【명세서】

【발명의 명칭】

신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자

【기술분야】

관련 출원 (들)과의 상호 인용

본 출원은 2016년 7월 20일자 한국 특허 출원 제 10-2016-0092202호， 및 2017년 6월 14일자 한국 특허 출원 제 10-2017-0075029호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며， 해당 한국 특허 출원들의 문헌에 개시된 모든 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다. 본 발명은 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다.

【발명의 배경이 되는 기술】

일반적으로 유기 발광 현상이란 유기 물질을 이용하여 전기에너지를 빛에너지로 전환시켜주는 현상을 말한다. 유기 발광 현상을 이용하는 유기 발광 소자는 넓은 시야각， 우수한 콘트라스트， 빠른 응답 시간을 가지며， 휘도， 구동 전압 및 웅답 속도 특성이 우수하여 많은 연구가 진행되고 있다. 유기 발광 소자는 일반적으로 양극과 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 유기물 층을 포함하는 구조를 가진다. 상기 유기물 층은 유기 발광 소자의 효율과 안정성을 높이기 위하여 각기 다른 물질로 구성된 다층의 구조로 이루어진 경우가 많으며， 예컨대 정공 주입층， 정공 수송층, 발광층， 전자수송층， 전자 주입층 등으로 이루어질 수 있다. 이러한 유기 발광 소자의 구조에서 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 양극에서는 정공이， 음극에서는 전자가 유기물 층에 주입되게 되고， 주입된 정공과 전자가 만났을 때 액시톤 (exci ton)이 형성되며， 이 엑시톤이 다시 바닥상태로 떨어질 때 빛이 나게 된다. 상기와 같은 유기 발광 소자에 사용되는 유기물에 대하여 새로운 재료의 개발이 지속적으로 요구되고 있다. 【선행기술문헌】

【특허문헌】

(특허문헌 0001) 한국특허 공개번호 게 10-2000-0051826호

【발명의 내용】

【해결하고자 하는 과제】

본 발명은 신규한 헤테로고리 화합물 화합물 및 이를 포함하 발광 소자에 관한 것이다.

【과제의 해결 수단】

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.

상기 화학식 1에서，

¾은 0또는 S이고,

Li 및 L ₂ 는 각각 독립적으로， 단일 결합; 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₆₀ 아릴렌; 또는 치환 또는 비치환된 0， N , Si 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 ( ₆₀ 헤테로아릴렌이고，

Yi 내지 Y3는 각각 독립적으로， N 또는 CR ₃ 이되， ^ 내지 Y ₃ 중 적어도 하나는 Ν이고，

Ar _la 및 는 각각 독립적으로， 치환 또는 비치환된 C ₆ — ₆₀ 아릴; 또는 치환 또는 비치환된 N , 0 및 ^' S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 내지 3개 포함하는 d-so 헤테로아릴이고，

Ar ₂ 는 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₆₀ 아릴이고，

Ri 내지 ¾는 각각 독립적으로， 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-60 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-60 할로알킬 ; 치환 또는 비치환된 d- ₆₀ 알콕시 ; 치환 또는 비치환된 d-60 할로알콕시; 치환 또는 비치환된 C ₃ - ₆₀ 사이클로알킬; 치환 또는 비치환된

C ₂ -6o 알케닐; 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₆₀ 아릴; 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₆₀ 아릴옥시; 또는 치환 또는 비치환된 N, 0 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 ( ₆₀ 헤테로아릴이고，

nl 및 n2는 각각 독립적으로， 0 내지 3의 정수이다. 또한, 본 발명은 게 1 전극; 상기 게 1 전극과 대향하여 구비된 제 2 전극; 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물 층을 포함하는 유기 발광 소자로서， 상기 유기물 층 중 1층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는, 유기 발광 소자를 제공한다.

【발명의 효과】

상술한 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자의 유기물 층의 재료로서 사용될 수 있으며， 유기 발광 소자에서 효율의 향상， 낮은 구동전압 및 /또는 수명 특성을 향상시킬 수 있다. 특히， 상술한 화학식 1로 표시되는 화합물은 발광층의 호스트 재료로 사용될 수 있다.

【도면의 간단한 설명】

도 1은 기판 (1)， 양극 (2) , 발광층 (3)， 음극 (4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.

도 2는 기판 (1)， 양극 (2)， 정공 주입층 (5)， 정공 수송층 (6)， 발광층 (7)， 전자수송층 (8) 및 음극 (4)로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.

【발명을 실시하기 위한 구체적인 내용】

이하， 본 발명의 이해를 돕기 위하여 보다 상세히 설명한다.

본 명세서에서， 는 다른 치환기에 연결되는 결합을 의미하고， 단일 결합은 및 L ₂ 로 표시되는 부분에 별도의 원자가 존재하지 않은 경우를 의미한다 . 본 명세서에서 "치환 또는 비치환된 ¹ ' 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 시아노기; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미노기; 포스핀옥사이드기; 알콕시기; 아릴옥시기; 알킬티옥시기; 아릴티옥시기; 알킬술폭시기; 아릴술폭시기; 실릴기; 붕소기; 알킬기; 사이클로알킬기; 알케닐기; 아릴기; 아르알킬기; 아르알케닐기; 알킬아릴기; 알킬아민기; 아랄킬아민기; 헤테로아릴아민기; 아릴아민기; 아릴포스핀기; 또는 N, 0 및 S 원자 중 1개 이상을 포함하는 헤테로아릴로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되거나， 상기 예시된 치환기 중 2 아상의 치환기가 연결된 치환 또는 비치환된 것을 의미한다. 예컨대， "2 이상의 치환기가 연결된 치환기 "는 바이페닐기일 수 있다. 즉, 바이페닐기는 아릴기일 수도 있고， 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수도 있다. 본 명세서에서 카보닐기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적으로 하기와 같은 구조의 화합물이 될 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다.

본 명세서에 있어서， 에스테르기는 에스테르기의 산소가 탄소수 내지 25의 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄 알킬기 또는 탄소수 6 내지 아릴기로 치환될 수 있다. 구체적으로， 하기 구조식의 화합물이 될 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에 있어서, 이미드기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나， 탄소수 1 내지 25인 것이 바람직하다. 구체적으로 하기와 같은 구조의 화합물이 될 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다.

본 명세서에 있어서， 실릴기는 구체적으로 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기， t-부틸디메틸실릴기， 비닐디메틸실릴기， 프로필디메틸실릴기, 트리페닐실릴기， 디페닐실릴기， 페닐실릴기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서， 붕소기는 구체적으로 트리메틸붕소기， 트리에틸붕소기， t-부틸디메틸붕소기, 트리페닐붕소기， 페닐붕소기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서， 할로겐기의 예로는 불소， 염소， 브롬 또는 요오드가 있다. 본 명세서에 있어서， 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고， 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 40인 것이 바람직하다, 일 실시상태에 따르면， 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면， 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 또 하나의 실시상태에 따르면， 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 6이다. 알킬기의 구체적인 예로는 메틸, 에틸， 프로필， n-프로필， 이소프로필， 부틸, n-부틸 이소부틸， tert-부틸， sec-부틸， 1-메틸-부틸， 1_에틸-부틸， 펜틸， n_펜틸， 이소펜틸， 네오펜틸， tert-펜틸, 핵실， n-핵실, 1-메틸펜틸， 2-메틸 틸， 4-메틸 -2-펜틸， 3 , 3-디메틸부틸， 2-에틸부틸， 헵틸， n-헵틸， 1-메틸핵실， 사이클로펜틸메틸， 사이클로핵틸메틸， 옥틸， n-옥틸， tert-옥틸， 1- 메틸헵틸， 2-에틸핵실， 2-프로필펜틸， n-노닐， 2 , 2-디메틸헵틸， 1-에틸- 프로필， 1 , 1-디메틸-프로필， 이소핵실, 2-메틸펜틸, 4-메틸헥실， 5- 메틸핵실 등이 있으나， 이들에 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고， 탄소수는 특별히 한정되지 않으나， 2 내지 40인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면， 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 10이다. 또 하나의 실시상태에 따르면， 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 6이다. 구체적인 예로는 비닐， 1-프로페닐， 이소프로페닐， 1-부테닐， 2-부테닐, 3-부테닐， 1-펜테닐， 2-펜테닐， 3-펜테닐， 3-메틸 -1-부테닐， 1，3-부타디에닐， 알릴， 1-페닐비닐 -1-일, 2-페닐비닐 -1-일， 2 , 2-디페닐비닐 -1-일, 2-페닐 -2- (나프틸 -1-일)비닐— 1-일， 2 , 2-비스 (디페닐 -1-일)비닐 -1-일, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나 이들에 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서， 사이클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나， 탄소수 3 내지 60인 것이 바람직하며， 일 실시상태에 따르면， 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 30이다. 또 하나의 실시상태에 따르면， 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면， 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 6이다. 구체적으로 사이클로프로필， 사이클로부틸， 사이클로펜틸， 3-메틸사이클로펜틸， 2，3- 디메틸사이클로펜틸， 사이클로핵실， 3-메틸사이클로핵실, 4- 메틸사이클로핵실， 2 , 3-디메틸사이클로핵실， 3，4，5-트리메틸사이클로핵실， 4-tert-부틸사이클로핵실， 사이클로헵틸, 사이클로옥틸 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 본 명세서에 었어서， 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 60인 것이 바람직하며， 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면， 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 30이다. 일 실시상태에 따르면， 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기， 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기， 안트라세닐기， 페난트릴기, 파이레닐기， 페릴레닐기， 크라이세닐기， 플루오레닐기 등이 될 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에 있어서, 플루오레닐기는 치환될 수 있고， 치환기 2개가 서로 결합하여 스피로 구조를 형성할 수 있다. 상기 플루오레닐기가 ，

등이 될 수 있다. 다만， 이에 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에 있어서， 헤테로고리기는 이종 원소로 0， N , Si 및 S 중 1개 이상을 포함하는 헤테로고리기로서， 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 2 내지 60인 것이 바람직하다. 헤테로고리기의 예로는 티오펜기， 퓨란기， 피를기， 이미다졸기， 티아졸기， 옥사졸기， 옥사디아졸기， 트리아졸기， 피리딜기， 비피리딜기， 피리미딜기， 트리아진기， 트리아졸기， 아크리딜기， 피리다진기， 피라지닐기, 퀴놀리닐기， 퀴나졸린기， 퀴녹살리닐기， 프탈라지닐기， 피리도 피리미디닐기， 피리도 피라지닐기， 피라지노 피라지닐기， 이소퀴놀린기， 인돌기， 카바졸기， 벤조옥사졸기， 벤조이미다졸기， 벤조티아졸기， 벤조카바졸기， 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기， 페난쓰를린기 (phenanthrol ine) , 티아졸릴기， 이소옥사졸릴기, 옥사디아졸릴기， 티아디아졸릴기， 벤조티아졸릴기， 페노티아지닐기 및 디벤조퓨라닐기 등이 있으나， 이들에만 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에 있어서， 아르알킬기， 아르알케닐기， 알킬아릴기， 아릴아민기 중의 아릴기는 전술한 아릴기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서， 아르알킬기, 알킬아릴기， 알킬아민기 중 알킬기는 전술한 알킬기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서, 헤테로아릴아민 중 헤테로아릴은 전술한 헤테로고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 아르알케닐기 중 알케닐기는 전술한 알케닐기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서， 아릴렌은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 헤테로아릴렌은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 헤테로고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서， 탄화수소 고리는 1가기가 아니고， 2개의 치환기가 결합하여 형성한 것을 제외하고는 전술한 아릴기 또는 사이클로알킬기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서， 헤테로고리는 1가가가 아니고， 2개의 치환기가 결합하여 형성한 것을 제외하고는 전술한 헤테로고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 한편 , 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다. 구체적으로， 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 1-4로 표시된다:

[화학식 1-1]

[화학식 1-4] 상기 화학식 1-1 내지 1-4에서 , ， , Yi 내지 Y ₃ , Ar _la , Ar _lb> Ar ₂ , Ri, R ₂ , nl 및 n2에 대한 설명은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다. 바람직하게는， 상기 화학식 1에서， 및 L ₂ 는 각각 독립적으로， 단일 결합; 또는 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₂₀ 아릴렌일 수 있다. 예를 들어， 및 L ₂ 는 각각 독립적으로， 단일 결합; 치환 또는 비치환된 페닐렌; 치환 또는 비치환된 나프틸렌; 또는 치환 또는 비치환된 바이페닐릴렌일 수 있다. 구체적으로 예를 들어， 및 L ₂ 는 각각 독립적으로， 단일 결합， 또는 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있다:

바람직하게는， 상기 화학식 1에서,

^은 N이고， Y ₂ 는 Ν이고, Υ ₃ 는 Ν이거나;

^은 Ν이고， Υ ₂ 는 Ν이고， Υ ₃ 는 CR ₃ 아거나;

^은 N이고， Y ₂ 는 CR ₃ 이고， Y ₃ 는 Ν이거나;

^은 Ν이고， Υ ₂ 는 CR ₃ 이고， Y ₃ 는 CR ₃ 이거나; 또는

^은 CR ₃ 이고, Y ₂ 는 CR ₃ 이고， Y ₃ 는 Ν일 수 있다. 바람직하게는， 상기 화학식 1에서，

^은 Ν이고, Υ ₂ 는 Ν이고， Υ ₃ 는 Ν이거나;

^은 Ν이고， Υ ₂ 는 Ν이고， Υ ₃ 는 CH이거나;

^은 Ν이고， Υ ₂ 는 CH이고, Υ ₃ 는 Ν이거나;

