KATODA WATARU (JP)
HASHIMOTO KAZUKI (JP)
TAKAHASHI KAZUHIKO (JP)
ASTRAZENECA AB (SE)
KURIMOTO AYUMU (JP)
KATODA WATARU (JP)
HASHIMOTO KAZUKI (JP)
TAKAHASHI KAZUHIKO (JP)
WO2001027131A1 | 2001-04-19 | |||
WO2007031726A1 | 2007-03-22 | |||
WO2007034173A1 | 2007-03-29 | |||
WO2007034881A1 | 2007-03-29 | |||
WO2003011864A1 | 2003-02-13 |
式(1): で表される化合物又はその塩を脱ベンジル化反応に付し、式(2): で表される化合物又はその塩へ変換する工程(a);と、ついで、 上記工程(a)で得られた式(2)で表される化合物又はその塩と式(3): で表される化合物を、ホウ素系還元剤の存在下に反応させる工程(b); を実施することを特徴とする、式(4): で表される化合物又はその薬学上許容される塩の製造方法。 |
工程(a)の脱ベンジル化反応が、(a1)水素ガス、ギ酸若しくはギ酸アンモニウム存在下、パラジウム炭素触媒若しくは水酸化パラジウム炭素触媒を用いて行なわれる水素添加反応、又は(a2)アルキルクロロホルメート、若しくは置換アルキルクロロホルメートを用いて行なわれる脱ベンジル化反応である、請求項1に記載の製造方法。 |
工程(b)のホウ素系還元剤がナトリウムトリアセトキシボロハイドライドである、請求項1又は2に記載の製造方法。 |
請求項1~3のいずれかに記載の製造法において、式(1)の化合物又はその塩を、式(5): で表される化合物と、式(6): で表される化合物又はその塩を反応させて、式(7): で表される化合物又はその塩を製造する工程(c);と、ついで、 工程(c)で得られた式(7)で表される化合物又はその塩を酸で処理して、式(1) で表される化合物又はその塩を製造する工程(d)を、更に含む、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。 |
請求項1~3のいずれかに記載の製造法において、式(1)の化合物又はその塩を、式(8): で表される化合物を酸で処理して、式(9): で表される化合物を製造する工程(e);と、ついで、 工程(e)で得られた式(9)で表される化合物及び式(6): で表される化合物又はその塩を反応させて、式(1)で表される化合物又はその塩を製造する工程(f);を更に含む、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。 |
請求項4又は5に記載の製造法において、工程(d)又は工程(e)における酸が塩酸、臭化水素酸、硫酸、メタンスルホン酸及びp-トルエンスルホン酸から選択される1又は複数の酸である請求項4又は5に記載の製造方法。 |
請求項4~6のいずれかに記載の製造法において、式(8)の化合物又はその塩を、式(10) で表される化合物又はその塩と、式(11): で表される化合物を、塩基の存在下に反応させて、式(8)で表される化合物を製造する工程(g);を更に含む、請求項4~6のいずれかに記載の製造方法。 |
請求項4又は6の製造法において、式(15) で表される化合物又はその塩を、式(10): で表される化合物又はその塩と、式(12): で表される化合物を、塩基の存在下に反応させて式(13): で表される化合物を製造する工程(h);と、ついで、 工程(h)で得られた式(13)で表される化合物中、Yが水酸基の保護基を表す化合物に対して脱保護反応を行ない、式(14): で表される化合物を製造する工程(i);と、ついで、 工程(h)又は工程(i)で得られる式(14)で表される化合物と、メタンスルホニルクロリドを、塩基の存在下に反応させて、式(15)で表される化合物を製造する工程(j);を更に含む、請求項4又は6に記載の製造方法。 |
請求項7又は請求項8に記載の製造法において、式(10)の化合物又はその塩を、式(16): で表される化合物又はその塩を反応させ、式(18): で表される化合物を製造する工程(k);と、ついで、 工程(k)で得られる式(18)で表される化合物と、式(19): で表される化合物を、塩基存在下に反応させて、式(20): で表される化合物を製造する工程(l);と、ついで、 工程(l)で得られた式(20)で表される化合物と臭素を反応させて、式(21): で表される化合物を製造する工程(m);と、ついで、 工程(m)で得られた式(21)で表される化合物とメタノールを、塩基の存在下に反応させて式(22): で表される化合物を製造する工程(n);と、ついで、 工程(n)で得られた式(22)で表される化合物を、酸で処理して、式(10)で表される化合物又はその塩を製造する工程(o);を更に含む、請求項7又は8に記載の製造方法。 |
