロヘキサノール、メチル� �クロヘキサノール、1-ヘプタノール、2-ヘプ� ��ノール、3-ヘプタノール、1-オクタノール、 4-メチル-2-ペンタノール、2-ヘキシルアルコ� �ル、ベンジルアルコール、エチレングリコ� �ル、ジエチレングリコール、トリエチレン� �リコール、テトラエチレングリコール、1,3-� ��ロパンジオール、1,5-ペンタングリコール、 ジメチルトリグリコール、フリフリルアルコ ール、ヘキシレングリコール、ヘキシルエー テル、3-メトキシ-1-ブタノール、3-メトキシ-3 -メチルブタノール、ブチルフェニルエーテ� �、エチレングリコールモノアセテート、プ� �ピレングリコールモノメチルエーテル、プ� �ピレングリコールモノエチルエーテル、プ� �ピレングリコールモノプロピルエーテル、� �ロピレングリコールモノブチルエーテル、� �ロピレングリコールフェニルエーテル、ジ� �ロピレングリコールモノメチルエーテル、� �プロピレングリコールモノエチルエーテル� �ジプロピレングリコールモノプロピルエー� �ル、ジプロピレングリコールモノブチルエ� �テル、トリプロピレングリコールモノメチ� �エーテル、メチルカルビトール、エチルカ� �ビトール、エチルカルビトールアセテート� �ブチルカルビトール、トリエチレングリコ� �ルモノメチルエーテル、トリエチレングリ� �ールモノエチルエーテル、テトラエチレン� �リコールジメチルエーテル、ジアセトンア� �コール、アセトフェノン、シクロヘキサノ� �、メチルシクロヘキサノン、アセトニルア� �トン、イソホロン、乳酸メチル、乳酸エチ� �、乳酸ブチル、炭酸プロピレン、酢酸フェ� �ル、酢酸-sec-ブチル、酢酸シクロヘキシル、 シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル、安息香 酸エチル、γ-ブチルラクトン、3-メトキシ-1-� ��タノール、4-メトキシ-1-ブタノール、3-エト キシ-1-ブタノール、3-メトキシ-3-メチル-1-ブ� ��ノール、3-メトキシ-3-エチル-1-ペンタノー� �、4-エトキシ-1-ペンタノール、5-メトキシ-1-� ��キサノール、3-ヒドロキシ-2-ブタノン、4-ヒ ドロキシ-2-ブタノン、4-ヒドロキシ-2-ペンタ� ��ン、5-ヒドロキシ-2-ペンタノン、4-ヒドロキ シ-3-ペンタノン、6-ヒドロキシ-2-ペンタノン� ��4-ヒドロキシ-3-ペンタノン、6-ヒロドキシ-2- ヘキサノン、3-メチル-3-ヒドロキシ-2-ペンタ� ��ン、メチルセルソルブ(MC)、エチルセルソル ブ(EC)等が挙げられる。

 塗布に用いる溶剤としては、上層に用い� ��アルカリ可溶性高分子と下層に用いるアル� ��リ可溶性高分子に対して溶解性の異なるも� ��を選ぶことが好ましい。つまり、下層を塗� ��した後、それに隣接して上層である感熱層� ��塗布する際、最上層の塗布溶剤として下層� ��アルカリ可溶性高分子を溶解させうる溶剤� ��用いると、層界面での混合が無視できなく� ��り、極端な場合、重層にならず均一な単一� ��になってしまう場合がある。このように、� ��接する2つの層の界面で混合が生じたり、互 いに相溶して均一層の如き挙動を示す場合、 2層を有することによる本発明の効果が損な� �れる虞があり、好ましくない。このため、� �層を塗布するのに用いる溶剤は、下層に含� �れるアルカリ可溶性高分子に対する貧溶剤� �あることが望ましい。