^은 Ν이고， Υ ₂ 는 CH이고, Υ ₃ 는 CH이거나; 또는

^은 CH이고， Υ ₂ 는 CH이고， Υ ₃ 는 Ν일 수 있다. 바람직하게는， 상기 화학식 1에서， Ar _la 및 八 는 각각 ^' 독립적으로， 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₂₀ 아릴; 또는 치환 또는 비치환된 N, 0 및 로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 포함하는 헤테로아릴일 수 있다. 예를 들어， Ar _la 및 는 각각 독립적으로， 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있다:

상기에서 ,

X ₂ 는ᄋ, S , NZ ₄ , 또는 CZ ₅ Z ₆ 이고，

Zi 내지 Z ₆ 은 각각 독립적으로， 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-20 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-20 할로알킬; 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₂₀ 아릴; 또는 치환 또는 비치환된 N, 0 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 헤테로아릴이고，

cl은 0 내지 5의 정수이고，

c2는 0 내지 4의 정수이고，

c3는 0 내지 3의 ,정수이다. 이때， cl은 ^의 개수를 나타낸 것으로서, cl이 2 이상일 경우， 2 이상의 ^은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. c2 및 c3에 대한 설명은 상기 cl에 대한 설명 및 상기 화학식의 구조를 참조하여 이해될 수 있다. 구체적으로 예를 들어， Ar _la 및 Ar _lb 는 각각 독립적으로， 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있다:

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또한， 상기 화학식 1에서， Ar ₂ 는 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₆₀ 아릴이다. 이때， 아릴은 비방향족 축합환을 포함하지 않는다. 구체적으로， 치환 또는 비치환된 플루오레닐기는 본 발명의 Ar ₂ 에서 제외된다. 바람직하게는， Ar ₂ 는 비치환되거나, 또는 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로; 아미노; 치환 또는 비치환된 d- ₆₀ 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-60 할로알킬; Si (¾) (¾) (¾) ; C(Q ₄ ) (Q ₅ ) (Q ₆ ) 및 C ₆ - ₆₀ 아릴로 구성되는 군으로부터 각각 독립적으로 선택되는 치환기로 치환된 C ₆ - ₆₀ 아릴이고，

여기서， Qi 내지 Q ₆ 은 각각 독립적으로， 수소; 중수소; 할로겐; 시아노 ; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 ^' 비치환된 d-20 알킬 ; 또는 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₂₀ 아릴일 수 있다. 예를 들어， Ar ₂ 는 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수있다:

상기에서，

Zn 내지 Ζ ₁₄ 는 각각 독립적으로， 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-60 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-eo 할로알킬; Si (¾) (¾) (¾) ; C(Q ₄ ) (¾) (¾) 및 C ₆ - ₆₀ 아릴이고，

여기서， ¾ 내지 ¾은 각각 독립적으로， 수소; 중수소; 할로겐; 시아노 ; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-20 알킬 ; 또는 치환 또는 비치환된 C ₆ - ₂₀ 아릴이고，

cll은 0 내지 5의 정수이고

cl2는 0 내지 7의 정수이고，.

cl3는 0 내지 9의 정수이고，

cl4는 0 내지 4의 정수이고，

cl5는 0 내지 3의 정수이고，

cl6은 0 내지 11의 정수이고，

cl7은 0 내지 9의 정수이고，

cl8은 0 내지 6의 정수이고，

cl9는 0 내지 12의 정수이다. 이때, cll은 Z _u 의 개수를 나타낸 것으로서， cll이 2 이상일 경우， 2 이상의 Z _u 은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. cl2 내지 cl9에 대한 설명은 상기 cll에 대한 설명 및 상기 화학식의 구조를 참조하여 이해될 수 있다. 바람직하게는， 상기에서 ¾내지 Q ₆ 은 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로; 아미노; 메틸; 또는 페닐일 수 있다. 구체적으로 예 어， Ar ₂ 는 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느

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또한， 상기 화학식 1에서， Ri 내지 ¾는 각각 독립적으로， 수소; 중수소; 시아노; 또는 치환 또는 비치환된 Cwo 알킬일 수 있다. 예를 들어， Ri 및 R ₂ 는 각각 독립적으로， 수소, 중수소， 시아노， 메틸, 또는 중수소로 치환된 메틸일 수 있고， ¾는 수소일 수 있다. 상기 화학식 1에서， nl은 의 개수를 나타낸 것으로서， nl이 2 이상일 경우， 2 이상의 ¾은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. n2에 대한 설명은 상기 nl에 대한 설명 및 화학식 1의 구조를 참조하여 이해될 수 있다.

예를 들에 상기 화합물은， 하기 화합물로 구성되는 군으로부터 선택될 수 있다: oz

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상기 화학식 1로 표시되는 화합물은， 디벤조퓨란 또는 디벤조티오펜 코어의 특정.위치에 피리디닐기， 피리미디닐기, 또는 트리아지닐기와 같은

N 원자 함유 헤테로아릴 치환기가 연결된 구조를 가지고， 디벤조퓨란 또는 디벤조티오펜 코어의 특정 위치에 방향족인 아릴 치환기가 연결됨으로써， 이를 이용한 유기 발광 소자는 플루오레닐기와 같은 비방향족 축합환기가 연결된 화합물을 이용한 유기 발광 소자에 비하여 고효율， 저 구동 전압 및 장수명 등을 나타낼 수 있다. 한편， 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 일례로 하기 반웅식 1과 같은 제조 방법으로 제조할 수 있다: 상기 반웅식 1에서， ， 1 ₂ , Yi 내지 Y ₃ , Aria , Ar _lb 및 Ar ₂ 에 대한 설명은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 반웅식 1을 참고하여 제조하고자 하는 화합물의 구조에 맞추어 출발 물질을 적절히 대체하여 제조할 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다. 일례로， 본 발명은 제 1 전극; 상기 게 1 전극과 대향하여 구비된 제 2 전극; 및 상기 게 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물 층을 포함하는 유기 발광 소자로서， 상기 유기물 층 중 1층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는， 유기 발광 소자를 제공한다. 본 발명의 유기 발광 소자의 유기물 층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나， 2층 이상의 유기물 층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대， 본 발명의 유기 발광 소자는 유기물 층으로서 정공 주입층， 정공 수송층， 발광층， 전자수송층， 전자 주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기층을 포함할 수 있다. 구체적으로， 상기 유기물층은 발광층을 포함할 수 있고， 상기 발광층은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. 이때， 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 발광층에서 호스트 물질로 사용될 수 있다. 또한， 본 발명에 따른 유기 발광 소자는， 기판 상에 양극， 1층 이상의 유기물 층 및 음극이 순차적으로 적층된 구조 (normal type)의 유기 발광 소자일 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 기판 상에 음극， 1층 이상의 유기물 층 및 양극이 순차적으로 적층된 역방향 구조 ( inverted type)의 유기 발광 소자일 수 있다. 예컨대， 본 발명의 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 구조는 도 1 및 2에 예시되어 있다. 도 1은 기판 ( 1)， 양극 (2)， 발광층 (3)， 음극 (4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다. 이와 같은 구조에 있어서， 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 발광층에 포함될 수 있다. 도 2는 기판 ( 1) , 양극 (2)， 정공 주입층 (5)， 정공 수송층 (6)， 발광층 (7)， 전자수송층 (8) 및 음극 (4)로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다. 이와 같은 구조에 있어서， 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 정공 주입층， 정공 수송층， 발광층 및 전자수송층 중 1층 이상에 포함될 수 있다. 본 발명에 따른 유기 발광 소자는， 상기 유기물 층 중 1층 이상이 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려져 있는 재료와 방법으로 제조될 수 있다. 또한， 상기 유기 발광 소자가 복수개의 유기물 층을 포함하는 경우， 상기 유기물 층은 동일한 물질 또는 다른 물질로 형성될 수 있다. 예컨대， 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 기판 상에 게 1 전극， 유기물 층 및 제 2 전극을 순차적으로 적층시켜 제조할 수 있다. 이때， 스퍼터링법 (sputter ing)이나 전자빔 증발법 (e—beam evaporat ion)과 같은 PVDCphys i cal Vapor Deposi t ion)방법을 이용하여， 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 양극을 형성하고， 그 위에 정공 주입층， 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층을 포함하는 유기물 층을 형성한 후， 그 위에 음극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시켜 제조할 수 있다. 이와 같은 방법 외에도， 기판 상에 음극 물질부터 유기물 층， 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 만들 수 있다. 또한 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자의 제조시 진공 증착법 뿐만 아니라 용액 도포법에 의하여 유기물 층으로 형성될 수 있다. 여기서， 용액 도포법이라 함은 스핀 코팅， 딥코팅, 닥터 블레이딩， 잉크젯 프린팅， 스크린 프린팅， 스프레이법， 롤 코팅 등을 의미하지만， 이들만으로 한정되는 것은 아니다. 이와 같은 방법 외에도， 기판 상에 음극 물질로부터 유기물 층 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 제조할 수 있다 (W0 2003/012890) . 다만， 제조 방법이 이에 한정되는 것은 아니다. 일례로, 상기 제 1 전극은 양극이고， 상기 제 2 전극은 음극이거나， 또는 상기 제 1 전극은 음극이고, 상기 제 2 전극은 양극이다. 상기 양극 물질로는 통상 유기물 층으로 정공 주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 상기 양극 물질의 구체적인 예로는 바나듐， 크름， 구리， 아연， 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물， 인듐주석 산화물 ( ΠΌ) , 인듐아연 산화물 ( IZ0)과 같은 금속 산화물; Ζη0:Α1 또는 SN0 ₂ : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리 (3- 메틸티오펜)， 폴리 [3，4- (에틸렌 -1 , 2-디옥시 )티오펜] (PED0T) , 폴리피를 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나， 아들에만 한정되는 것은 아니다. 상기 음극 물질로는 통상 유기물 층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 상기 음극 물질의 구체적인 예로는 마그네슘， 칼슘， 나트륨， 칼륨， 티타늄， 인듐，ᅳ 이트륨， 리튬， 가돌리늄, 알루미늄， 은， 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 Li0 ₂ /Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나， 이들에만 한정되는 것은 아니다. 상기 정공 주입층은 전극으로부터 정공을 주입하는 층으로， 정공 주입 물질로는 정공을 수송하는 능력을 가져 양극에서의 정공 주입효과， 발광층 또는 발광재료에 대하여 우수한 정공 주입 효과를 갖고， 발광층에서 생성된 여기자의 전자 주입층 또는 전자주입재료에의 이동을 방지하며， 또한， 박막 형성 능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 정공 주입 물질의 H0M0(highest occupied mol ecular orbi tal )가 양극 물질의 일함수와 주변 유기물 층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공 주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린 (porphyr in) , 올리고티오펜， 아릴아민 계열의 유기물， 핵사니트릴핵사아자트리페닐렌 계열의 유기물， 퀴나크리돈 (quinacr idone)계열의 유기물， 페릴렌 (perylene) 계열의 유기물， 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나， 이들에만 한정 되는 것은 아니다. 상기 정공 수송층은 정공 주입층으로부터 정공을 수취하여 발광층까지 정공을 수송하는 층으로， 정공 수송 물질로 양극이나 정공 주입층으로부터 정공을 수송받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 아릴아민 계열의 유기물， 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 상기 발광 물질로는 정공 수송층과 전자 수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서， 형광이나 인광에 대한 양자 효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로 8ᅳ히드록시-퀴놀린 알루미늄 착물 (Alq ₃ ) ; 카르바졸 계열 화합물; 이량체화 스티릴 (dimer i zed styryl ) 화합물; BAlq ; 10- 히드록시벤조 퀴놀린 -금속 화합물; 벤족사졸， 벤즈티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물; 폴리 (P-페닐렌비닐렌) (PPV) 계열의 고분자; 스피로 (spi ro) 화합물; 폴리플루오렌， 루브렌 등이 있으나， 이들에만 한정되는 것은 아니다. 상기 발광충은 호스트 재료 및 도펀트 재료를 포함할 수 있다. 호스트 재료로는 상술한 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. 그 외 추가적으로， 축합 방향족환 유도체 또는 헤테로환 함유 화합물 등을 더 포함할 수 있다. 구체적으로 축합 방향족환 유도체로는 안트라센 유도체， 피렌 유도체, 나프탈렌 유도체, 펜타센 유도체 페난트렌 화합물， 플루오란텐 화합물 등이 있고， 헤테로환 함유 화합물로는 카바졸 유도체， 디벤조퓨란 유도체， 래더형 퓨란 화합물， 피리미딘 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 도편트 재료로는 방향족 아민 유도체， 스트릴아민 화합물， 붕소 착체 _: 플루오란텐 화합물， 금속 착체 등이 있다. 구체적으로 방향족 아민 유도체로는 치환 또는 비치환된 아릴아미노기를 갖는 축합 방향족환 유도체로서， 아릴아미노기를 갖는 피렌, 안트라센， 크리센， 페리플란텐 등이 있으며， 스티릴아민 화합물로는 치환 또는 비치환된 아릴아민에 적어도 1개의 아릴비닐기가 치환되어 있는 화합물로, 아릴기， 실릴기， 알킬기， 사이클로알킬기 및 아릴아미노기로 이루어진 군에서 1 또는 2 이상 선택되는 치환기가 치환 또는 비치환된다. 구체적으로 스티릴아민.， 스티릴디아민, 스티릴트리아민， 스티릴테트라아민 등이 있으나， 이에 한정되지 않는다. 또한， 금속 착체로는 이리듐 착체， 백금 착체 등이 있으나， 이에 한정되지 않는다. 상기 전자 수송층은 전자 주입층으로부터 전자를 수취하여 발광층까지 전자를 수송하는 층으로 전자 수송 물질로는 음극으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서， 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 A1 착물; Alq ₃ 를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본 -금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 전자 수송층은 종래기술에 따라 사용된 바와 같이 임의의 원하는 캐소드 물질과 함께 사용할 수 있다. 특히， 적절한 캐소드 물질의 예는 낮은 일함수를 가지고 알루미늄층 또는 실버층이 뒤따르는 통상적인 물질이다. 구체적으로 세슘， 바륨， 칼슘， 이테르붐 및 사마륨이고， 각 경우 알루미늄 층 또는 실버층이 뒤따른다. 상기 전자 주입층은 전극으로부터 전자를 주입하는 층으로， 전자를 수송하는 능력을 갖고, 음극으로부터의 전자 주입 효과， 발광층 또는 발광 재료에 대하여 우수한 전자주입 효과를 가지며， 발광층에서 생성된 여기자의 정공 주입층에의 이동을 방지하고， 또한， 박막형성능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 구체적으로는 플루오레논， 안트라퀴노다이메탄， 다이페노퀴논， 티오피란 다이옥사이드, 옥사졸， 옥사다이아졸， 트리아졸， 이미다졸， 페릴렌테트라카복실산， 프레오레닐리덴 메탄， 안트론 등과 그들의 유도체， 금속 착체 화합물 및 질소 함유 5원환 유도체 등이 있으나， 이에 한정되지 않는다. 상기 금속 착체 화합물로서는 8-하이드록시퀴놀리나토 리튬， 비스 (8- 하이드록시퀴놀리나토)아연， 비스 (8-하이드록시퀴놀리나토)구리， 비스 (8- 하이드록시퀴놀리나토)망간， 트리스 (8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄， 트리스 (2-메틸 -8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄， 트리스 (8- 하이드록시퀴놀리나토)갈륨， 비스 (10—하이드록시벤조 [h]퀴놀리나토)베릴륨， 비스 (10-하이드록시벤조 [h]퀴놀리나토)아연 , 비스 (2-메틸 -8- 퀴놀리나토)클로로갈륨， 비스 (2-메틸 -8-퀴놀리나토) (0-크레졸라토)갈륨， 비스 (2-메틸 -8-퀴놀리나토) (1-나프를라토)알루미늄， 비스 (2-메틸 -8- 퀴놀리나토) (2-나프를라토)갈륨 등이 있으나， 이에 한정되지 않는다. 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형， 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다. 또한， 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자 외에도 유기 태양 전지 또는 유기 트랜지스터에 포함될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자의 제조는 이하 실시예에서 구체적으로 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며， 본 발명의 범위가 이들에 의하여 한정되는 것은 아니다.