工程(o)における酸がトリフルオロ酢酸である、請求項9に記載の製造方法。 |
下記の式(1)、式(5)、式(7)、式(9)、式(10)又は式(13): で表される化合物又はその塩。 |
下記の式(23)又は式(24): で表される化合物。 |
本発明は、医薬品として有用なアデニン 合物又はその薬学上許容される塩の製造方 、及びその製造中間体に関する。
式(4):
で表されるアデニン化合物は医薬品として有
用であることが知られている(特許文献1及び
許文献2を参照)。式(4)で表される化合物の
造方法として、特許文献2には、6-アミノ-9-(3
-ブロモプロピル)-2-ブトキシ-7,9-ジヒドロ-8H-
リン-8-オンを経由して6-アミノ-2-ブトキシ-9
-{3-[(3-ヒドロキシプロピル)アミノ] プロピル
}-7,9-ジヒドロ-8H-プリン-8-オンを合成し、3-ブ
ロモメチルフェニル酢酸メチルでアルキル化
した後、メシルクロライド、次いでジメチル
アミンと反応させることによりメチル((3-{[[3-
(6-アミノ-2-ブトキシ-8-オキソ-7,8-ジヒドロ-9H-
プリン-9-イル) プロピル]( 3-ジメチルアミノ
プロピル)アミノ]メチル}フェニル)アセテー
を製造する方法等が記載されている。
また、特許文献1には、9-(4-ブロモブチル)-2-
ブトキシ-8-メトキシ-9H-プリン-6-アミンに3-モ
ルホリノプロピルアミンを反応させ、2-ブト
シ-8-メトキシ-9-{4-[(3-モルホリン-4-イルプロ
ピル)アミノ] ブチル}-9H-プリン-6-アミンを合
成した後、酸処理し、3-ブロモメチルフェニ
酢酸メチルでアルキル化することにより、
チル(3-{[[4-(6-アミノ-2-ブトキシ-8-オキソ-7,8-
ジヒドロ-9H-プリン-9-イル)ブチル](3-モルホリ
ン-4-イルプロピル)アミノ]メチル}フェニル)
セテートを製造する方法等が記載されてい
。
しかしながら、製造中間体である6-アミノ-9
-(3-ブロモプロピル)-2-ブトキシ-7,9-ジヒドロ-8
H-プリン-8-オン等の6位にアミノ基を有し、か
つ8位にオキソ基を有する化合物は、式(4)で
される化合物と同様に薬理活性を有してお
、製造過程での取り扱いに注意が必要であ
た。
以上のことから、活性中間体を経由せず、
的物を効率的に得ることが可能な式(4)で表
れる化合物の製造方法が求められている。
以下の特許文献3には、6位にベンジルアミ
基を有するアデニン化合物が開示されてい
が、6位ベンジル基を保護基として用いるア
ニン化合物の製造方法は記載されていない
本発明が解決しようとする課題は、医薬 として有用な式(4)で表されるアデニン化合 又はその薬学上許容される塩の新規製造方 を提供することにある。
本発明者らは、式(4)で表されるアデニン化
物又はその薬学上許容される塩の新規製造
法を確立すべく鋭意検討を重ねた結果、本
明を完成するに至った。
即ち、本発明は、以下の[1]~[10]に掲げる化
物(4)の製造法に関する。
[1] 式(1)、
で表される化合物又はその塩を脱ベンジル化
反応に付し、式(2):
で表される化合物又はその塩へ変換する工程
(a);と、ついで、
上記工程(a)で得られた式(2)で表される化合物
又はその塩と式(3):
で表される化合物を、ホウ素系還元剤の存在
下に反応させる工程(b);
を実施(carry out)することを特徴とする式(4):
で表される化合物又はその薬学上許容される
塩の製造方法。
[2] 工程(a)の脱ベンジル化反応が、(a1)水素 ガス、ギ酸若しくはギ酸アンモニウム存在下 、パラジウム炭素触媒若しくは水酸化パラジ ウム炭素触媒を用いて行なわれる水素添加反 応、又は(a2)アルキルクロロホルメート、若 くは置換アルキルクロロホルメートを用い 行なわれる脱ベンジル化反応である、上記[1 ]に記載の製造方法。
[3] 工程(b)のホウ素系還元剤がナトリウム リアセトキシボロハイドライドである、上 [1]又は[2]に記載の製造方法。
[4] 上記[1]~[3]に記載の製造法において、式(1)
の化合物又はその塩を、
式(5):
で表される化合物と、式(6):
で表される化合物又はその塩を反応させて、
式(7):
で表される化合物又はその塩を製造する工程
(c);と、ついで、
工程(c)で得られた式(7)で表される化合物又 はその塩を酸で処理して、式(1)で表される化 合物又はその塩を製造する工程(d)を更に含む 、上記[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5] 上記[1]~[3]に記載の製造法において、式(1)
の化合物又はその塩を、式(8):
で表される化合物を酸で処理して、式(9):
で表される化合物を製造する工程(e);と、つ
で、
工程(e)で得られた式(9)で表される化合物及び
式(6):
で表される化合物又はその塩を反応させて、