 上下層の層界面での混合を抑制するため� ��、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設� ��したスリットノズルより高圧エアーを吹き� ��けることや、蒸気等の加熱媒体を内部に供� ��されたロール(加熱ロール)よりウェブの下� �から伝導熱として熱エネルギーを与えるこ� �、あるいはそれらを組み合わせること等に� �り、二層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾� �させる方法を使用できる。

 2つの層が本発明の効果を十分に発揮する レベルにおいて層間を部分的に相溶させる方 法としては、上記溶剤溶解性の差を利用する 方法、2層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾� �させる方法何れにおいても、その程度を調� �することができる。

 各層を塗布する場合の溶媒中の上記成分(添 加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1~ 50質量%である。また塗布、乾燥後に得られる 支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって� ��なるが、上層は0.05~1.0g/m ² であり、下層は0.3~3.0g/m ² であることが好ましい。

 また、前記の2層の合計で0.5~3.0g/m ² であることが好ましい。

 調製された感光層塗布液は、従来公知の� ��法で支持体上に塗布し、乾燥し、平版印刷� ��材料を作製することができる。塗布液の塗� ��方法としては、例えばエアドクタコータ法� ��ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフ� ��ータ法、ディップコータ法、リバースロー� ��コータ法、グラビヤコータ法、キャストコ� ��ティング法、カーテンコータ法及び押し出� ��コータ法等を挙げることができる。

 感光層の乾燥温度は、60~160℃の範囲が好� ��しく、より好ましくは80~140℃、特に好まし� ��は90~120℃の範囲である。また乾燥装置に赤� ��線放射装置を設置し、乾燥効率の向上を図� ��こともできる。

 前記アルミニウム支持体上に感光層塗布� ��を塗布、乾燥した後、性能を安定させるた� ��にエージング処理を行っても良い。エージ� ��グ処理は、乾燥ゾーンと連続して実施され� ��もよく、分けて実施されてもよい。上記エ� ��ジング処理は、特開2005-17599号に記載の上層 の表面に対してOH基を有する化合物を接触さ� ��る工程として使用しても良い。エージング� ��程においては、形成された感光層の表面か� ��水に代表される極性基を有する化合物を浸� ��、拡散させることで、感光層中において水� ��仲立ちとした相互作用性の向上が生じると� ��もに、加熱による凝集力の向上を図ること� ��でき、感光層の特性を改良することができ� ��。エージング工程における温度条件は、拡� ��すべき化合物が一定量以上気化するように� ��定することが望ましく、浸透、拡散させる� ��質としては、水が代表的なものであるが、� ��子内に極性基、例えば、水酸基、カルボキ� ��ル基、ケトン基、アルデヒド基、エステル� ��などを有する化合物であれば同様に好適に� ��いることができる。このような化合物とし� ��は、好ましくは沸点が200℃以下の化合物で� ��り、更に好ましくは沸点が150℃以下の化合� ��であり、また、好ましくは沸点が50度以上� �更に好ましくは沸点が70度以上である。分子 量は150以下が好ましく、100以下が更に好まし い。

 感光層中に浸透させる物質として、水を� ��いた場合を挙げて詳細に説明する。水を浸� ��、拡散させる方法としては、高湿度雰囲気� ��に配置する方法が好ましく、高湿度雰囲気� ��しては、通常絶対湿度0.007kg/kg以上、好まし くは、0.018kg/kg以上、また好ましくは0.5kg/kg以 下、更に好ましくは0.2kg/kg以下の雰囲気で好� ��しくは10時間以上、更に好ましくは16~32時間 処理される。処理温度は、湿度を精度良く制 御することを目的として管理し、好ましくは 、30℃以上、更に好ましくは40℃以上、また� �好ましくは100℃以下、更に好ましくは80℃以 下、特に好ましくは60℃以下が採用される。� ��ージング処理を施した後の感光層中の残留� ��媒としては、8質量%以下が好ましく、6質量% 以下が更に好ましく、5質量%以下が特に好ま� ��い。また、0.05質量%以上が好ましく、0.2質� �%以上が更に好ましい。