브로모 -3-플루오로 -2-요오드벤젠 ( l-bromo-3-fluoro-2- iodobenzene)(100 g, 333.5 mmol), 5-클로로 -2-메톡시페닐보론산 ((5- chloro-2-methoxyphenyl )boronic acid)(62.2 g, 333.5 mmol)를 테트라하이드로퓨란 (THF)800 ml에 녹였다. 여기에 탄산나트륨 (Na ₂ C0 ₃ ) 2 M 용액 (500 mL), 테트라키스 (트리페닐포스핀)팔라듐 (0) [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](7.7 g, 6.7 隱 ol)을 넣고 12 시간 환류시켰다. 반웅이 끝난 후 상온으로 넁각시키고, 생성된 흔합물을 물과 를루엔으로 3회 추출하였다. 를루엔층을 분리한 뒤 황산마그네슘 (magnesium sulfate)으로 건조하여 여과한 여액을 감압증류하여 얻은 흔합물을 클로로품， 에탄올을 이용해 3희 재결정 하여 화합물 P-K53.7 g, 수율 51 %;MS:[M+H] ⁺ =314)을 얻었다.

P-1 P-2

화합물 P-l(50.0 g, 158.5 醒 ol)을 디클로로메탄 (Dichlorometahne)(600 ml)에 녹인 뒤 0 ^° C로 넁각시킨다. 보론트리브로마이드 (boron tr ibromide)(15.8 ml , 166.4 mmol)를 천천히 적가한 뒤 12시간동안 교반하였다. 반웅이 종료된 후 물로 3회 세척하고， 황산마그네슘 (magnesium sulfate)으로 건조하여 여과한 여액을 감압증류하고 컬럼크로마토크래피로 정제하여 화합물 P-2(47.4 g, 수율 99 %;MS:[M+H] ⁺ =300)을 얻었다.

P-2 P-3

화합물 P-2 0.0 g, 132.7 mmol)을 증류된 다이메틸뇨름아마이드 (DMF) (400ml)에 녹인다. 이를 0 ^° C로 넁각시키고， 여기에 나트륨 하이드리드 (sodium hydride) (3.5 g, 145.9 mmol) 를 천천히 적가하였다. 20분동안 교반한 뒤 10CTC에서 1시간동안 교반하였다. 반옹이 종료된 후 상온으로 넁각하고， 에탄올 (Ethanol) 100 ml을 천천히 넣었다. 위 흔합물을 감압증류 하여 얻은 흔합물을 클로로포름， 에틸아세테이트로 재결정하여 화합물 P-3(30.3 g, 수율 81 %;MS:[M+H] ⁺ =280)을 얻었다.

P'3 P-4

화합물 P-3(30.0 g, 106.6 隱 ol)을 테트라하이드로퓨란 (300 ml)에 녹인 후， 78 ^° C로 온도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리튬 (t-BuLi)(62.7 ml, 106.6 誦 ol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리아이소프로필보레이트 (B(0iPr) ₃ )(28.3 ml, 213.1 醒 ol)을 가하고, 상온으로 은도를 서서히 올리면서 3시간동안 교반하였다. 반응 흔합물에 2 N 염산수용액 (200 ml)을 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르 (ethyl ether)로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조후 에틸에테르에 분산시켜 두 시간 동안 교반한 후 여과하고 건조하여 화합물 P-4(24.4 g, 수율 93 ； MS:[M+H] ⁺ =247)을 제조하였다.

P-4 P-5 화합물 P-4(20.0 g, 81.2 mmol)과 2-chloro-4,6_diphenyl-l,3,5- triazine(21.8 g, 81.2 匪 ol)을 테트라하이드로퓨란 (250 ml)에 분산시킨 후， 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K ₂ C0 ₃ )(33.6 ml, 243.5 醒 ol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](1.9 g, 2 mol%)을 넣은 후 4시간 동안 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다ᅳ 여과된 고체를 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤， 건조하여 화합물 P-5(32.4 g, 수율 92 %; MS:[M+H] ⁺ =434)를 제조하였다.

화합물 P-5(30 g, 69.2 隱 ol) 비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(19.3 g, 76.1 mmol) 포타슘아세테이트 (potassium acetate) (20.4 g, 207.5 mmol), 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](1.6 g, 2 η )1¾)을 테트라하이드로퓨란 (300 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반웅이 종료된 후 상온으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슘 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 P-6(34.5 g, 수율 95 %； MS: [M+H]+=526)을 제조하였다.

화합물 P-6(20.0 g, 38.1 mmol)과 2-브로모페난트렌 (2- bromophenanthrene)(9.8 g, 38.1 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (250 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K ₂ C0 ₃ )(57.2 ml, 114.3 mmol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](1.4 g, 2 mol%)을 넣은 후 5시간 동안 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다. 여과된 고체를 클로로포름과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤， 건조하여 화합물 1(17.8 g, 수율 81 %； MS:[M+H] ⁺ =576)을 제조하였다.

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 9-브로모페난트렌 (9- bromophenanthrene)(9.8 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 2(18.4g, 수율 84 ； MS:[M+H] ⁺ =576) 을 제조하였다.

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene ) 대신

페닐나프탈렌 (l-brotno-4-phenylnaphthalene)(10.8 g, 38

것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 3(18

MS:[M+H] ⁺ =602) 을 제조하였다.

P-6

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-브로모트리페닐렌 (2- bromotriphenylene)(11.7 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 4(2ᄂ0 g, 수율 88 %； MS:[M+H] ⁺ =626) 을 제조하였다.

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 9-(4- 브로모페닐)페난트렌(9-(4ᅳ13 厦)1)1 1^1)1)1 11£1 11^1 )(12.7 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 11(19.9 g, 수율 80 %； MS:[M+H] ⁺ =652) 을 제조하였다. 합성예 1-6: 화합물 12의 제조

il합물 12

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 9-(2_브로모 -[1， 1'- 바이페닐] -2-일)페난트렌 (9-(2 ¹ -bromo- [1,1' -bi phenyl ] _2—

yl)phenanthrene)(15.6 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 12(22.5 g, 수율 81 ； MS:[M+H] ⁺ =728) 을 제조하였다.

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 7_(4-브로모페닐) -10- 페닐플로란텐 (7-(4-bromophenyl)— 10— phenylf luoranthene)(16.5 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 13(21.8 g, 수율 76 %; MS:[M+H] ⁺ =752) 을 제조하였다. 합성예 1-8: 화합물 25의 제조

- 25

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthr ene ) 대신 ( (4- 브로모페닐)메탄트리일)트리벤젠 (( (4- bromophenyl )methanetriyl )tribenzene)(15.2 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 25(24.3 g, 수율 89 MS:[M+H] ⁺ =718) 을 제조하였다.

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4-브로모 -1,1' :3'，1 터페닐 (4-bromo-l,l' :3' ,1' '-terpheny 1)(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 26(19.9 g, 수율 83 MS:[M+H] ⁺ =628) 을 제조하였다. 합성예 1-10: 화합물 28의 제조

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4-브로모 -5 '―페닐- 1,1' :3' ,1' '-터페닐 (4-bromo-5' -phenyl L,l'：3' ,1' ' -ter phenyl ) (14.7 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 28(21.7 g, 수율 81 %； MS:[M+H] ⁺ =704) 을 제조하였다.

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4'' '-브로모- 1,1'：3',1' ' :4' '，1' ' '-쿼터페닐 (4' ' '-bromo-1,1'：3'，1' '：4' ¹ ，1' ' '― quaterphenyl)(14.7 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 46(22.3 g, 수율 83 ； MS: [M+H] ⁺ =704) 을 제조하였다. 합성예 1-12: 화합물 55의 제초

P-6 화합울 55

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 3-브로모 -1， 1' :4'， 1' '- 터페닐 (3-brom으 1，1' :4' ,1' '-terphenyl)(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 55(20.6 g, 수율 86 ； MS:[M+H] ⁺ = 628) 을 제조하였다. -13: 화합물 57의 제조

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 9-(3- 브로모페닐)페난트렌 (9-(3-bromophenyl)phenanthrene)(12.7 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 57(20.4 g, 수율 82 ； MS:[M+H] ⁺ =652) 을 제조하였다. 합성예 1-14: 화합물 62의 제조

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 3-브로모 5'—페닐- 1，1'：3',1' '―터페닐^-！ ^ 으^- 니 ¹ :3'，1' '-terphenyl)(14.7 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 62(22.3 g, 수율 83 %; MS: [M+H] ⁺ =704) 을 제조하였다.

화합을 65

2-브로모페난트렌 (2— broniophenanthrene) 대신 5'-브로모- 1,1' :3' ,1' '：3' ' ,1' ¹ '-쿼터페닐 (5'— bromo— 1，1'：3',1' '：3' ' ,1' ¹ '―

quaterphenyl)(14.7 g, 38.1 醒 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 65(21.7 g, 수율 81 %; MS:[M+H] ⁺ =704) 을 제조하였다. 합성예 1-16: 화합물 66의 제조

화합물 66

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2—브로모-

1,1'：3',1' ' :3' ' ,1' ¹ '-쿼터페닐 (2-bromo-l,l'：3',1' '：3' ' 1' ¹ '―

quaterphenyl)(14.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 66(20.6 g, 수율 77 %; MS:[M+H] ⁺ =704) 을 제조하였다.

화합을樹

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4,4' ,4' '-((4- 브로모페닐)메탄트리일)트리스 (메틸벤젠) (44' ,4' '-((4- bromopheny 1 )methanet r iy 1 ) t r i s (methyl benzene) ) ( 16.9 g, 38.1 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 68(22.9 g, 수율 79 %； MS:[M+H] ⁺ =760) 을 제조하였다.

2—브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 5 '-(4-브로모페닐) )― 1,1'：3',1' '-터페닐 -2,2' '，3,3' '，4，4' '，5，5' '，6，6' '—디 10

( 5 ' - ( 4-br omopheny 1 )-1,1' :3' , 1 ' '—terphenyl—

2,2" ,3,3" ,4,4' ¹ ,5,5" ,6,6' '-dl0)(15.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 72(20.7 g, 수율 76 %; MS:[M+H] ⁺ =714) 을 제조하였다.

합물 81

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 3—(3_ 브로모페닐)페난트렌 (3-(3-bromophenyl)phenanthrene)(12.7 g, 38.1 隱 ol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 81(18.9 g, 수율 76 %； MS:[M+H] ⁺ =652) 을 제조하였다. -20: 화합물 59의 제조

2-브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 2-(3- 브로모페닐)트리페닐렌 (3-(2-(3-bromophenyl)triphenylene)(14.6 g, 38.1 匪 ol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 59(19.5 g, 수율 73 %； MS:[M+H] ⁺ =702) 을 제조하였다.

2—브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 5'-브로모-

1，1' :3'，1' '-터페닐 (5'— bromo-1,1' :3' ,1' '― terphenyl)(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 45(19.4 g, 수율 81 %; MS:[M+H] ⁺ = 628) 을 제조하였다. 합성예 1-22: 화합물 54의 제조

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 5'-브로모-

1,1'：3',1' '：4' ',Ι' ' '-쿼터페닐 (5'-bromo-l,l' :3'，1' ' :4' '，1' ' '- quaterphenyl)(14.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 54(21.2 g, 수율 79 %； MS:[M+H] ⁺ =704) 을 제조하였다.