式(1)で表される化合物又はその塩を製造する
工程(f);を更に含む、上記[1]~[3]のいずれかに
載の製造方法。
[6] 上記[4]又は[5]に記載の製造法において 工程(d)又は工程(e)における酸が塩酸、臭化 素酸、硫酸、メタンスルホン酸及びp-トル ンスルホン酸から選択される1又は複数の酸 ある上記[4]又は[5]に記載の製造方法。
[7] 上記[4]~[6]のいずれかに記載の製造法にお
いて、式(8)の化合物又はその塩を、式(10)
で表される化合物又はその塩と、式(11):
で表される化合物を、塩基存在下に反応させ
て、式(8)で表される化合物を製造する工程(g)
;を更に含む、上記[4]~[6]のいずれかに記載の
造方法。
[8] 上記[4]又は[6]に記載の製造法において、
(15)
で表される化合物又はその塩を、式(10):
で表される化合物又はその塩と、式(12):
で表される化合物を、塩基の存在下に反応さ
せて、式(13):
で表される化合物を製造する工程(h);と、つ
で、
工程(h)で得られた式(13)で表される化合物中
Yが水酸基の保護基を表す化合物に対して脱
護反応を行ない、式(14):
で表される化合物を製造する工程(i);と、つ
で、
工程(h)又は工程(i)で得られた式(14)で表さ る化合物と、メタンスルホニルクロリドを 塩基の存在下に反応させて、式(15)で表され 化合物を製造する工程(j);を更に含む、上記 [4]又は[6]に記載の製造方法。
[9] 上記[7]又は[8]に記載の製造法において、
(10)の化合物又はその塩を、式(16):
で表される化合物又はその塩を反応させて、
式(18):
で表される化合物を製造する工程(k);と、つ
で、
工程(k)で得られた式(18)で表される化合物と
、式(19):
で表される化合物を、塩基の存在下に反応さ
せて、式(20):
で表される化合物を製造する工程(l);と、つ
で、
工程(l)で得られた式(20)で表される化合物と
臭素を、酢酸ナトリウム存在下、リン酸ナト
リウムの存在下又は非存在下に反応させて、
式(21):
で表される化合物を製造する工程(m);と、つ
で、
工程(m)で得られた式(21)で表される化合物と
メタノールを、塩基の存在下に反応させて
(22):
で表される化合物を製造する工程(n);と、つ
で、
工程(n)で得られた式(22)で表される化合物 、酸で処理して、式(10)で表される化合物又 その塩を製造する工程(o);を更に含む、上記 [7]又は[8]に記載の製造方法。
[10] 工程(o)における酸がトリフルオロ酢酸 である、上記[9]に記載の製造方法。
本発明はまた、下記[11]及び[12]に挙げる化
物(4)の合成中間体として有用な新規化合物
関する。
[11] 下記の式(1)、式(5)、式(7)、式(9)、式(10)
は式(13):
で表される化合物又はその塩。
[12] 下記の式(23)又は式(24):
で表される化合物。
本発明の製造中間体は、水和物および/又は
溶媒和物の形で存在することもあるので、こ
れらの水和物および/溶媒和物もまた本発明
製造中間体に包含される。また、式(10)で表
れる中間体は、場合により互変異性体を生
ることがあるので、これらの互変異性体も
発明の製造中間体に包含される。
本発明により、医薬品として有用な式(4) 表されるアデニン化合物又はその薬学上許 される塩の新規製造方法、及びその製造中 体を提供することが可能になった。本発明 製造法を用いれば、従来法で必要だったア モニアを用いた高圧反応装置が不要となっ 。更に本製造中間体は6位アミノ基にベンジ ル基を有することにより薬理活性を持たない ため、一層簡便な設備で安全に製造が可能に なった。
以下に本発明を詳細に説明する。
本明細書において、「ハロゲン原子」とし
はフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨ
素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子
は塩素原子が挙げられる。
本明細書において、「炭素数1~6のアルキル
」としては炭素数1~6の直鎖もしくは分枝の
ルキル基が挙げられ、具体的には、メチル
、エチル基、プロピル基、1-メチルエチル
、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が
げられる。
本明細書において、「炭素数1~6のアルキ オキシ基」としては炭素数1~6の直鎖もしく 分枝のアルキル基で置換されたヒドロキシ 基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、 トキシ基、プロポキシ基、1-メチルエトキ 基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキ ルオキシ基等が挙げられる。
本明細書において、「炭素数1~3のアルキル
」としてはメチル基、エチル基、プロピル