 《界面活性剤》
 上層及び/又は下層には、塗布性を良化する ため、また、現像条件に対する処理の安定性 を広げるため、特開昭62-251740号公報や特開平 3-208514号公報に記載されているような非イオ� ��界面活性剤、特開昭59-121044号公報、特開平4 -13149号公報に記載されているような両性界面 活性剤、EP950517公報に記載されているような� ��ロキサン系化合物、特開昭62-170950号公報、� ��開平11-288093号公報、特願2001-247351に記載さ� �ているようなフッ素含有のモノマー共重合� �を添加することができる。

 非イオン界面活性剤の具体例としては、� ��ルビタントリステアレート、ソルビタンモ� ��パルミテート、ソルビタントリオレート、� ��テアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエ� ��レンノニルフェニルエーテル等が挙げられ� ��。両性活性剤の具体例としては、アルキル� ��(アミノエチル)グリシン、アルキルポリア� �ノエチルグリシン塩酸塩、2-アルキル-N-カル ボキシエチル-N-ヒドロキシエチルイミダゾリ ニウムベタインやN-テトラデシル-N,N-ベタイ� �型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工� �(株)製)等が挙げられる。

 シロキサン系化合物としては、ジメチルシ� ��キサンとポリアルキレンオキシドのブロッ� ��共重合体が好ましく、具体例として、(株)� �ッソ社製、DBE-224、DBE-621、DBE-712、DBP-732、DBP- 534、独Tego社製、Tego 
 Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シ� �コーンを挙げることができる。

 上記非イオン界面活性剤及び両性界面活� ��剤の下層或いは上層の全固形分に占める割� ��は、0.01~15質量%が好ましく、より好ましく� �0.1~5質量%、更に好ましくは0.05~0.5質量%であ� �。

 《露光現像》
 上記のようにして作製平版印刷版材料は、� ��常、像露光、現像処理を施され、平版印刷� ��として用いられる。

 像露光に用いられる光線の光源としては� ��近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源� ��好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特� ��好ましい。像露光は例えば、市販のCTP用セ� ��ターを用い、デジタル変換されたデータに� ��づいて、赤外線レーザー(830nm)で露光される 。露光された後、現像等の処理をすることに より、平版印刷版が得られる。

 製版方法に用いられる露光装置としては� ��ーザービーム方式であれば特に限定されず� ��円筒外面(アウタードラム)走査方式、円筒� �面(インナードラム)走査方式、平面(フラッ� �ベッド)走査方式の何れも用いることができ� ��が、低照度長時間露光による生産性を上げ� ��ためにマルチビーム化しやすいアウタード� ��ム方式が好ましく用いられ、特にGLV変調素� ��を備えたアウタードラム方式の露光装置が� ��ましい。

 露光工程において、GLV変調素子を備えた� ��ーザー露光記録装置を用いてマルチチャン� ��ル化することが平版印刷版の生産性を向上� ��せる上で好ましい。GLV変調素子としては、� ��ーザービームを200チャンネル以上に分割で� ��るものが好ましく、500チャンネル以上に分� ��できるものが更に好ましい。また、レーザ� ��ビーム径は、15μm以下が好ましく、10μm以下 が更に好ましい。レーザー出力は10~100Wが好� �しく、20~80Wが更に好ましい。ドラム回転数� �、20~3000rpmが好ましく、30~2000rpmが更に好まし い。