화합울 29

2—브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-브로모 -1，1'- 비페닐 (2-bromo-l,l'-biphenyl)(8.9 g, 38.1 圆 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 29(15.6 g, 수율 74 ； MS: [M+H] ⁺ =552) 을 제조하였다. 합성예 2: 중간체 화합물 P-8의 제조

P-4 P-7

화합물 P-4(40.0 g, 162.3 mmol)과 2-([l,l'-biphenyl]-4-yl)-4- ch 1 or ο-6-pheny l-l,3,5-triazine(55.8 g, 162.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (500 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K ₂ C0 ₃ )(67.2 ml, 486.9 隱 ol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](3.8 g, 2 ηω1¾)을 넣은 후 4시간 동안 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다ᅳ 여과된 고체를 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤， 건조하여 화합물 P-7(73.7 g, 수율 89 %; MS:[M+H

비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(38.6 g, 152.13 mmol) 포타슴아세테이트 (potassium acetate)(40.7 g, 414.9 mmol) , 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](3.2 g, 2 mol%)을 테트라하이드로퓨란 (600 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반응이 종료된 후 상온으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슴 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 P-8(75.7 g, 수율 91 %； MS:[M+H] ⁺ =602)을 제조하였다.

P-8

화합물 P-6 대신 화합물 P-8(22.9 g, 38.1 画 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(3-브로모페닐)나프탈렌 (2- (3-bromopheny 1 )naphthal ene) ( 10.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 9(19.9 g, 수율 77 ； MS:[M+H] ⁺ = 678) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 P-8(22.9 g, 38.1 mmol ) , 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4ᅳ브로모 -1，1' :4'，] 터페닐 (4-bromo-l,l'：4',1' '-terphenyl )(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 27(21.2 g, 수율 79 MS:[M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다.

화합물 P-4(40.0 g, 162.3 mmol)과 2-([l,l'-biphenyl]-3-yl)-4- chloro-6-phenyl-l,3,5-triazine(55.8 g, 162.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (500 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K ₂ C0 ₃ )(67.2 ml, 486.9 讓 ol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](3.8 g, 2 mol%)을 넣은 후 4시간 동안 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다. 여과된 고체를 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤, 건조하여 화합물 P-9(69.5 g, 수율 84 ； MS:[M+H] ⁺ =510)를 제조하였다.

P-9

화합물 P-9(70.5 g, 138.3 腿 ol) 비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(38.6 g, 152.13 mmol) 포타슘아세테이트 (potassium acetate)(40.7 g, 414.9 mmol), 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](3.2 g, 2 mol«을 테트라하이드로퓨란 (600 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반웅이 종료된 후 상은으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슘 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 P-KK73.5 g, 수율 88 %； MS:[M+H] ⁺ =602)을 제조하였다.

P-10

화합물 P-6 대신 화합물 P-KK22.9 g, 38.1 讓 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-브로모트리페닐렌 (2- bromotriphenylene)(11.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 6(20.3 g, 수율 76 %; MS:[M+H] ⁺ = 702) 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 P-10(22.9 g, 38.1 mmol), 2— 브로모페난트렌 ( 2-bromophenant hr ene ) 대신 4-브로모 -1，1' :4' ,1' '-터페닐- 2' '，3' '，4' ' ,5' '，6' '-디 5(4-bromo-l,l ：4' , 1 ' ' -terphenyl -

2' '，3' ' ,4' ' ,5' '，6' '― d5)(12.0 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 36(21.1 g, 수율 78 ^' , MS:[M+H] ⁺ = 709) 을 제조하였다.

브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 ( 1— [ 1， 1 '비페닐 ] -2-일)— 4- 브로모니프탈렌 (l-([l,l'-biphenyl]— 2-yl)-4-bromonaphthalene)(13.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 49(20.4 g, 수율 71 ； MS:[M+H] ⁺ = 754) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 P-10(22.9 g, 38.1 mmol), 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4-브로모 -1， 1 ' :4'， 1 ' 터페닐 (4-broir -l,l' :4' ,1' '-terpheny 1)(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 61(19.8 g, 수율 74 MS:[M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다. 합성예 3-5: 화합물 70의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 P-10(22.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 6'-브로모-

1,1'：3',1' '：4' ',Ι' ' '—쿼터페닐 (6'-bromo— 1,1'：3',1' '：4' '，1' ' '- quater phenyl )(14.7 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 70(20.2 g, 수율 68 ； MS:[M+H] ⁺ = 780) 을 제조하였다.

5-클로로 -2-메록시페닐보론산 ( (5-chloro-2-methoxypheny 1 )boroni c acid)(62.2 g, 333.5 隱 ol) 대신 (2-메특시페닐)보론산 ((2- methoxypheny 1 )boroni c acid)(50.7 g, 333.5 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1과 동일한 방법으로 화합물 Q- 81.6 g, 수율 87 %;MS:[M+H] ⁺ =280)을 얻었다.

Q-1 Q-2

화합물 P-K85.0 g, 269.4 mmol) 대신 화합물 Q_l(75.7 g, 269.4 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1과 동일한 방법으로 화합물 Q-2(71.2 g, 수율 99 >;MS:[M+H] ⁺ =266)을 얻었다.

Q-2 Q-3

화합물 P-2(80.0 g, 265.3 匪 ol) 대신 화합물 Q-2(70.9 g, 265.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1과 동일한 방법으로 화합물 Q— 3(62.3 g, 수율 95 %;MS:[M+H] ⁺ =246)을 얻었다.

Q _' 3 Q-4

화합물 Q-3(40 g, 161.9 隱 ol)를 아세트산 (acetic acid) 200 ml에 용해시킨다. 여기에 요오드 (4.16 g, 81.0 匪 ol), 요오드산 (6.3 g, 36.0 mmol), 황산 (10 ml)을 넣고 65 ^° C에서 3 h 동안 교반하였다. 반응이 종료된 후 상온으로 식히고， 물을 첨가한다. 생성된 고체를 필터하고 물로 세척한 뒤 를루엔과 에틸아세테이트로 재결정하여 화합물 Q-4(50.1 g, 수율 83 %； MS： [M+H] ⁺ =372 )을 얻었다. 합성예 4-1: 중간체 화합물 Q-5의 제조

Q-5

화합물 Q-4(30 g, 80.4 mmol), 4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen- 2-y 1 ) - 1 , 3 , 2-d i oxabor o 1 ane (28.5 g, 80.4 mmol) 를 테트라하이드로퓨란 (THF)300 ml에 녹였다. 여기에 탄산나트륨 (Na ₂ C0 ₃ ) 2 M 용액 (120 mL), 테트라키스 (트리페닐포스핀)팔라듐 (0) [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](1.9 g, 2 mol%)을 넣고 6 시간 환류시켰다. 반웅이 끝난 후 상온으로 냉각시키고， 생성된 흔합물을 물과 를루엔으로 3회 추출하였다. 를루엔층을 분리한 뒤 황산마그네슘 (magnesium sulfate)으로 건조하여 여과한 여액을 감압증류하여 얻은 흔합물을 클로로품， 에틸아세테이트를 이용해 재결정 하여 화합물 Q— 5(28.9 g, 수율 76 WIS: [M+H] ⁺ =473)을 얻었다.

Q-5

Q-6

화합물 Q-5(25 g, 52.8 隨 ol) 비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(14.9 g, 58.1 mmol) 포타슴아세테이트 (potassium acetate) (15.5 g, 158.4 mmol), 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh ₃ ) ₄ ] (1.2 g, 2 mol%)을 테트라하이드로퓨란 (300 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반웅이 종료된 후 상온으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슘 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 Q-6C25.0 g, 수율 91 %； MS:[M+H] ⁺ =521)을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 2,4-diphenyl-6-(3-(4,4,5,5-tetramethyl-l,3,2- d i oxabor o 1 an-2-y 1 ) heny l)-l,3,5-triazine(16.6 g, 38.1 mmol ) , 2— 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 화합물 Q-5(18.0 g, 38.1 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 7(19.0 g, 수율 71 ； MS:[M+H] ⁺ = 702) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-6(19.8 g, 38.

브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신

( d i benzo [b,d] fur an— 4— y 1 )一 6— pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 13.6 g 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 8(19.9 g, 수을 73 %； MS:[M+H] ⁺ = 716) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-6 19.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-

( d i benzo [ b , d] t h i ophen-3-y 1 ) -6-pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 14.2 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 19(19.5 g, 수율 70 %； MS:[M+H] ⁺ = 732) 을 제조하였다.

Q-6 화합물 48 화합물 P-6 대신 화합물 Q-6 19.8 g, 38.1 瞧 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4- (4_ch lor으 6— phenyl— 1， 3,5— t r i az i η-2-y 1 ) -9-pheny 1 -9H-car bazo 1 e ( 16.5 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 48(22.3 g, 수율 74 ； MS:[M+H] ⁺ = 791) 을 제조하였다.

화합울 58 화합물 P-6 대신 화합물 Q-6(19.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(2-bromophenyl )-4-

(dibenzo[b，d]furan— 4— yl)— 6— phenyl— 1,3,5— tr.iazi g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 58(18.7 g, 수율 62 %; MS:[M+H] ⁺ = 792) 을 제조하였다.

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 4,4,5,5_tetramethyl-2- ( henant hr en-2-y l)-l,3,2-dioxaborolane(24.5 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-7(20.0 g, 수율 59 %； MS:[M+H]+= 423) 을 제조하였다.

Q-7 화합물 Q_5(25 g, 52.8匪 ol) 대신 화합물 Q_7(22.4 g, 52.8隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-8(21.6 g, 수율 87 %； MS:[M+H] ⁺ = 471) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-8U7.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2— (4-chlorophenyl )-4- ( d i benzo [ b , d ] f ur an-4-y 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(16.5 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 10(18.4 g, 수율 65 %； MS:[M+H] ⁺ = 742) 을 제조하였다. 합성예 5-4: 화합물 15의 제조

Q-8 화합을 15

화합물 P-6 대신 화합물 Q-8 17.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-(4-(9,9-dimethyl- 9H- f 1 uor en- 1-y 1 ) heny 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(17.5 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 15(15.8 g, 수율 54 %； MS: [M+H]+= 768) 을 제조하였다.

Q-9

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor 0 lane (28.5 g, 80.4 mmol) 대신 4,4, ⁵ ,5-tetramethyl- ² - ( henant hr en-9-y 1 ) - 1 , 3 , 2-d i oxabor o 1 ane (24.5 g, 80.4 mmol ) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-9(20.8 g, 수율 61 %; MS:[M+H] ⁺ = 423) 을 제조하였다. 합성예 6-2: 중간체 화합물 Q-10의 제조

Q-9 d-10

화합물 Q_5(25 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-7(22.4 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-10(21.1 g, 수율 85 %； MS:[M+H] ⁺ = 471) 을 제조하였다.

화합물 P— 6 대신 화합물 Q-8 17.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-broiTOphenanthrene) 대신 2-(3-chlorophenyl )— 4- ( d i benzo [ b , d ] f ur an-3-y 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(16.6 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 50(14.4 g, 수율 51 ； MS:[M+H] ⁺ = 742) 을 제조하였다.

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- di oxaboro lane (28.5 g, 80.4 mmol) 대신 2— (chrysen-S-y -HS.S- tetramethyl-l ^-dioxaborolane S g, 80.4 mraol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-1K23.6 g, 수율 62 %； MS:[M+H] ⁺ = 473) 을 제조하였다.

Q-11 Q -12

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 匪 ol) 대신 화합물 Q-ll(25.0 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-12(22.5 g, 수율 82 %; MS:[M+H] ⁺ = 521) 을 제조하였다.

화합물 14

화합물 P-6 대신 화합물 Q— 12(17.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(2-chlorophenyl )-4- (dibenzo [b , d] f uran-l-y 1 )-6-phenyl-l , 3 , 5-t r i azine( 16.5 g, 38.1 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 14(14.5 g, 수율 48 %； MS:[M+H] ⁺ = 792) 을 제조하였다.

Q-13

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 隱 ol) 대신 4,4,5,5-tetramethyl-2-(4- ( henant hr en-9-y 1 ) heny 1 ) - 1 , 3 , 2-d i oxabor o 1 ane (30.6 g, 80.4 mmol ) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-13(29.3 g, 수율 73 ； MS:[M+H] ⁺ = 499) 을 제조하였다.

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 匪 ol) 대신 화합물 Q-13(26.4 g, 52.8 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-14(24.5 g, 수율 85 %； MS:[M+H]+= 547) 을 제조하였다. 합성예 8-3: 화합물 17의 제조

Q-14

화합울 17

화합물 P-6 대신 화합물 Q-14(20.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-([l,l'-biphenyl]-2-yl)-4- chloro-6-phenyl-l,3,5-triazine(13.1 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 17(18.9 g, 수율 68 ； MS:[M+H] ⁺ = 728) 을 제조하였다.

Q-15

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 隱 ol) 대신 2-( [1， 1 ' -biphenyl ]— 4-yl )- 4,4,5,5-tetramethyl-l,3,2-dioxaborolane(22.5 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-15(25.7 g, 수율 80 ¾; MS:[M+H] ⁺ = 399) 을 제조하였다. 합성예 9-2: 중간체 화합물 Q-16의 제조

Q-15 Q-16

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 醒 ol) 대신 화합물 Q-13(21.1 g, 52.8 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-16(20.3 g, 수율 86 %； MS:[M+H] ⁺ = 447) 을 제조하였다.