又は1-メチルエチル基が挙げられる。
本明細書において、m及びnは好ましくは独
して2~4の整数を表し、更に好ましくは3を表
。
本明細書において、kは1又は2の整数を表 。
本明細書において、R 2
及びR 3
は好ましくは同一又は異なって炭素数1~6のア
ルキル基を表すか、あるいはR 2
及びR 3
が結合して、隣接する窒素原子とともにピロ
リジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペ
リジン、ホモピペリジン、ピペラジン、又は
ホモピペラジンを形成しうる。前記ピペラジ
ン又はホモピペラジンの4位窒素原子は、炭
数1~4のアルキル基で置換されていてもよい
R 2
及びR 3
が結合して、隣接する窒素原子とともにモル
ホリンを形成する場合が特に好ましい。
本明細書において、R 4
は好ましくはメチル基を表す。
以下に本発明方法に係る各工程について 細に説明する。
工程(a)
上記[1]の工程(a)において、式(1)で表される
合物及び式(2)で表される化合物の塩として
、塩酸塩、臭化水素塩、マレイン酸塩、フ
ル酸塩、シュウ酸塩等が挙げられる。
式(1)で表される化合物を式(2)で表される化
物へ変換する脱ベンジル化保護反応として
、(a1)水素ガス、ギ酸若しくはギ酸アンモニ
ウム存在下、パラジウム炭素若しくは水酸化
パラジウム炭素触媒を用いて行なわれる水素
添加反応、又は(a2)アルキルクロロホルメー
、又は置換アルキルクロロホルメートを用
て行なわれる脱ベンジル化反応等が挙げら
る。アルキルクロロホルメートまたは置換
ルキルホルメートとしては、具体的に1-クロ
ロエチルクロロホルメート、2,2,2-トリクロロ
エチルクロロホルメート、2-(トリメチルシリ
ル)エチルクロロホルメート、ビニルクロロ
ルメート等が挙げられる。各々の反応条件
ついては公知であり、例えばJ. Org. Chem., 52
, 19 (1987), Tetrahedron Lett., 28, 2331 (1987), J.
Org. Chem., 49, 2081 (1984), Tetrahedron Lett., 27,
3979 (1986), Tetrahedron Lett., 1567 (1977)等を参
することができる。
工程(b)
上記[1]の工程(b)において用いるホウ素系還
剤としては、具体的にはナトリウムトリア
トキシボロハイドライド、ナトリウムシア
ボロハイドライド、ボラン-ジメチルスルフ
ィド複合体、2-ピコリン-ボラン複合体等が挙
げられ、好ましくはナトリウムトリアセトキ
シボロハイドライド又はナトリウムシアノボ
ロハイドライドが挙げられ、更に好ましくは
、ナトリウムトリアセトキシボロハイドライ
ドが挙げられる。
この反応は、式(2)で表される化合物が塩を
成している場合は式(2)で表される化合物と
じ当量数以下の塩基の存在下又は非存在下
性又は酸性条件下で実施できる。また(2)で
される化合物と同じ当量数より多くの塩基
加え、式(3)で表される化合物と撹拌後、反
液を酸性に調整し、ホウ素系還元剤と反応
せることによっても実施できる。好ましく
後者の方法である。ここで用いられる塩基
しては、具体的にはトリエチルアミン、ジ
ソプロピルエチルアミン、ジメチルアミノ
リジン等の有機アミン類が挙げられる。好
しくはトリエチルアミンが挙げられる。通
、式(2)で表される化合物と式(3)で表される
合物の還元的アミノ化反応は、酸性条件下
実施され、反応条件を酸性下で行うために
える酸としては、酢酸等が挙げられる。
反応温度は、15℃~40℃の範囲から、好まし
は20℃~30℃の範囲から選択される。
反応溶媒としては、特に限定されないが、N
-メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミ
ド(DMF)、ジメチルスルホキサイド(DMSO)、ジク
ロメタン、テトラヒドロフラン等を用いる
とができ、好ましくは、N-メチルピロリド
(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)を、さらに
ましくは、N-メチルピロリドン(NMP)を用いる
ことができる。塩基としてトリエチルアミン
を用いる場合の溶媒として、特に好ましくは
、N-メチルピロリドン(NMP)を挙げることがで
る。
反応時間は、通常3~24時間である。
式(4)で表される化合物はフリー体で単離し
もよいし、適当な酸と塩を形成させてもよ
。当該塩は、薬学上許容される無毒の塩で
れば特に限定されないが、塩酸塩、硫酸塩
臭化水素塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、
酸塩、オルトリン酸塩、酢酸塩、安息香酸
、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸
、L-乳酸塩、アスパラギン酸塩、2-ナフタレ