 (現像液)
 本発明の平版印刷版材料に適用できる現像� ��及び補充液は、pHが9.0~14.0の範囲、好ましく は12.0~13.5の範囲にあるものである。現像液(� �下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従� ��より知られているアルカリ水溶液が使用で� ��る。例えば、塩基としては水酸化ナトリウ� ��、同アンモニウム、同カリウム及び同リチ� ��ムが好適に用いられる。これらのアルカリ� ��は、単独もしくは二種以上を組み合わせて� ��いられる。その他として、例えば、珪酸カ� ��ウム、珪酸ナトリウム、珪酸リチウム、珪� ��アンモニウム、メタ珪酸カリウム、メタ珪� ��ナトリウム、メタ珪酸リチウム、メタ珪酸� ��ンモニウム、燐酸三カリウム、燐酸三ナト� ��ウム、燐酸三リチウム、燐酸三アンモニウ� ��、燐酸二カリウム、燐酸二ナトリウム、燐� ��二リチウム、燐酸二アンモニウム、炭酸カ� ��ウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭� ��アンモニウム、炭酸水素カリウム、炭酸水� ��ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素� ��ンモニウム、硼酸カリウム、硼酸ナトリウ� ��、硼酸リチウム、硼酸アンモニウム等があ� ��られ、予め形成された塩の形で加えられて� ��よい。この場合も、水酸化ナトリウム、同� ��ンモニウム、同カリウム及び同リチウムをp H調整に加えることができる。また、モノメ� �ルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア� �ン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、� �リエチルアミン、モノイソプロピルアミン� �ジイソプロピルアミン、トリイソプロピル� �ミン、n-ブチルアミン、モノエタノールアミ ン、ジエタノールアミン、トリエタノールア ミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソ プロパノールアミン、エチレンイミン、エチ レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ 剤も組み合わせて用いられる。もっとも好ま しいものとして珪酸カリウム及び珪酸ナトリ ウムがあげられる。珪酸塩の濃度は、SiO2濃� �換算で2~4質量%である。また、SiO2とアルカリ 金属Mのmol比(SiO2/M)が、0.25~2の範囲であること がより好ましい。

 尚、現像液とは、現像のスタート時に使� ��される未使用の液だけでなく、赤外レーザ� ��感熱性平版印刷版材の処理によって低下す� ��液の活性度を補正するために補充液が補充� ��れ、活性度が保たれた液(いわゆるランニン グ液)を含む。

 現像液及び補充液には、現像性の促進や� ��像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ� ��を高める目的で必要に応じて種々界面活性� ��や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活� ��剤としては、アニオン系、カチオン系、ノ� ��オン系及び両性界面活性剤が挙げられる。� ��面活性剤の好ましい例としては、ポリオキ� ��エチレンアルキルエーテル類、ポリオキシ� ��チレンアルキルフェニルエーテル類、ポリ� ��キシエチレンポリスチリルフェニルエーテ� ��類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ� ��ンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸� ��分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エス� ��ル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エ� ��テル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸� ��ステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、� ��リオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エ� ��テル類、ポリオキシエチレンソルビトール� ��肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコ� ��ル脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪� ��部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひ� ��し油類、ポリオキシエチレングリセリン脂� ��酸部分エステル類、ポリオキシエチレン-ポ リオキシプロピレンブロック共重合体、エチ レンジアミンのポリオキシエチレン-ポリオ� �シプロピレンブロック共重合体付加物、脂� �酸ジエタノールアミド類、N,N-ビス-2-ヒドロ� ��シアルキルアミン類、ポリオキシエチレン� ��ルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪� ��エステル、トリアルキルアミンオキシドな� ��の非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、ア� ��エチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホ� ��酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアル� ��ルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキ� ��ベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキル� ��ンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレ� ��スルホン酸塩類、アルキルジフェニルエー� ��ルスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポ� ��オキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、� ��リオキシエチレンアルキルスルホフェニル� ��ーテル塩類、N-メチル-N-オレイルタウリン� �トリウム塩、N-アルキルスルホ琥珀酸モノア ミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、 硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫 酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類 、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸 エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エ ステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフ ェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキ シエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エ ステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、 ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸 エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキル フェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチ レン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物� �、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部� ��鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマ� ��ン縮合物類などのアニオン界面活性剤、ア� ��キルアミン塩類、テトラブチルアンモニウ� ��ブロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポ� ��オキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリ� ��チレンポリアミン誘導体などのカチオン性� ��面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノ� ��ルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫� ��エステル類、イミダゾリン類などの両性界� ��活性剤が挙げられる。以上に記載の各界面� ��性剤の中で、ポリオキシエチレンとは、ポ� ��オキシメチレン、ポリオキシプロピレン、� ��リオキシブチレンなどのポリオキシアルキ� ��ンに読み替えることもでき、それらの界面� ��性剤もまた包含される。更に好ましい界面� ��性剤は、分子内にパーフルオロアルキル基� ��含有するフッ素系の界面活性剤である。こ� ��様なフッ素系界面活性剤としては、例えば� ��パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パー� ��ルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオ� ��アルキルリン酸エステルなどのアニオン型� ��パーフルオロアルキルベタインなどの両性� ��、パーフルオロアルキルトリメチルアンモ� ��ウム塩などのカチオン型及びパーフルオロ� ��ルキルアミンオキサイド、パーフルオロア� ��キルエチレンオキシド付加物、パーフルオ� ��アルキル基及び親水性基含有オリゴマー、� ��ーフルオロアルキル基及び親油性基含有オ� ��ゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性� ��及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオ� ��アルキル基及び親油性基含有ウレタンなど� ��非イオン型が挙げられる。上記の界面活性� ��は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使 用することができ、現像液中に0.001~10質量%、 より好ましくは0.01~5質量%の範囲で添加され� �。