화합울 30

화합물 P-6 대신 화합물 Q-16U7.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 2-chloro_4-(3—

(dibenzo [b,d] furan-l-yl ) henyl ) -6-pheny 1-1 ,3,5-triazine(16.5 g, 38.1 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 30(18.9 g 수율 69 ； MS:[M+H] ⁺ = 718) 을 제조하였다. 합성예 9-4: 화합물 39의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 Q-16 17.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenantlirene) 대신 2-([1，1' :3'，1' '-terphenyl]- 5 ' -y 1 ) -4-ch 1 or ο-6-pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 16.0 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 39(17.4 g, 수율 65 ； MS:[M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-16 17.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(3-chlorophenyl ^ ^-(g^- cl i me t hy 1 -9H- f 1 uoren-3-y 1 ) heny 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(20.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 44(19.4 g 수율 62 %； MS:[M+H] ⁺ = 820) 을 제조하였다.

화 울 63

화합물 P-6 대신 화합물 Q— 16(17.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 2— ([1，1' :3'，1' '-terphenyl]-4— y 1 ) -4-ch 1 or ο-6-pheny 1 - 1 , 3 , 5- 1 r i az i ne ( 16.0 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 63(17.4 g, 수율 65 %； MS:[M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-16(17.0 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 2-chloro_4-(3-

( d i benzo [ b , d ] f ur an-4-y 1 ) heny 1 ) -6-pheny 1-1,3,5-triazine (16.5 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 64(17.5 g, 수율 64 %； MS:[M+H] ⁺ = 718) 을 제조하였다. 합성예 9-8: 화합물 74의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 Q-16(17.0 g, 38.1 醒 ol), 2— 브로모페난트렌 (2-bromophenan1;hrene) 대신 2-(4-chlon)phenyl)-4— ( d i benzo [ b , d ] t h i ophen-2-y 1 ) -6-pheny 1-1,3,5-triazine (17.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 74(17.3 g, 수율.62 %； MS:[M+H] ⁺ = 734) 을 제조하였다.

Q-17

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 瞧 ol) 대신 6'— chloro— 1,1' :3'，1' ' :4' '，1' ' '一 quater henyl (27.4 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-17(28.0 g, 수율 63 ； MS:[M+H] ⁺ = 551) 을 제조하였다. 합성예 10-2: 중간체 화합물 Q-18의 제조

CM 7 Q-18 화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-17(29.1 g, 52.8 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-18(25.9 g, 수율 82 %； MS:[M+H] ⁺ = 599) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-18(22.8 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 4-chloro— 2,6- diphenylpyrimidine(10.2 g, 38.1 誦 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 31(18.2 g, 수율 68 %； MS:[M+H] ⁺ = 703) 을 제조하였다. 합성예 11-1: 중간체 화합물 Q-19의 제조

Q-19

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 2-( [1， 1' :2'， 1' '— terphenyl]-2- yl)-4,4,5,5-tetramethyl-l,3,2-dioxaborolane(28.6 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-19(25.2 g, 수율 66 %; MS:[M+H] ⁺ = 475) 을 제조하였다.

Q-20

Q-19

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-19(25.1 g, 52.8 醒 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-20(22.1 g, 수율 80 %； MS:[M+H] ⁺ = 523) 을쩨조하였다. 합성예 11-3: 화합물 32의 제조

51합울 32

화합물 p-6 대신 화합물 Q-20C19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-(naphthalen-l— yl )- 6-pheny 1 -1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 12.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 32(15.8 g, 수율 61 ； MS:[M+H] ⁺ = 678) 을 제조하였다.

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 [1，1' :4'，1' '-terphenyl]_3- ylboronic acid(22.0 g, 80.4 醒 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-2K27.1 g, 수율 71 ； MS:[M+H] ⁺ = 475) 을 제조하였다. 합성예 12-2:중간체 화합물 Q-22의 제조

화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-21(25.1 g, 52.8 誦 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-22(21.5 g, 수율 78 %； MS:[M+H] ⁺ = 523) 을 제조하였다.

화 if울 33

화합물 P— 6 대신 화합물 Q-22U9.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro— 4-

(dibenzo[b , d] furan-l-yl )-6-pheny 1-1 , 3 , 5 ^~ tr i azine( 13.6 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 33(18.8 g, 수율 69 ； MS:[M+H] ⁺ = 718) 을 제조하였다. 합성예 12-4: 화합물 67의 제조

화 ϋ튤 67

화합물 Ρ-6 대신 화합물 Q-22(19.9 g, 38.1 匪 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2_chloro-4_

(dibenzo[b,d]fur an-2-y 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(13.6 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 67(17.2 g, 수율 63 %； MS:[M+H] ⁺ = 718) 을 제조하였다.

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 [1，1' :3'，1' '-terphenyl]-3_ ylboronic acid(22.0 g, 80.4 匪 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-23(24.5 g, 수율 64 %； MS:[M+H] ⁺ = 475) 을 제조하였다. 합성예 13-2: 중간체 화합물 Q-24의 제조

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-23(25.1 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q— 24(20.7 g, 수율 75 %; MS:[M+H] ⁺ = 523) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-24 19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenan1;hrene) 대신 2-(4-chlorophenyl ^S- diphenyl-U^-tr iazine(13.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 34(19.6 g, 수율 73 %; MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다. 합성예 13-4: 화합물 69의 제조

화합물 69

화합물 P-6 대신 화합물 Q-24(19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(3— chlorophenyl ^ ^- diphenyl-U^-triazine lS.1 g, 38.1 睡 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 69(18.8 g, 수율 70 ； MS:[M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다.

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor o 1 ane (28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 [ 1 , 1 ' -b i pheny 1 ] -3-y 1 bor on i c acid(15.9 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-25(21.8 g, 수율 68 %; MS:[M+H] ⁺ = 399) 을 제조하였다. 합성예 14-2: 중간체 화합물 Q-26의 제조

화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-25(21.1 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q_26(16.5 g, 수율 70 ； MS:[M+H] ⁺ = 447) 을 제조하였다.

화합울 35

화합물 P-6 대신 화합물 Q-26(19.9 g, 38.1 瞧 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-( [1, 1 ' :2 '， Γ '— terphenyl ]-3- y 1 ) -4-ch 1 or ο-6-pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 16.0 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 35(17.4 g, 수율 65 %; MS:[M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다. 합성예 14-4: 화합물기의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 Q-26(19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-broiTK)phenanthrene) 대신 2-([1，1' :3'，1' '-terphenyl]一 3- y 1 ) -4-ch 1 or ο-6-pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 16.0 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 71(15.8 g, 수율 59 %; MS:[M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다.

Q-27

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 (4-(triphenylen_2ᅳ yDphenyOboronic acid(28.0 g, 80.4 誦 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-27(27.4 g, 수율 62 %； MS:[M+H] ⁺ = 549) 을 제조하였다. 8의

Q-27 Q-28

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-27(29.0 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-28(26.1 g, 수율 83 %； MS:[M+H] ⁺ = 597) 을 제조하였다.

화합물 P-6 .대산 화합물 Q-28U9.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromoplienanthrene) 대신 2-(4-chlorophenyl ^ S- diphenyl-HS-triazineaS.1 g, 38.1 醒 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 47(20.2 g, 수율 68 ； MS:[M+H] ⁺ = 778) 을 제조하였다. 합성예 16-1: 중간체 화합물 Q-29의 제조

Q-29

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor o 1 ane ( 28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 chr y s en-2-y 1 bor on i c acid(21.9 g, 80.4 腿 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q- 29(22.5 g, 수율 59 %； MS:[M+H] ⁺ = 473) 을 제조하였다.

화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-29(25.0 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-30(23.9 g, 수율 87 %； MS:[M+H] ⁺ = 521) 을 제조하였다. 합성예 16-3: 화합물 51의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 Q-30(19.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4—

(dibenzo[b , d] thiophen-2-yl )—6— phenyl— 1 ,3,5-tr iazine(14.2 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 51(17.0 g 수율 61 %； MS:[M+H] ⁺ = 732) 을 제조하였다.

Q-31

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor o l ane (28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 (3al,5al— dihydropyren— 1一 yDboronic acid(19.9 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4—1과 동일한 방법으로 화합물 Q-3K22.8 g, 수율 63 %； MS:[M+H] ⁺ = 449) 을 제조하였다. 합성예 17-2: 중간체 화합물 Q-32의 제조

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 隱 ol) 대신 화합물 Q_31(23.7 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-32(22.3 g, 수율 85 %； MS:[M+H] ⁺ = 497) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-32(18.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-(9,9-dimethyl-9H- f luoren— l—yl)—6— phenyl— 1，3,5— triazine(14.6 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 52(17.0 g, 수율 62 ； MS:[M+H] ⁺ = 718) 을 제조하였다. 합성예 18-1: 중간체 화합물 Q-33의 제조

Q-33

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 (3_tr itylphenyl )boronic acid(29.3 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4—1과 동일한 방법으로 화합물 Q-33C27.3 g, 수율 60 %； MS:[M+H] ⁺ = 565) 을 제조하였다.

Q-33 Q" ³⁴

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 瞧 ol) 대신 화합물 Q-33(13.4 g, 52.8 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-34(28.1 g, 수율 87 ； MS:[M+H] ⁺ = 613) 을 제조하였다.

브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2— chloro-4-(9,9-dimethyl-9H- f luoren-4-yl )-6-phenyl-l,3,5— triazine(14.6 g, 38.1 隱 o 을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 56(20.3 g, 수율 64 %； MS:[M+H] ⁺ = 834) 을 제조하였다.

Q-35

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 [1， 1 ' :4'， 1 ' ¹ -terphenyl ]-4- ylboronic acid(22.0 g, 80.4 隱 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-35(21.0 g, 수율 55 %； MS:[M+H] ⁺ = 475) 을 제조하였다.

g, 수율 89 %; MS:[M+H]+= 523) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-36 19.9 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4-chloro_2,6- diphenylpyrimidine(10.2 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 75(16.0 g, 수율 67 %; MS:[M+H] ⁺ = 627) 을 제조하였다.

R-1

1—브로모 -3-아이오도벤젠 (l-bromo-3-iodobenzene)(50 g, 176.7醒 ol) 2-브로모싸이오페놀 (2-Bromothiophenol)(40.1 g, 212.0 mmol) 을 에탄을 (EtOH) 500ml에 분산시키고 Na0H(9.2g, 229.7 mmol) 을 넣은 뒤， 6시간동안 환류시켰다. 반응이 종료된 후 상은으로 식히고， 물을 넣고 추출하여 얻은 유기층을 감압증류한 흔합물을 시리카겔에 필터하여 화합물 R-K48.6 g, 수율 80 %； MS:[M+H]+= 342) 을 제조하였다. . 화합물 R-U40.0 g, 116.3 mmol)을 다이클로로메탄 (DCM) 500 ml에 녹인 뒤， DDQ(2,3-dichloro— 5,6ᅳ dicyano-1,4— berizoquinone)(31.6 g, 140.0 隱 ol)을 넣고 상온에서 24시간동안 교반하였다. 반응이 종료된 후 과량의 물을 이용하여 3회 추출한다. 유기층을 황산마그네슘 (magnesium sulfate)로 건조한 뒤 감압증류하여 얻은 흔합물을 숏컬럼으로 정제하여 화합물 R- 2(21.7 g, 수율 71 %; MS:[M+H] ⁺ = 262) 을 제조하였다.

R-2 R-3

화합물 R-2(20 g, 76.0 匪 ol)을 테트라하이드로퓨란 (250 ml)에 녹인 후， -78 ^° C로 온도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리튬 (t-BuLi)(44.7 ml, 76.0 mmol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리아이소프로필보레이트 (B(0iPr) ₃ )(20.1 ml, 152.0 隱 ol)을 가하고， 상온으로 온도를 서서히 을리면서 3시간동안 교반하였다. 반웅 흔합물에 2 N 염산수용액 (100 ml)을 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르 (ethyl ether)로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조 후 에틸에테르에 분산시켜 두 시간 동안 교반한 후 여과하고 건조하여 화합물 R-3CL5.1 g, 수율 87 %; MS: [M+H] ⁺ =229)을 제조하였다.

화합물 R-3 15.0 g, 65.8 mmol)과 2-ch lor c)-4,6-di phenyl -1， 3,5- triazine(17.6 g, 162.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (200 ml)에 분산시킨 후， 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K ₂ C0 ₃ )(98.7 ml, 197.4 mmol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](1.5 g, 2 mol%)을 넣은 후 5시간 동안 교반 환류하였다. 상은으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다. 여과된 고체를 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤， 건조하여 화합물 R-4(24.1 g, 수율 88 %； MS:[M+H] ⁺ =416)를 제조하였다.

화합물 R-4(40 g, 96.3 mmol)을 클로로포름 (350mL)에 녹이고， 아세트산 (350mL)을 첨가한 후， 0 ^° C하에서 Br ₂ (5.2 mL, 101.1 mmol)을 적가하였다. 얻어진 흔합물을 상온으로 올려 5시간 동안 교반시킨다. 반웅이 종료 된 후 반응액을 농축시키고 에탄을로 재결정하여 화합물 R- 5(34.3 g, 수율 72 %; MS:[M+H] ⁺ =494)를 제조하였다.

화합물 R-5(40 g, 80.9 mmol) 비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(24.7 g,97.1 瞧 ol) 포타슘아세테이트 (potassium acetate)(33.5 g, 242.7 mmol), 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](1.9 g, 2 mol¾>)을 테트라하이드로퓨란 (500 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반웅이 종료된 후 상온으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슴 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 R-6(39.9 g, 수율 91 %； MS: [M+H]+=542)을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 R-6(20.6 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 3-bromof luoranthene( 10.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 5(17.9 g, 수율 76 %； MS: [M+H]+= 616) 을 제조하였다. 합성예 20-2: 화합물 53의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 R-6(20.6 g' 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 3-(6-bromonaphthalen-2- yl)phenanthrene(14.6 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 53(18.9 g, 수율 69 %； MS:[M+H] ⁺ = 718) 을 제조하였다.