ンスルホン酸塩、クエン酸塩、1,5-ナフタレ
ジスルホン酸塩、琥珀酸塩、シュウ酸塩等
挙げられる。
工程(c)
上記[4]の工程(c)において、式(6)で表される
合物の好ましい塩としては、塩酸塩、臭化
素塩等が挙げられる。
この反応に用いる式(6)で表される化合物の
(5)で表される化合物に対する当量としては
1当量から20当量の範囲から選択され、好ま
くは、5当量から10当量の範囲から選択され
。
この反応は、塩基の存在下又は非存在下で
なわれ、式(6)で表される化合物が塩を形成
ている場合は少なくとも式(6)で表される化
物と同じ当量数の塩基を添加する必要があ
。ここで用いられる塩基としては、具体的
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
ミン、2,6-ルチジン、ジメチルアミノピリジ
ン等の有機アミン類が、好ましくは、トリエ
チルアミンが挙げられる。
反応温度は特に限定されず、通常15℃~40℃
好ましくは、25℃~35℃の範囲から選択される
。
反応溶媒としては、特に限定されないが、N
-メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミ
ド(DMF)、ジメチルスルホキサイド(DMSO)等を用
ることができ、好ましくは、N-メチルピロ
ドン(NMP)を用いることができる。或いは、本
反応は好ましくは、無溶媒で行うことができ
る。
反応時間は、通常3~24時間である。
式(7)で表される化合物の塩としては、特に
定されないが、塩酸塩、臭化水素塩、マレ
ン酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩等が挙げ
れる。
工程(d)
上記[4]の工程(d)において、式(7)で表される
合物を式(1)で表される化合物へ変換する工
に用いられる酸としては、塩酸、臭化水素
、硫酸、メタンスルホン酸、トルエンスル
ン酸等の強酸が挙げられ、好ましくは、塩
又は臭化水素酸が挙げられる。塩酸、臭化
素酸の濃度としては0.1M~12M、好ましくは1M~6M
が挙げられる。
この工程は、無溶媒で行なうこともできる
、通常は式(7)で表される化合物を適切な有
溶媒に溶解した後、酸を加えて反応を行な
。ここで用いられる有機溶媒としては、式(
7)で表される化合物が溶解する限り、特に限
されないが、具体的には、メタノール、ト
エン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン
、これらの混合溶媒等が挙げられ、好ましく
は、トルエンとテトラヒドロフランの混合溶
媒が挙げられる。
反応温度は、0℃~40℃、好ましくは、20℃~30
の範囲から選択される。
反応時間は、通常1~5時間である。
通常、式(7)で表される化合物の製造工程に
ける反応混合物に酸を加えるか、又は適宜
機溶媒を用いて式(7)で表される化合物を抽
し、これに酸を加えることにより、式(7)で
される化合物を式(1)で表される化合物に変
することができる。
酸は、適宜水又は有機溶媒に溶解して反応
用いることができる。例えば、塩酸又は臭
水素酸を用いる場合、塩酸水、臭化水素酸
、又はエタノールもしくはジオキサン等の
機溶媒に塩化水素もしくは臭化水素を溶解
せた溶液を用いることができる。
工程(e)
上記[5]の工程(e)、すなわち、式(8)で表され
化合物を式(9)で表される化合物へ変換する
程は、上記工程(d)と同様に行うことができ
。
工程(f)
上記[5]の工程(f)、すなわち、式(9)で表され
化合物を式(1)で表される化合物へ変換する
程は、上記工程(c)と同様に行うことができ
。
工程(g)
上記[7]の工程(g)において、式(10)で表される
化合物及び式(11)で表される化合物の縮合反
は、通常塩基の存在下で行なわれる。塩基
しては、具体的には炭酸カリウム、炭酸ナ
リウム等の無機塩基が挙げられる。
反応温度は、20℃~60℃、好ましくは、20℃~30
℃の範囲から選択される。
反応溶媒としては、特に限定されないが、N
-メチルピロリドン(NMP)、ジメチルスルホキシ
ド(DMSO)、ジメチルホルムアミド(DNF)、クロロ
ルム、ジクロロメタン等が挙げられる。
反応時間は、通常2~8時間である。
ここで、生成する式(8)で表される化合物は
離することもできるし、単離精製を行うこ
なく、次の工程に用いることもできる。
工程(h)
上記[8]の工程(h)、すなわち、式(10)で表され
る化合物と式(12)で表される化合物の縮合反
により式(13)で表される化合物へ変換する工
は、上記工程(g)と同様に行うことができる
式(12)及び式(13)におけるYが水酸基の保護基
表す場合、当該保護基としては、特に限定
れず、「Protective Groups in Organic Synthesis 3r
d Edition (John Wiley & Sons, Inc.;1999)」等に