 現像液及び補充液には、必要に応じて、� ��々現像安定化剤を用いることができる。そ� ��らの好ましい例として、特開平6-282079号公� �記載の糖アルコールのポリエチレングリコ� �ル付加物、テトラブチルアンモニウムヒド� �キシドなどのテトラアルキルアンモニウム� �、テトラブチルホスホニウムブロマイドな� �のホスホニウム塩及びジフェニルヨードニ� �ムクロライドなどのヨードニウム塩等が挙� �られる。更には、特開昭50-51324号公報記載の アニオン界面活性剤または両性界面活性剤、 また特開昭55-95946号公報記載の水溶性カチオ� ��ックポリマー、特開昭56-142528号公報に記載� ��れている水溶性の両性高分子電解質がある� ��更に、特開昭59-84241号公報のアルキレング� �コールが付加された有機ホウ素化合物、特� �昭60-111246号公報記載のポリオキシエチレン� �ポリオキシプロピレンブロック重合型の水� �性界面活性剤、特開昭60-129750号公報のポリ� �キシエチレン・ポリオキシプロピレンを置� �したアルキレンジアミン化合物、特開昭61-21 5554号公報記載の質量平均分子量300以上のポ� �エチレングリコール、特開昭63-175858号公報� �カチオン性基を有する含フッ素界面活性剤� �特開平2-39157号公報の酸またはアルコールに4 モル以上のエチレンオキシドを付加して得ら れる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、 水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられ る。

 現像液及び現像補充液には、更に必要に� ��り有機溶剤を用いることができる。用いる� ��とのできる有機溶剤としては、水に対する� ��解度が約10質量%以下のものが適しており、� ��ましくは5質量%以下のものから選ばれる。� �えば、1-フェニルエタノール、2-フェニルエ� ��ノール、3-フェニル-1-プロパノール、4-フェ ニル-1-ブタノール、4-フェニル-2-ブタノール� ��2-フェニル-1-ブタノール、2-フェノキシエタ ノール、2-ベンジルオキシエタノール、o-メ� �キシベンジルアルコール、m-メトキシベンジ ルアルコール、p-メトキシベンジルアルコー� ��、ベンジルアルコール、シクロヘキサノー� ��、2-メチルシクロヘキサノール、3-メチルシ クロヘキサノール及び4-メチルシクロヘキサ� ��ール、N-フェニルエタノールアミン及びN-フ ェニルジエタノールアミンなどを挙げること ができる。ただし、有機溶剤の含有量は、使 用液の総質量に対して0.1~5質量%であるが、実 質的に含まれないことが好ましく、全く含ま れないことが特に好ましい。ここで実質的に 含まれないとは1質量%以下であることを示す� ��

 現像液及び補充液には、必要に応じて更� ��有機カルボン酸を加えることもできる。好� ��しい有機カルボン酸は、炭素原子数6~20の脂 肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸である 。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、 カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラ ウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸及び ステアリン酸などがあり、特に好ましいのは 炭素数8~12のアルカン酸である。また、炭素� �中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、� �岐した炭素鎖のものでもよい。芳香族カル� �ン酸としては、ベンゼン環、ナフタレン環� �アントラセン環などにカルボキシル基が置� �された化合物で、具体的には、o-クロロ安息 香酸、p-クロロ安息香酸、o-ヒドロキシ安息� �酸、p-ヒドロキシ安息香酸、o-アミノ安息香� ��、p-アミノ安息香酸、2,4-ジヒドロキシ安息� ��酸、2,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,6-ジヒド� �キシ安息香酸、2,3-ジヒドロキシ安息香酸、3 ,5-ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1-ヒド� ��キシ-2-ナフトエ酸、3-ヒドロキシ-2-ナフト� �酸、2-ヒドロキシ-1-ナフトエ酸、1-ナフトエ� ��、2-ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナ� �トエ酸は特に有効である。上記脂肪族及び� �香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナ� �リウム塩やカリウム塩またはアンモニウム� �として用いるのが好ましい。本発明で用い� �現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な� �限はないが、0.1質量%より低いと効果が十分� ��なく、また10質量%以上ではそれ以上の効果� ��改善が計れないばかりか、別の添加剤を併� ��する時に溶解を妨げることがある。従って� ��好ましい添加量は使用時の現像液に対して0 .1~10質量%であり、よりこのましくは0.5~4質量% である。

 現像液及び補充液には、現像性を高める� ��めに前記の他に以下のような添加剤を加え� ��ことができ、例えば、特開昭58-75152号公報� �載のNaCl、KCl、KBr等の中性塩、特開昭59-121336� ��公報記載の[Co(NH3)]6Cl3等の錯体、特開昭56-142 258号公報記載のビニルベンジルトリメチルア ンモニウムクロライドとアクリル酸ナトリウ ムの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭 59-75255号公報記載のSi、Ti等を含む有機金属界 面活性剤、特開昭59-84241号公報記載の有機硼� ��化合物等が挙げられる。

 現像液及び補充液には、更に必要に応じ� ��防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤及び硬水� ��化剤などを含有させることもできる。消泡� ��としては、例えば、特開平2-244143号公報記� �の鉱物油、植物油、アルコール、界面活性� �、シリコーン等が挙げられる。硬水軟化剤� �しては、例えば、ポリ燐酸及びそのナトリ� �ム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、エ� �レンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリ� �ミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミン� �キサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジア� �ントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2-ジアミ� ��シクロヘキサンテトラ酢酸及び1,3-ジアミノ -2-プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリ カルボン酸及びそれらのナトリウム塩、カリ ウム塩及びアンモニウム塩、アミノトリ(メ� �レンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ( メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミ� �ペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレン テトラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒ� ��ロキシエチルエチレンジアミントリ(メチレ ンホスホン酸)及び1-ヒドロキシエタン-1,1-ジ� ��スホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウ� ��塩及びアンモニウム塩を挙げることができ� ��。このような硬水軟化剤はそのキレート化� ��と使用される硬水の硬度及び硬水の量によ� ��て最適値が変化するが、一般的な使用量を� ��せば、使用時の現像液に0.01~5質量%、より好 ましくは0.01~0.5質量%の範囲である。この範囲 より少ない添加量では所期の目的が十分に達 成されず、添加量がこの範囲より多い場合は 、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる 。現像液及び補充液の残余の成分は水である 。