2-ch 1 or 0-4 , 6-di pheny 1 -1 , 3 , 5-t r i az ine ( 17.6 g' 162.3 mmol) 대신 2- ( [ 1， 1 '— b i pheny 1 ] -2-yl )—4_ch 1 or o_6— pheny 1— l,3,5—triazine(55.8 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-K68.6 g, 수율 86 %； MS:[M+H] ⁺ = 492) 을 제조하였다.

화합물 R_4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S-l(47.3 g, 96.3隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S_2(50.5 g, 수율 92 %； MS:[M+H] ⁺ = 492) 을 제조하였다.

화합물 73

화합물 P-6 대신 화합물 S-2(20.6 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [.1，1' :4'，1' '-terphenyl]-2'— ylboronic acid(10.4 g, 38.1 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 78(14.8 g, 수율 54 ； MS:[M+H] ⁺ = 720) 을 제조하였다. 합성예 22: 중간체 화합물 S-4의 제조

2-ch 1 or 0-4 , 6-di pheny 1 -1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 17.6 g, 162.3 隱 ol) 대신 2- ( [ 1， 1 ' -b i pheny 1 ] -3-y 1 ) -4-ch 1 oro-6-pheny 1-1,3,5-tr iazine(55.8 g， 162.3 匪 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-3(71.0 g, 수율 89 %; MS:[M+H] ⁺ = 492) 을 제조하였다.

화합물 R-4(40 g, 96.3隱 ol) 대신 화합물 S-3(47.3 g, 96.3隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R— 5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-4(49.4 g, 수율 90 %； MS:[M+H] ⁺ = 570) 을 제조하였다. 합성예 22-1: 화합물 79의 제조

화합울 79

화합물 P-6 대신 화합물 S-4(21.7 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 (4'-phenyl-[l, 1'：3'，1' '- terphenyl]-4-yl)boronic acid(13.3 g, 38.1 誦 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 79(20.6 g, 수율 68 %; MS:[M+H] ⁺ = 796) 을 제조하였다.

2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5-triazine(17.6 g, 162.3 mmol) 대신 2- chloro-4,6-diphenylpyrimidine(43.3 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-5(57.9 g, 수율 86 %； MS:[M+H] ⁺ = 415) 을 제조하였다.

화합물 R_4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S-3(39.9 g, 96.3醒 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 Sᅳ 6(41.3 g, 수율 87 %； MS:[M+H] ⁺ = 493) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 S-6U8.8 g, 38.1 匪 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1，1' :3' ,1' ' :3' ' ,1' ¹ '- quaterphenyl]-4-ylboronic acid(13.3 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 43(18.4 g, 수율 67 ； MS:[M+H] ⁺ = 719) 을 제조하였다. 합성예 23-2: 화합물 80의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 S-6(18.8 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1， 1' :2'， 1' ' :4' ¹ , 1' ' quaterphenyl]-4' ' '-ylboronic acid(13.3 g, 38.1 mm이)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 80(17.8 g, 수율 65 %; MS:[M+H] ⁺ = 719) 을 제조하였다.

S-7

2-ch 1 or 0-4 , 6-d i heny l-l,3,5-triazine(17.6 g, 162.3醒 ol) 대신 2- (4-chl oropheny 1 )-4-(dibenzo[b,d]thi ophen— 2— y 1 ) -6-pheny 1-1,3,5- triazine(73.0 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R— 4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-7(80.5 g, 수율 83 %； MS:[M+H] ⁺ = 598) 을 제조하였다.

S-7 S-8

화합물 R_4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S_7(57.6 g, 96.3 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-8(52.8 g, 수율 81 %； MS:[M+H] ⁺ = 676) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 S-8(18.8 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4,4,5,5-tetramethyl-2-(10_ pheny 1 henant hr en-9-y l)-l,3,2-dioxaborol ane (14.5 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 18(17.5 g, 수율 54 %； MS:[M+H] ⁺ = 850) 을 제조하였다. 합성예 25: 중간체 화합물 S-10의 제조

S-9

2-ch 1 or 0-4 , 6-d i phenyl -1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 17.6 g, 162.3 mmol) 대신 2- chloro— 4— (dibenz이 b,d] furan-l-yl )—6— phenyl— 1,3,5— triazine(58.1 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-9(71.4 g， 수율 87 %； MS:[M+H] ⁺ = 506) 을 제조하였다.

화합물 R-4(40 g, 96.3隱 ol) 대신 화합물 S— 9(48.7 g, 96.3瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방밥으로 화합물 S-10 6.2 g, 수율 82 %； MS:[M+H] ⁺ = 584) 을 제조하였다. 합성예 25-1: 화합물 20의 제조

5-10

화합울 20

화합물 P-6 대신 화합물 S-10(34.5 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid(10.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 20(18.7 g, 수율 67 %； MS: [M+H] ⁺ = 732) 을 제조하였다.

2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5-triazine(17.6 g, 162.3 腿 ol) 대신 2- ([l,l'-biphenyl]-4-yl-2'，3' ,4' ,5' ,6'-d5)-4-chloro-6- phenylpyrimidine(56.5 g, 162.3 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S= 1(71.6 g, 수율 89 ； MS: [M+H] ⁺ = 496) 을 제조하였다.

화합물 R-4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S-ll(47.7 g, 96.3 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-12(47.0 g, 수율 85 %； MS:[M+H] ⁺ = 574) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 S—12(21.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2_bromophenanthrene) 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid(10.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 24(19.5 g, 수율 71 %； MS:[M+H] ⁺ = 722) 을 제조하였다. 합성예 27-1: 중간체 화합물 Q-37의 제조

Q-37

4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor o 1 ane (28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 (3— (tr iphenylsi lyl )phenyl )boronic acid(30.6 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-37(30.6 g, 수율 60 %； MS:[M+H] ⁺ = 581) 을 제조하였다.

화합물 Q— 5(25.0 g, 52.8 匪 ol) 대신 화합물 Q— 37(30.7 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-38(28.5 g， 수율 86 %； MS:[M+H] ⁺ = 629) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 Q-38(24.0 g, 38.1 瞧 o 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro— 4-

(dibenzo[b,d]thi ophen-2-y 1 ) -6-pheny I— 1,3,5— triazine (14.2 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 38(19.2 g, 수율 60 %； MS:[M+H] ⁺ = 840) 을 제조하였다.

S-13

2-ch 1 or 0-4 , 6-di phenyl -1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 17.6 g, 162.3 隱 ol) 대신 2- chloro-4-(di benzo [b,d] furan-3-yl )— 6— phenyl—l,3,5—triazine(58.1 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-13(71.4 g, 수율 87 %； MS:[M+H] ⁺ = 506) 을 제조하였다.

S-13

S-14

화합물 R-4(40 g, 96.3 隱 ol) 대신 화합물 S-13(48.7 g, 96.3 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-14(50.1 g, 수율 89 %； MS:[M+H] ⁺ = 584) 을 제조하였다.

S-14 &합물 41

화합물 P-6 대신 화합물 S-14(21.9 g, 38.1 圆 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1，1' :2'，1' '-terphenyl]-3- ylboronic acid(10.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 41(19.3 g, 수율 69 %; MS:[M+H] ⁺ = 734) 을 제조하였다.

2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5-triazine(17.6 g, 162.3匪 ol) 대신 2- ch 1 oro-4- ( d i benzo [b,d]thi ophen-4-y 1 )—6— pheny 1-1,3,5-tr iazine(60.7 g, 162.3 隱 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S_15(78.7 g, 수율 93 %； MS:[M+H] ⁺ = 522) 을 제조하였다.

화합물 R-4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S-15(50.2 g, 96.3 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S_16(50.3 g, 수율 87 ； MS:[M+H] ⁺ = 600) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 S-16(22.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1，1' :3'，1' '—terphenyl]— 3- ylboronic acid(10.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 42(20.6 g, 수율 72 %； MS:[M+H] ⁺ = 750) 을 제조하였다. 합성예 30: 화합물 23의 제조

화합물 6(20 g, 28.5隱 ol)을 테트라하이드로퓨란 (500 ml)에 녹인 후， -78 ^° C 로 온도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리륨 (t-BuLi)(16.8 ml, 28.5 隱 ol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 과량의 0를 적가하여 반응을 종료시킨다. 상온으로 온도를 서서히 올리고, 유기층을 분리한 뒤 황산마그네슘으로 건조하여 감압증류한다. 얻어진 흔합물을 컬럼크로마토그래피를 이용하여 핵산 /에틸아세테이트 (10:1)로 정제하여 화합물 23(9.6 g, 수율 48 ； MS:[M+H] ⁺ = 703)을 제조하였다.

화합물 6 대신 화합물 8(20.4 g, 28.5 瞧 ol), 1.7 M 터셔리- 부틸리튬 (t-BuLi)(33.5 ml, 57.0 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 30과 동일한 방법으로 화합물 60(8.6 g, 수율 42 %； MS:[M+H] ⁺ = 718) 을 제조하였다. 합성예 32-1: 중간체 화합물 Q-39의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 Q-36(19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(4-chlorophenyl ^A^- diphenyl-l^.S-triazine lS.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-39(22.0 g, 수율 82 %; MS:[M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다.

합성예 30과 동일한 방법으로 화합물 73(9.9 gᅳ 수율 49 %; MS:[M+H] ⁺ = 705) 을 제조하였다. 합성예 33: 중간체 화합물 T-7의 제조

T-1

5-클로로 2—메특시페닐보론산 ((5— chloro-2-methoxyphenyl)boronic acid)(62.2 g, 333.5 mmol) 대신 4-클로로 -2-메록시페닐보론산 ((4—chloro— 2-methoxyphenyl )boronic acid)(62.2 g, 333.5 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-1의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-U65.3 g, 수율 62 ； MS:[M+H] ⁺ =314) 을 제조하였다.

T-1 T-2

화합물 P-K50.0 g, 158.5匪 ol)대신 화합물 T-l(50.0 g, 158.5醒 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-2의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T- 2(43.0 g, 수율 90 %； MS:[M+H] ⁺ =300) 을 제조하였다.

T-2 T^3

화합물 P-2 (40.0 g, 132.7 醒 ol) 대신 화합물 T— 2(40.0 g, 132.7 誦 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-3의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-3(30.6 g, 수율 82 ;MS:[M+H] ⁺ =280) 을 제조하였다.

Τ-3 Τ-4

화합물 P-3(30.0 g, 106.6 隱 ol) 대신 화합물 T-3(30.0 g, 106.6 誦 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-4의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-4(25.0 g, 수율 95 ； MS:[M+H] ⁺ =247)을 제조하였다.

T-4 T-5

화합물 P— 4(20.0 g, 81.2腿 ol) 대신 화합물 T_4(20.0 g, 81.2醒 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T- 5(31.7 g, 수율 90 %； MS:[M+H] ⁺ =434)를 제조하였다.

T-6

화합물 P— 4(20.0 g, 81.2匪 ol) 대신 화합물 T-4(20.0 g, 81.2 mmol), 2-ch 1 or 0-4， 6_d i pheny 1-1,3, 5-triazine 대신 2—ch 1 oro-4- (9,9-dimethyl -9H- f 1 uor en-2-y 1 ) -6-pheny 1 - 1 , 3 , 5- 1 r i az i ne ( 31.1 g, 81.2 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-6(37.1 g, 수율 83 ； MS:[M+H] ⁺ =550)를 제조하였다.

화합물 P— 4(20.0 g, 81.2 薩 ol) 대신 화합물 T-4(20.0 g, 81.2 mmol), 2-ch 1 oro-4 , 6-d i heny 1-1,3,5-triazine 대신 2-(2— chlorophenylXS- diphenyl-l,3,5-triazine(27.9 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 p-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-7(29.4 g, 수율 71 %; MS:[M+H] ⁺ =510)를 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 T-5C16.5 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1，1' :3'，1' ' :4' '，1' ' '- quaterphenyl ]-4-ylboronic acid(13.3 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 76(23.9 g, 수율 89 ； MS: [M+H] ⁺ = 704) 을 제조하였다. 합성예 33-2: 화합물 40의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 T-6(21.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 (4—

(tr iphenylsi lyl )phenyl )boronic acid(14.5 g, 38.1 画 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 40(26.6 g, 수율 82 %; MS:[M+H] ⁺ = 850) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 T-7 19.4 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 f 1 uor ant hen-3-y 1 bor on i c acid(9.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 21(22.1 g, 수율 86 %； MS:[M+H] ⁺ = 676) 을 제조하였다. 합성예 34: 중간체 화합물 ϋ-8의 제조

1 , 3-dibromo-2-methoxybenzene( 113.2 g, 426.4 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (1000 ml)에 녹인 후， -78 ^° C로 온도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리튬 (t-BuLi)(251.7 ml, 426.4 mmol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리아이소프로필보레이트 (B(0iPr) ₃ )(113.2 ml, 852.4 mmol)을 가하고， 상온으로 온도를 서서히 을리면서 3시간동안 교반하였다. 반응 흔합물에 2 N 염산수용액 (800 ml)을 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르 (ethyl ether)로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조 후 클로로포름과 에틸아세테이트로 재결정하고 건조하여 (3_bromo— 2— methoxyphenyl )boronic acid(89.6 g, 수율 91 %； MS:[M+H] ⁺ =230)을 제조하였다.

U-1

브로모 -3-플루오로 -2-요오드벤젠 ( l-bromo-3-f 1 uoro-2- i odobenzene ) 대신 1-클로로-3-플루'오로-2-요오드벤젠(1-(±101"으3� ��1101"0-2- i odobenzene )(85.5 g, 333.5 mmol), 5-클로로 -2—메특시페닐보론산 ((5- chloro-2-methoxyphenyl )boronic acid) 대신 3一브로모— 2— 메특시페닐보론산 (3-bromo— 2-methoxyphenyl)boronic acid) (77.0 g, 333.5 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-1의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-K55.8 g, 수율 53 %； MS:[M+H] ⁺ =314) 을제조하였다.