載された水酸基の保護基を適宜用いること
できる。例えば、アセチル基、ホルミル基
のエステル系保護基、トリメチルシリル基
トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシ
ル基等のシリルエーテル系保護基が挙げら
る。
工程(i)
上記[8]の工程(i)は、「Protective Groups in Orga
nic Synthesis 3rd Edition (John Wiley & Sons, In
c.;1999)」等に記載された当業者に周知の脱保
反応を行えばよい。例えば、Yがエステル系
保護基の場合は、適宜当業者に公知のエステ
ル加水分解方法を用いることができる。具体
的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属水酸化物を用いてアルカリ
加水分解反応を行なうことができる。又は、
塩酸、硫酸等の酸を用いて酸加水分解反応を
行なうことができる。
反応温度は、約20℃~100℃の範囲から選択さ
る。
反応溶媒としては、特に限定されず、エス
ル加水分解反応の溶媒として当業者に汎用
れる有機溶媒を用いてもよいし、あるいは
機溶媒を用いることなくアルカリ金属水酸
物水溶液、塩酸又は硫酸水を加えてもよい
具体的には、1,4-ジオキサン-水、テトラヒ
ロフラン-水、アルコール系溶媒-水が挙げら
れる。好ましくはメタノール-水が挙げられ
。
反応時間は、通常1~24時間である。
Yがシリルエーテル系保護基の場合は、適宜
当業者に公知の脱シリル化方法を用いること
ができる。具体的には、トリフルオロ酢酸、
塩酸、フッ化テトラブチルアンモニウム (TBA
F)、フッ化水素酸 (HF)、フッ化セシウム (CsF)
を用いて簡便に収率よく、脱シリル化反応を
行なうことができる。
ここで、生成する式(14)で表される化合物は
単離することもできるし、単離精製を行うこ
となく、次の工程に用いることもできる。
工程(j)
上記[8]の工程(j)において、式(14)で表される
化合物は、通常メタンスルホニルクロリドに
よりメタンスルホニル化し、式(15)で表され
化合物とすることができる。
メタンスルホニル化反応は通常、塩基の存
下に行なわれる。塩基としては、トリエチ
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピ
ジン等の有機塩基が挙げられ、好ましくは
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
ミンが挙げられる。
また、副反応抑制剤としてトリメチルアミ
塩酸塩を用いてもよく、或いは反応促進剤
してジメチルアミノピリジンを用いること
できる。
反応温度は、約0℃~20℃の範囲から選択され
る。
反応溶媒としては、特に限定されないが、N
-メチルピロリドン(NMP)、ジメチルスルホキシ
ド(DMSO)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジクロ
メタン、クロロホルム、テトラヒドロフラ
等が挙げられる。
反応時間は、通常10分~60分である。
工程(k)
原料として用いられる式(16)で表される化合
物は公知であり、市販品を用いてもよく、或
いは当業者に周知の方法に準じて製造しても
よい。
上記[10]の工程(k)において、式(17)で表され
ベンジルアミン誘導体としては、ベンジル
ミン、4-メトキシベンジルアミン、2,4-ジメ
キシベンジルアミン、4-ニトロベンジルアミ
ン等が挙げられ、好ましくはベンジルアミン
が挙げられる。
反応は、塩基の存在下又は非存在下に行う
とができる。塩基としては、トリエチルア
ン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチ
アミノピリジン等の有機塩基が挙げられる
溶媒としては、メタノール等のアルコール
溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系
媒、ジメチルホルムアミド(DMF)等が挙げら
る。
反応温度は、約20℃から溶媒の沸点までの
度から選択される。
反応時間は、通常0.5~12時間である。
式(4)で表される化合物の公知の製造方法は
プリン環6位のアミノ基を保護しない方法で
あり、式(16)で表される化合物にアンモニア
高圧下反応させることにより得られる2-クロ
ロ-9-(テトラヒドロ-2H-ピラン-2-イル)- 9H-プリ
ン-6-アミンを原料に用いていた。しかしなが
ら、本発明方法に係る6位アミノ基をベンジ
基等の保護基で保護する方法では、式(18)で
される中間体を常圧で製造することができ
高圧反応を要しないという利点がある。
工程(l)
上記[10]の工程(l)において、塩基としては、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素
化アルカリ金属類等が挙げられる。
溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエ
テル系溶媒、ジメチルホルムアミド等が挙
られる。又は、化合物(19)を溶媒として用い
てもよい。
反応温度は、約20℃から溶媒の沸点までの
度から選択される。
反応時間は、通常0.5~12時間である。
工程(m)
工程(m)において、溶媒としては、ジクロロ
タン、クロロホルム、テトラヒドロフラン
が挙げられる。
通常、式(20)で表される化合物を溶媒に溶解
し、臭素を添加することにより反応は進行す
るが、テトラヒドロピラン環の脱離等の副反
応を抑えるために酢酸ナトリウム、リン酸ナ
トリウム等の添加剤を、さらに好ましくは酢
酸ナトリウムの水溶液を加えることが好まし
い。
反応温度は、約10℃~30℃の範囲から選択さ
る。
反応時間は、通常1~6時間である。
工程(n)
上記[10]の工程(n)において、塩基としては、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素
化アルカリ金属類、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の無機塩基等が挙げられる。
溶媒としては、メタノール、テトラヒドロ
ラン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルム
ミド(DMF)、水、これらの混合溶媒等が挙げ
れる。
反応温度は、約20℃から溶媒の沸点までの
度から選択される。
反応時間は、通常1~12時間である。
工程(o)
上記[10]の工程(o)において、酸としては、塩
酸、臭化水素酸、硫酸、メタンスルホン酸、
トリフルオロ酢酸等を、好ましくは、トリフ
ルオロ酢酸を用いることができる。
溶媒としては、メタノール等のアルコール
溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系
媒等が挙げられる。
反応温度は、約10℃~30℃の範囲から選択さ
る。
反応時間は、通常1~24時間である。
以下に実施例を挙げて、本発明について具
的に説明するが、本発明はこれに限定され
ものではない。
以下に示す実施例において、試薬および溶
は市販品を用いた。また、特に言及しない
り有機溶液は無水硫酸ナトリウムで乾燥し
。 1
H NMRのケミカルシフトはテトラメチルシラン
を内部標準として報告した。式中、Meはメチ
基を意味する。TFAはトリフリオロ酢酸を意
する。
N-ベンジル-2-クロロ-9-(テトラヒドロ-2H-ピラ
-2-イル)- 9H-プリン-6-アミン
1
H NMR δ (CDCl 3
) 8.10 (1H, s), 7.42-7.26 (6H, m), 5.72 (1H, dd, J
= 11.3, 2.4 Hz), 4.80 (2H, s), 4.20-4.16 (1H, m),
3.81-3.73 (1H, m), 2.21-1.66 (6H, m).
N-ベンジル-2-ブトキシ-9-(テトラヒドロ-2H-ピ
ン-2-イル)-9H-プリン-6-アミン
1
H NMR δ (CDCl 3
) 7.61 (1H, s), 7.36-7.22 (5H, s), 6.86 (1H, bs),
5.62 (1H, dd, J= 11.3, 2.4 Hz), 4.81 (2H, s), 4.33
(2H, t, J= 6.8 Hz), 4.13-4.09 (1H, m), 3.76-3.69
(1H, m), 2.04-1.44 (10H, m), 0.95 (3H, t, J= 7.4 H
z).
N-ベンジル-8-ブロモ-2-ブトキシ-9-(テトラヒド
ロ-2H-ピラン-2-イル)-9H-プリン-6-アミン
1
H NMR δ (CDCl 3
) 7.34-7.21 (5H, m), 5.94 (1H, bs), 5.62 (2H, dd,
J= 11.3, 2.4 Hz), 4.77 (2H, s), 4.33 (2H, t, J= 6
.8 HZ), 4.18-4.14 (1H, m), 3.73-3.66 (1H, m), 3.03-2
.96 (1H, m), 2.10-1.44 (9H, m), 0.96 (3H, t, J= 7.
4 Hz).
N-ベンジル-2-ブトキシ-8-メトキシ-9-(テトラヒ
ドロ-2H-ピラン-2-イル)-9H-プリン-6-アミン
1
H NMR δ (CDCl 3
) 7.37-7.26 (5H, m), 5.63 (1H, bs), 5.52(1H,dd, J=
11.3, 2.4 Hz), 4.80 (2H, d, J= 4.8 Hz), 4.30 (2H,
t, J= 6.8 Hz), 4.12-4.09 (1H, m), 4.07 (3H, s), 3
.72-3.65 (1H, m), 2.76-2.71 (1H, m), 2.04-1.43 (9H,
m), 0.95 (3H, t, J= 7.4 Hz).