 また現像液及び補充液は、使用時よりも� ��の含有量を少なくした濃縮液としておき、� ��用時に水で希釈するようにしておくことが� ��搬上有利である。この場合の濃縮度は、各� ��分が分離や析出を起こさない程度が適当で� ��るが、必要により可溶化剤を加えることが� ��ましい。可溶化剤としては、特開平6-32081号 公報記載のトルエンスルホン酸、キシレンス ルホン酸及びそれらのアルカリ金属塩等のい わゆるヒドロトロープ剤が好ましく用いられ る。

 (ノンシリケート現像液)
 本発明の平版印刷版材料の現像に適用する� ��には、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元� ��と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケ� ��ト現像液」を使用することもできる。この� ��像液を用いて、平版印刷版材料の現像処理� ��行うと、記録層の表面を劣化させることが� ��く、かつ記録層の着肉性を良好な状態に維� ��することができる。また、平版印刷版材料� ��、一般には現像ラチチュードが狭く、現像� ��pHによる画線幅等の変化が大きいが、ノン� �リケート現像液にはpHの変動を抑える緩衝性 を有する非還元糖が含まれているため、シリ ケートを含む現像処理液を用いた場合に比べ て有利である。更に、非還元糖は、シリケー トに比べて液活性度を制御するための電導度 センサーやpHセンサー等を汚染し難いため、� ��の点でも、ノンシリケート現像液は有利で� ��る。

 前記非還元糖とは、遊離のアルデヒド基� ��ケトン基を持たず、還元性を示さない糖類� ��あり、還元基同士の結合したトレハロース� ��少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した� ��糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖� ��ルコールに分類され、何れも本発明におい� ��好適に用いることができる。なお、本発明� ��おいては、特開平8-305039号公報に記載され� �非還元糖を好適に使用することができる。

 これらの非還元糖は、一種単独で使用し� ��もよいし、二種以上を併用してもよい。前� ��非還元糖の前記ノンシリケート現像液中に� ��ける含有量としては、高濃縮化の促進、及� ��入手性の観点から、0.1~30質量%が好ましく、 1~20質量%がより好ましい。

 (処理方法)
 本発明の平版印刷版材料から平版印刷版を� ��製する作製方法において、自動現像機を用� ��ることが好ましい。

 自動現像機は、現像工程の前に前処理液� ��版を浸漬させる前処理部を有してもよい。� ��の前処理部は、好ましくは版面に前処理液� ��スプレーする機構が付与されており、好ま� ��くは前処理液の温度を25℃~55℃の任意の温� �に制御する機構が付与されており、好まし� �は版面をローラー状のブラシにより擦る機� �が付与されている。またこの前処理液とし� �は、水などが用いられる。

 現像処理された平版印刷版材料は水洗水� ��界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ� ��ガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニ� ��シャーや保護ガム液で後処理を施されるこ� ��が好ましい。平版印刷版材料の後処理には� ��これらの処理を種々組み合わせて用いるこ� ��ができ、例えば、現像後→水洗→界面活性� ��を含有するリンス液処理や現像→水洗→フ� ��ニッシャー液による処理が、リンス液やフ� ��ニッシャー液の疲労が少なく好ましい。更� ��、リンス液やフィニッシャー液を用いた多� ��向流処理も好ましい態様である。これらの� ��処理は、一般に現像部と後処理部とからな� ��自動現像機を用いて行われる。後処理液は� ��スプレーノズルから吹き付ける方法、処理� ��が満たされた処理槽中を浸漬搬送する方法� ��用いられる。また、現像後一定量の少量の� ��洗水を版面に供給して水洗し、その廃液を� ��像液原液の希釈水として再利用する方法も� ��られている。このような自動処理において� ��、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて� ��れぞれの補充液を補充しながら処理するこ� ��ができる。また、実質的に未使用の後処理� ��で処理する、いわゆる使い捨て処理方式も� ��用できる。このような処理によって得られ� ��平版印刷版は、オフセット印刷機に掛けら� ��、多数枚の印刷に用いられる。