화합물 P-K50.0 g, 158.5隱 ol)대신 화합물 U-l( 50.0 g, 158.5 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-2의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U- 2(39.7 g, 수율 83 %; MS:[M+H] ⁺ =300) 을 제조하였다.

화합물 P-2(40.0 g, 132.7 匪 ol) 대신 화합물 U_2(40.0 g, 132.7 隱 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-3의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-3(31.4 g, 수율 84 %;MS:[M+H] ⁺ =280) 을 제조하였다.

화합물 P-3(30.0 g, 106.6 瞧 ol) 대신 화합물 U-3(30.0 g, 106.6 隱 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-4의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-4(25.5 g, 수율 97 %； MS:[M+H] ⁺ =247)을 제조하였다.

화합물 P-4(20.0 g, 81.2隱 ol) 대신 화합물 U-4(20.0 g, 81.2醒 ol) 2-ch 1 oro-4， 6— d i pheny 1-1,3, 5-triazine 대신 tri pheny 1 en-2-y 1 boron i c acid(22.1 g, 81.2 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-5(31.1 g, 수율 86 %; MS:[M+H] ⁺ =445)를 제조하였다.

화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 聽 ol) 대신 화합물 Ih5(22.6 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 U-6(24.7 g, 수율 90 %； MS:[M+H] ⁺ = 521) 을 제조하였다.

화합물 P-4 대신 화합물 U-4(20.0 g, 81.2 mmol), 2-chloro— 4，6_ diphenyl-l,3,5-tr iazine 대신 [1,1'：4' ,1' '-terphenyl]-4-ylboronic acid(22.3 g, 81.2 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-7(30.8 g, 수율 88 %; MS:[M+H] ⁺ =431)를 제조하였다.

화합물 Q-5 대신 화합물 U-7(22.8 g, 52.8隱 ol)을 사용한 것 외에 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 U-8(24.3 g, 수율 88 %； MS:[M+H] 523) 을 제조하였다. 합성예 34-1: 화합물 22의 제조

화합물 P-6 대신 화합물 U-6 19.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-br이 nophenanthrene) 대신 2-( [1， Γ— biphenyl ]-4-yl )-4- chloro-6-phenyl-l,3,5-triazine(13.1 g, 38.1 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 22(35.4 g, 수율 93 %； MS:[M+H] ⁺ = 702) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 U— 8(19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-

( d i benzo [ b , d] f ur an-2-y 1 ) -6-pheny 1 - 1 , 3 , 5- 1 r i az i ne ( 13.6 g, 38.1 圆 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 77(24.9 g, 수율 91 %; MS:[M+H] ⁺ = 718) 을 제조하였다. 합성예 35: 중간체 화합물 W-8의 제조

2-br omo- 1 , 3~d i met hoxybenzene (92.6 g, 426.4 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (1000 ml)에 녹인 후， -78°C로 은도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리튬 (t-BuLi)(251.7 ml, 426.4 mmol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리아이소프로필보레이트 (B(0iPr) ₃ )(113.2 ml, 852.4 匪 ol)을 가하고， 상온ᅳ으로 온도를 서서히 을리면서 3시간동안 교반하였다. 반응 흔합물에 2 N 염산수용액 (800 ml)을 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르 (ethyl ether)로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조 후 클로로포름과 에틸아세테이트로 재결정하고 건조하여 (2,6-dimethoxyphenyl)boronic acid(63.6 g, 수율 82 ； MS: [M+H]+=183)을 제조하였다.

브로모 -3-플루오로 -2-요오드벤젠 ( l-bromo-3- f 1 uoro-2- i odobenzene ) 대신 1-클로로 -3-플루오로 -2-요오드벤젠 (l-chloro-3-fluoro— 2— iodobenzene)(85.5 g, 333.5 mmol), 5-클로로 -2-메록시페닐보론산 ((5- ch 1 oro-2-me t hoxypheny Dboronic acid) 대신 (2，6— dimet hoxypheny 1 ) bor on i c acid(60.7 g, 333.5 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-1의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W- 35.6 g, 수율 40 % MS: [M+H]+=267) 을 제조하였다.

화합물 P-K50.0 g, 158.5 mmol)대신 화합물 W-l(42.3 g, 158.5 ■ol), 보론트리브로마이드 (boron tr ibromide)(31.6 ml , 332.9 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-2의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W- 2(33.3 g, 수율 88 %； MS:[M+H] ⁺ =239) 을 제조하였다.

W-2 W-3

화합물 P-2(40.0 g, 132.7 圆 ol) 대신 화합물 W— 2(31.7 g, 132.7 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-3의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W-3(23.5 g, 수율 81 %;MS: 을 제조하였다.

W-3 W-4

화합물 W-3 (20.0 g, 91.5 mmol)을 아세토나이트릴 (250 ml)에 분산 시킨뒤 칼슘카보네이트 (51.2 g, 109.8 mmol)와 Nonaf luorobutanesulfonyl fluoride(41.6 g, 137.3 隱 ol)을 넣었다. 위 흔합물을 80 ^° C에서 1시간 동안 교반하였다. 반웅물을 상온으로 식힌 뒤 필터하여 에탄을과 물로 씻어준뒤 건조하여 화합물 W-4(38.9 g' 수율 85 %； MS:[M+H]+=500)을 얻었다.

화합물 P-4 대신 화합물 W-4(40.7 g, 81.2 醒 ol), 2-chloro-4,6- di pheny 1-1, 3, 5-tr iazine 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid(22.1 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W-5(21.6 g, 수율 62 %; MS:[M+H] ⁺ =429)를 제조하였다.

화합물 Q-5 대신 화합물 W-5(22.6 g, 52.8圆 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 W-6(23.4 g, 수율 85 %； MS:[M+H] ⁺ = 521) 을 제조하였다.

화합물 P-4 대신 화합물 W— 4(40.7 g, 81.2 腿 ol), 2-chloro-4,6- diphenyl-1,3, 5-triazine 대신 [1,1'：4' ,1' ' -terphenyl ]-3-ylboronic acid(22.3 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P—5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W-7(22.0 g, 수율 63 .%; MS:[M+H] ⁺ =431)를 제조하였다.

합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 W-8(22.1 g, 수율 80 %； MS:[M+H] ⁺ = 523) 을 제조하였다. 합성예 35-1: 화합물 16의 제조

화합물 p-6 대신 화합물 W-6(19.8 g, 38.1 腿 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(4-chlorophenyl)_4,6- diphenyl-l,3,5-triazine(13.1 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예

1-1과 동일한 방법으로 화합물 16(19.5 g, 수율 73 ； MS: [M+H] ⁺ = 702) 을 제조하였다.

화합물 P— 6 대신 화합물 W-8 19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4,6_diphenyl-l,3,5- triazine(10.2 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 37(15.5 g, 수율 65 %; MS:[M+H] ⁺ = 628) 을 제조하였다.

2-클로로디밴조티오펜 50g(23.0 mmol)올 클로로포름 300mL 에 희석한 후 브로민 18mL(0.34mol)를 서서히 투입하여 실은에서 12시간 교반시켰다. 반웅이 종결된 후 석출된 고체를 여과하고， 이를 다시 과량의 클로로포름에 가온하여 녹인 후 20%의 소듐티오설페이트 수용액으로 세척하여 유기층을 분리하였다. 이를 다시 탄산수소나트륨 포화 수용액으로 세척하여 유기층을 분리하고, 무수황산마그네슴으로 수분을 건조하여 감압 농축하였다. 농축한 화합물에 에틸아세테이트 300mL을 넣고 환류 교반하여 슬러리하고 이를 실온으로 식혀서 여과하였다. 질소하에 건조하여 연한 갈색의 화합물 X- 1을 (32 g, 수율 47%; MS:[M+H] ⁺ = 296) 을 제조하였다.

화합물 X-1 48 g(0.16mol)을 1，4-다이옥산 500mL에 녹인 후 Bis(pinacolato)diboron 49 g(0.19mol)을 투입하였다. 흔합물을 교반 하면서 포타슘아세테이트 31.4 g(0.32mol)를 첨가하고 가온 하여 환류 시켰다. 환류 교반 상태에서 디벤질리덴아세톤팔라듐 2.7 g(0.005mol) 과 트리시클로핵실포스핀 2.7 g(O.Olmol)을 첨가하고 12시간 환류 교반시켰다. 반웅 종결 후 반웅물을 실온으로 냉각하여 물로 세척 후 클로로포름으로 2회 추출하였다. 모아진 유기층을 다시 한번 물로 세척 후 무수황산마그네슘으로 수분을 제거하고 여과하여 농축하였다. 농축한 물질을 소량의 에틸아세테이트와 과량의 핵산 흔합용액으로 가열 교반 하고 여과하여 흰색의 화합물 X-2를 (43 gᅳ 수율 78%; MS:[M+H] ⁺ = 345) 을 제조하였다.

화합물 X-2 10g(0.03mol)과 2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5-triazine 8.4 g(0.03mol)을 1,4-dioxane 100 mL에투입하여 녹인 후 K3P04 19g(0.09mol)을 투입하여 환류 상태에서 교반 시켰다. 이 흔합물에 디벤질리덴아세톤팔라듐 570mg(0.001mol) 과 트리시클로핵실포스핀 560mg(0.002mol)을 첨가하고 12시간 환류 교반시켰다. 반웅 종결 후 반응물을 실온으로 냉각하여 물로 세척하고 에틸아세테이트로 2회 추출하여 무수황산마그네슘으로 수분을 제거하고 여과하여 소량의 에틸아세테이트가 남도록 감압 농축하였다. 농축한 화합물에 아세톤을 과량 투입하여 슬러리 후 여과하여 흰색의 화합물 X-3을 (11 g, 수율 83%; MS:[M+H] ⁺ = 150) 을 제조하였다.

10g(0.022mol )과 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid 6.0g(0.022mol)을 1,4-dioxane 80mL에 희석하고 K3P04 13.9g(0.066mol))을 흔합용액에 투입 후 가온하여 환류 상태에서 교반시켰다. 이 흔합물에 디벤질리덴아세

톤팔라듐 3801 (0.66隱 ₀ 1)과 트리시클로핵실포스핀 370mg(1.3mmol)을 첨가하고 12시간 환류 교반시켰다. 반웅 종결 후 반웅물을 실온으로 넁각하여 석출된 고체를 여과하고， 이를 클로로포름에 녹인 후 물로 2회 세척하고 모아진 유기층을 무수황산마그네슘으로 수분을 제거하고 여과하여 클로로포름과 에틸아세테이트를 흔합액으로 사용하여 재결정하는 방법으로 정제하여 흰색의 화합물 A를 (9.6 g, 수율 68%; MS:[M+H] ⁺ = 642) 을 제조하였다.

화합물 P-4 대신 화합물 Q-3(20.1 g, 81.2 mmol), 2-chloro-4,6- diphenyl-1 ,3,5-tr iazine 대신 (4_(4,6-diphenylᅳ l,3,5-triazin-2_ yl)phenyl)boronic acid(28.7 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 B(35.5 g, 수율 92 %； MS:[M+H] ⁺ =476)를 제조하였다.

4,6-Dibromodibenzofuran(20 g, 61.4 mmol) , [1,1'：4' ,1' '- terphenyl]ᅳ 3ᅳ ylboronic acid(17.6 g, 61.4 隱 ol)을 테트라하이드로퓨란 (400 ml)에 분산시킨 후， 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K ₂ C0 ₃ )(92.1 ml, 184.2 隱 ol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh ₃ ) ₄ ](1.4 g, 2 mol¾ 을 넣은 후 3시간 동안 교반 환류하였다. 상은으로 온도를 낮추고 생성된 흔합물을 물과 를루엔으로 추출한 뒤 유기층을 황산마그네슘 (MgS0 ₄ )로 건조한 뒤 감압증류 하였다. 얻어진 흔합물을 컬럼크로마토그피로 실리카겔에서 핵산:에틸아세테이트 (15:1)로 정제하여 화합물 X-4(54.3 g, 수율 62 %； MS:[M+H] ⁺ =475)를 제조하였다.

화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 腿 ol) 대신 화합물 X-4(25.1 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Χ-5(25·4 g, 수율 92 %； MS:[M+H] ⁺ = 523) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 X-5(19.9 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5- triazine(10.2 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 CC19.9 g, 수율 83 %; MS:[M+H] ⁺ = 628) 을 제조하였다. 합성예 39: 화합물 D의 제조

화합물 P-3 대신 4-br omod i benzo [ b , d ] f ur an ( 26.3 g, 106.6 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-4의 제조와 동일한 방법으로 dibenzo[b,d]furan-4-ylboronic acid(21.2 g, 수율 94 %; MS:[M+H] ⁺ = 213)을 제조하였다.

화합물 P-4 대신 4-bromodibenzo[b , d] thi ophene(21.4 g, 81.2 mmol), 2-ch 1 or 0-4 , 6-d i phenyl -1 , 3 , 5-t r i az i ne 대신 dibenzo[b,d] furan-4- ylboronic acid(17.2 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 X-6(25.3 g, 수율 89 ； MS:[M+H] ⁺ =351)를 제조하였다.

화합물 R-4 대신 화합물 X-6(25.0 g, 71.3 mmol), 클로로포름 (200 ml), 아세트산 (200 ml), Br ₂ (3.8 mL, 74.9 隨 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 얻은 흔합물을 컬럼크로마토그래피로 실리카겔에서 핵산:에틸아세테이트 (10:1)로 정제하여 화합물 Χ-7(14·4 g, 수율 47 %； MS:[M+H] ⁺ = 428) 을 제조하였다.