N-ベンジル-2-ブトキシ-8-メトキシ-9H-プリン-6-
アミン・トリフルオロ酢酸塩
1
H NMR δ (DMSO-d 6
) 7.93 (1H, bs), 7.37-7.22 (5H, m), 4.68 (2H, s),
4.24 (2H, t, J= 6.8 Hz), 4.03 (3H, s), 1.67-1.60 (
2H, m), 1.39-1.33 (2H, m), 0.89 (3H, t, J= 7.3 Hz)
.
N-ベンジル-2-ブトキシ-9-(3-クロロプロピル)-8-
メトキシ-9H-プリン-6-アミン
1
H NMR δ (CDCl 3
) 7.37-7.24 (5H, m), 5.76 (1H, t, J= 5.6 Hz), 4.80
(2H, d, J= 5.6 Hz), 4.30 (2H, t, J= 6.8 Hz), 4.
07 (2H, t, J= 6.8 Hz), 4.06 (3H, s), 3.52 (2H, t,
J= 6.5 Hz), 2.27-2.20 (2H, m), 1.80-1.73 (2H, m),
1.50-1.42 (2H, m), 0.95 (3H, t, J= 7.4 Hz).
6-(ベンジルアミノ)-2-ブトキシ-9-(3-クロロプ
ピル)-7,9-ジヒドロ-8H-プリン-8-オン
1
H NMR δ (DMSO-d 6
) 9.81 (1H, bs), 7.36-7.26 (5H, m), 7.01 (1H, t, J
= 5.7 Hz), 4.61 (2H, d, J= 5.7 Hz), 4.16 (2H, t,
J= 6.7 Hz), 3.81 (2H, t, J= 6.8 Hz), 3.66 (2H, t
, J= 6.4 Hz), 2.14-2.07 (2H, m), 1.66-1.58 (2H, m),
1.39-1.33 (2H, m), 0.90 (3H, t, J= 7.4 Hz).
6-(ベンジルアミノ)-2-ブトキシ-9-{3-[(3-モルホ
ン-4-イルプロピル)アミノ]プロピル}-7,9-ジ
ドロ-8H-プリン-8-オン
1
H NMR δ (CDCl 3
) 7.33-7.21 (5H, m), 6.92 (1H, t, J= 5.6 Hz), 4.77
(2H, d, J= 5.6 Hz), 4.25 (2H, t, J= 6.8 Hz), 3.
72-3.65 (2H, m), 3.68 (2H, t, J= 6.8 Hz), 3.58 (2H
, t, J= 6.4 Hz), 2.57-2.31 (10, m), 1.78-1.62 (6H,
m), 1.42-1.38 (2H, m), 0.93 (3H, t, J= 7.4 Hz).
6-アミノ-2-ブトキシ-9-{3-[(3-モルホリン-4-イル
プロピル)アミノ]プロピル}-7,9-ジヒドロ-8H-プ
リン-8-オン・3塩酸塩
1
H NMR δ (DMSO-d 6
) 11.12 (1H, bs), 10.58 (1H, bs), 8.93 (2H, bs), 4
.20 (2H, t, J= 6.6 Hz), 3.97-3.94 (2H, m), 3.84-3.7
4 (4H, m), 3.40 (1H, bs), 3.38 (1H, bs), 3.19-3.14
(2H, m), 3.07-2.92 (6H, m), 2.10-1.91 (4H, m), 1.69
-1.62 (2H, m), 1.45-1.35 (2H, m), 0.92 (3H, t, J=
7.4 Hz).
メチル (3-{[[3-(6-アミノ-2-ブトキシ-8-オキソ-7
,8-ジヒドロ-9H-プリン-9-イル)プロピル](3-モル
ホリン-4-イルプロピル)アミノ]メチル}フェニ
ル)アセテート
1
H NMR δ (DMSO-d 6
) 9.82 (1H, bs), 7.24-7.15 (3H, m), 7.10 (1H, d, J
= 7.3 Hz), 6.39 (2H, bs), 4.11 (2H, t, J= 6.6 Hz)
, 3.67 (2H, t, J= 7.2 Hz), 3.64 (2H, s), 3.59 (3H
, s), 3.46-3.49 (6H, m), 2.41-2.34 (4H, m), 2.22-2.1
6 (6H, m), 1.85-1.80 (2H, m), 1.65-1.57 (2H, m), 1.
52-1.45 (2H, m), 1.40-1.31 (2H, m), 0.89 (3H, t, J=
7.4 Hz).
本発明は、医薬品として有用なアデニン 合物又はその薬学上許容される塩の製造方 、及びその製造中間体として有用である。