 (消去)
 画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス 及び/又はガム引きして得られた平版印刷版� �不必要な画像部(例えば原画フイルムのフイ� ��ムエッジ跡など)がある場合には、その不必 要な画像部の消去が行なわれる。

 (バーニング処理)
 より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい� ��合には、所望によりバーニング処理が施さ� ��る。

 平版印刷版をバーニングする場合には、� ��ーニング前に特公昭61-2518号、同55-28062号、� ��開昭62-31859号、同61-159655号の各公報に記載� �れているような整面液で処理することが好� �しい。

 その方法としては、該整面液を浸み込ま� ��たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に� ��布するか、整面液を満たしたバット中に印� ��版を浸漬して塗布する方法や、自動コータ� ��による塗布などが適用される。また、塗布� ��た後でスキージ、あるいは、スキージロー� ��ーで、その塗布量を均一にすることは、よ� ��好ましい結果を与える。

 整面液の塗布量は、一般に0.03~0.8g/m ² (乾燥質量)が適当である。整面液が塗布され� ��平版印刷版は必要であれば乾燥された後、� ��ーニングプロセッサー(たとえば富士写真フ イルム(株)より販売されているバーニングプ� ��セッサー:「BP-1300」)などで高温に加熱され� ��。この場合の加熱温度及び時間は、画像を� ��成している成分の種類にもよるが、180~300℃ の範囲で1~20分の範囲が好ましい。

 バーニング処理された平版印刷版は、必� ��に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来� ��り行なわれている処理を施こすことができ� ��が水溶性高分子化合物等を含有する整面液� ��使用された場合にはガム引きなどのいわゆ� ��不感脂化処理を省略することができる。こ� ��様な処理によって得られた平版印刷版はオ� ��セット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷� ��用いられる。

 《包材》
 [合紙]
 本発明の平版印刷版材料は感光層を塗布乾� ��後に、保存中の機械的な衝撃を防ぐために� ��あるいは搬送中における無用な衝撃を軽減� ��るために、印刷版間に合紙が挿入される。� ��紙については各種合紙を適宜選択して用い� ��ことができる。

 合紙には、一般に、材料コストを抑制す� ��ために、低コストの原料が選択されること� ��多く、例えば、木材パルプを100%使用した紙 や、木材パルプとともに合成パルプを混合使 用した紙、及びこれらの表面に低密度又は高 密度ポリエチレン層を設けた紙等を使用する ことができる。特に合成パルプやポリエチレ ン層を使用しない紙では材料コストが低くな るので、低コストで合紙を製造することがで きる。

 上記した合紙の仕様の中でも、好ましい仕� ��としては、坪量が30~60g/m ² 、平滑度が、JIS8119に規定されたベックの平� �度測定方法で10~100秒、水分量がJIS8127に規定� ��れた含水率測定方法で4~8%、密度が0.7~0.9g/cm ³ のものである。また、残留溶剤の吸収のため 、少なくとも感光層と接触する面がポリマー などでラミネートされていないものが好まし い。

 《印刷》
 印刷は、一般的な平版印刷機を用いて行う� ��とができる。

 近年印刷業界においても環境保全が叫ば� ��、印刷インキにおいては石油系の揮発性有� ��化合物(VOC)を使用しないインキが開発され� �の普及が進みつつあるが、本発明の効果は� �のような環境対応の印刷インキを使用した� �合に特に顕著である。環境対応の印刷イン� �としては大日本インキ化学工業社製の大豆� �インキ“ナチュラリス100”、東洋インキ社� �のVOCゼロインキ“TKハイエコーNV”、東京イ� ��キ社製のプロセスインキ“ソイセルボ”等� ��あげられる。