화합물 Q-5 대신 화합물 X-7(22.7 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 X-8(23.9 g, 수율 95 %； MS:[M+H] ⁺ = 477) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 X-8(18.2 g' 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-broiTK)phenan1:hrene) 대신 2—chloro—4,6-diphenyl-l,3,5- triazine(10.2 g, 38.1 mmol)올 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 D 19.7 g, 수율 89 %； MS:[M+H] ⁺ = 582) 을 제조하였다.

2-클로로디벤조티오펜 대신 2-클로로디벤조퓨란 (46.6 g, 230.0 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 36 의 X-1의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 X-9(56.3 g, 수율 87 %； MS:[M+H] ⁺ = 280) 을 제조하였다.

화합물 P-4 대신 화합물 X-9(22.9 g, 81.2 mmol), 2-chloro-4,6- diphenylᅳ 1，3，5ᅳ triazine 대신 phenyl boron ic acid(17.3 g, 81.2 mmol ) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 Xᅳ 10(21.7 g, 수율 96 %； MS:[M+H] ⁺ =279)를 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 X-10(10.6 g, 38.1 匪 ol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 boron i c acid(10.4 g, 38.1 誦 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 E(15.6 g, 수율 87 %; MS:[M+H] ⁺ = 471) 을 제조하였다.

X-11

화합물 P-4 대신 di benzo [b , d] f uran-4-yl boron i c acid(17.2 g, 81.2 瞧 ol), 2-chloro-4,6-di henyl-l,3,5-tr iazine 대신 2_chloro_4,6_ diphenyl-l,3,5-triazine(21.7 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 와 제조와 동일한 방법으로 화합물 X-ll(29.0 g, 수율 89 %; MS:[M+H] ⁺ =400)를 제조하였다.

화합물 R-4 대신 화합물 X-12(28.5 g, 71.3 醒 ol), 클로로포름 (200 ml), 아세트산 (200 ml), Br ₂ (3.8 mL, 74.9隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 얻은 흔합물을 컬럼크로마토그래피로 실리카겔에서 핵산:에틸아세테이트 (10:1)로 정제하여 화합물 X-12(23.5 g, 수율 69 ； MS:[M+H] ⁺ = 478) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 X-12U8.2 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid(10.4 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 F(21.7 g, 수율 91 ； MS:[M+H] ⁺ = 626) 을 제조하였다.

화합물 P-6 대신 화합물 X-12 18.2 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 [1，1'一 biphenyl]— 4— ylboronic acid(7.5 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 GC19.8 g, 수율 94 %； MS:[M+H] ⁺ = 552) 을 제조하였다.

2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-브로모 -9,9- 다이메틸 -9H-플루오렌 (2-bromo-9,9-dime1;hyl-9H-fhK)rene)(10.4 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 H(16.2 g, 수율 72 ； MS:[M+H] ⁺ =560) 을 제조하였다. 실시예 1

IT0( indium tin oxide)가 1，300 A의 두께로 박막 코팅된 유리 기판을 세제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 이때， 세제로는 피셔사 (Fischer Co.) 제품을 사용하였으며， 증류수로는 밀리포어사 (Millipore Co.) 제품의 필터 (Filter)로 2차로 걸러진 증류수를 사용하였다. IT0를 30분간 세척한 후 증류수로 2회 반복하여 초음파 세척을 10분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후， 이소프로필알콜， 아세톤， 메탄올의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 수송시켰다. 또한， 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5분간 세정한 후 진공 증착기로 기판을 수송시켰다.

상기와 같이 준비된 ΠΌ 투명 전극 위에 하기와 같은 HI-1 화합물을 50A의 두께로 열 진공 증착하여 정공 주입층을 형성하였다.

상기 정공 주입층 위에 HT-1 화합물을 250 A의 두께로 열 진공 증착하여 정공 수송층을 형성하고， HT-1 증착막 위에 HT-2 화합물을 50 A 두께로 진공 증착하여 전자 저지층을 형성하였다.

이어서， 상기 HT-2 증착막 위에 상기 합성예 1-1에서 제조한 화합물 1과 1¾의 중량비로 인광 도펀트 YGD-1을 공증착하여 400 A 두께의 발광층을 형성하였다.

상기 발광층 위에 ET-1 물질을 250 A의 두께로 진공 증착하고， 추가로 ET-2 물질을 100 A 두께로 2% 중량비의 Li과 공증착하여 전자 수송층 및 전자 주입층을 형성하였다. 상기 전자 주입층 위에 1000A 두께로 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하였다.

상기의 과정에서 유기물의 _. 증착속도는 0.4 ~ 0.7 A /sec를 유지하였고, 알루미늄은 2 A/sec의 증착 속도를 유지하였으며, 증착시 진공도는 1 X 10— ⁷ ~ 5 X 10— ⁸ torr를 유지하였다.

LZ900/LlOZW^/13d 실시예 2 내지 실시예 49

발광층 형성시 인광 호스트 물질 및 도편트 함량을 하기 표 1 내지 3과 같이 변경하였다는 점을 제외하고는， 상기 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 실시예 2 내지 49의 유기 발광 소자를 각각 제작하였다. 비교예 1 내지 비교예 10

발광층 형성시 인광호스트 물질 및 도펀트 함량을 하기 표 3과 같이 변경하였다는 점을 제외하고는， 상기 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 비교예 1 내지 10의 유기 발광 소자를 각각 제작하였다. 이때 비교예에 사용된 호스트 물질 A 내지 I는 하기와 같다.

소자에 전류를 인가하여， 전압， 효율， 휘도, 색좌표 및 수명을 측정하고 그 결과를 하기 표 1 내지 3에 나타내었다. 이때， T95은 광밀도 50 mA/cm ² 에서의 초기 휘도를 100%로 하였을 때， 휘도가 95¾로 감소되는데 소요되는 시간을 의미한다.

【표 1】

호스트: 도펀트 전압 (V) 효율 (Cd/A) 색좌표 수명 (T ₉₅ , h)

No.

(두께, A)도펀트함량 (@10mA/cm ² ) (@10mA/cm ² ) (x,y) (@50mA/cm ² ) 실시예 화합물 1:YGD—1

2.99 62.8 (0.46,0.54) 47.5 1 (400)12%

실시예 화합물 2:YGD-1

2.99 64.1 (0.46,0.53) 50.5 2 (400)12%

실시예 화합물 3:YGD-1

2.97 65.0 (0.46,0.52) 47.0 3 (400)16%

실시예 화합물 4:YGD-1

3.15 62.8 (0.46,0.53) 78.6 4 (400)12%

실시예 화합물 5:YGD-1

3.11 53.8 (0.47,0.52) 46.4 5 (400)14%

실시예 화합물 6:YGD— 1

3.23 62.7 (0.47,0.53) 49.9 6 (400)12%

실시예 화합물 7:YGD-1

3.20 . 63.1 (0.46,0.53) 50.3 7 (400)12%

실시예 화합물 8:YGD-1

3.30 55.7 (0.47,0.52) 87.9 8 (400)16%

실시예 화합물 9:YGD-1

2.97 64.2 (0.46,0.54) 70.5 9 (400)16%

실시예 화합물 10:YGD-1

3.12 60.3 (0.47,0.53) 47.7 10 (400)16%

실시예 화합물 11:YGD-1

2.89 63.0 (0.46,0.53) 69.8 11 (400)16%

실시예 화합물 14:YGD-1

3.08 56.1 (0.45,0.54) 47.6 12 (400)16%

실시예 화합물 15:YGD-1

3.00 63.0 (0.46,0.53) 47.1 13 (400)12%

실시예 화합물 16:YGD-1

3.28 . 63.2 (0.46,0.53) 41.8 14 (400)12%

실시예 화합물 12:YGD-1

3.55 65.9 (0.46,0.52) 126.2 15 (200:200)16%

실시예 화합물 13:PH-1:YGD-1

3.51 67.2 (0.46,0.53) 116.0 16 (160:240)16%

실시예 화합물4:1 -2:¥01)一1

3.57 67.7 (0.46,0.53) 191.9 17 (160:240)12%

실시예 화합물 Γ7:ΡΗ— 2:YGD-1

3.53 67.8 (0.47,0.53) 125.1 18 (200:200)16%

실시예 화합물18:1 -2:丫6[ ⁾ 一1

3.56 70.2 (0.45,0.53) 132.8 19 (160:240)12%

실시예 화합물 19:PH-2:YGD-1

3.50 68.9 (0.46,0.53) 352.0

20 - (200:200)15% 【표 2]

(두께， A)도편트함량 (@10mA/cm ² ) (@10mA/cm ² ) (x,y) (@50mA/cm ^z ) 실시예 화합물 40:PH— 3:YGD— 1

3.61 62.6 (0.44,0.54) 102.8

41 (200:200)16%

실시예 화합물 41:PH-2:YGD-1

3.48 65.1 (0.47,0.53) 272.1 42 (160:240)16%

실시예 화합물 42:PH 2:YGD-1

3.52 67.7 (0.45,0.54) 326.1 43 (160:240)12%

실시예 화합물 43:PH-3:YGD-1

3.55 62.4 (0.45,0.53) 239.8 44 (160:240)12%

실시예 화합물 44:PH-3:YGD-1

3.60 60.0 (0.46,0.52) 154.2 45 (200:200)16%

실시예 화합물 46:PH-1:YGD-1

3.62 64.68 (0.45,0.53) 175.3 46 (160:240)16%

실시예 화합물 28:PH-2:YGD-1

3.51 67.9 (0.45,0.54) 330.2 47 (160:240)16%

실시예 화합물 81:PH-2:YGD-1

3.53 65.3 (0.47,0.54) 289.6 48 (160:240)12%

실시예 화합물 45:PH-2:YGD— 1

3.50 68.1 (0.45,0.52) 349.8 49 (160:240)12%

비교예 화합물 A:YGD-1

3.21 61.9 (0.46,0.53) 25.9 1 (400)12%

비교예 화합물 B:YGD-1

3.17 56.2 (0.47,0.52) 27.3 2 (400)12%

비교예 화합물 C:YGD-1

2.92 62.2 (0.48,0.50) 20.3 3 (400)12%

비교예 화합물 D:YGD-1

3.11 67.3 (0.48,0.53) 26.2 4 (400)12%

비교예 화합물 E:YGD-1

4.73 28.11 (0.47,0.51) 22.2

5 (400)12%

비교예 화합물 F:YGD-1

3.15 53.2 (0.48,0.50) 27.5 6 (400)12%

비교예 화합물 G:YGD-1

3.14 52.7 (0.49,0.50) 26.9 7 (400)12%

비교예 화합물 H:YGD-1

' 3.14 56.8 (0.49,0.50) 28.9 8 (400)12%

비교예 화합물 I:YGD-1

3.0 60 (0.46,0.53) 31.5 9 (400)12%

비교예 화합물 A:PH— 1:YGD-1

3.63 64.3 (0.47,0.53) 63.2 10 (160:240)16% 실시예 50

상기 실시예 1과 같이 준비된 ΠΌ 투명 전극 위에 하기와 같은 HI-1 화합물을 150A의 두께로 열 진공 증착하여 정공 주입층을 형성하였다.

상기 정공 주입층 위에 HT-1 화합물을 1150A의 두께로 ^' 열 진공증착하고， 순차적으로 HT-3 화합물을 500 A 두께로 진공 증착하여 정공 수송층을 형성하였다.

이어서， 상기 정공수송층 위에 상기 합성예 15-3에서 제조한 화합물 47과 5%의 중량비로 인광 도펀트 GD-1을 공증착하여 400 A 두께의 발광층을 형성하였다.

상기 발광층 위에 ET-3 물질을 50A의 두께로 진공 증착하여 정공저지층을 형성하고， 상기 정공저지층 위에 ET-4 물질 및 LiQ를 1 : 1의 중량비로 진공증착하여 250A의 전자 수송층을 형성하였다. 상기 전자 수송층 위에 순차적으로 10 A 두께의 리륨 프루라이드 (UF)를 증착하고， Mg을 10 >의 중량비로 Ag와 증착하여 200 A 두께로 전자주입층을 형성하였다. 이 위에 1000A 두께로 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하였다.

상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 0.4 ~ 0.7 A/sec를 유지하였고， 음극의 리튬플루오라이드는 0.3 A/sec , 알루미늄은 2 A/sec의 증착 속도를 유지하였으며 , 증착시 진공도는 1 X 10— ⁷ ~ 5 x 10 ^"8 torr를

실시예 51 내지 실시예 90

발광층 형성시 인광 호스트 물질 및 도펀트 함량을 하기 표 4 및 5와 변경하였다는 점올 제외하고는， 상기 실시예 50과 동일한 방법을 이용하여 실시예 51 내지 90의 유기 발광 소자를 각각 제작하였다. 비교예 11 내지 비교예 19

발광층 형성시 인광 호스트 물질 및 도펀트 함량을 하기 표 6과 같이 변경하였다는 점을 제외하고는， 상기 실시예 50과 동일한 방법을 이용하여 비교예 11 내지 19의 유기 발광 소자를 각각 제작하였다. 이때 비교예에 사용된 호스트 물질 A 내지 I는 상술한 바와 같다. 실험예 2

상기 실시예 50 내지 90 및 비교예 11 내지 19에서 제작된 유기 발광 소자에 전류를 인가하여， 전압， 효율， 휘도， 색좌표 및 수명을 측정하고 그 결과를 하기 표 4 내지 6에 나타내었다. 이때， T95은 광밀도 20 mA/cm ² 에서의 초기 휘도를 100%로 하였을 때, 휘도가 95%로 감소되는데 소요되는 시간을 의미한다.

【표 4】

61 (400)5%

실시예 화합물 56:GD-1

3.99 52.4 (0.347,0.612) 51.3 62 (400)10%

실시예 화합물 4:PH-2:GD一 1

3.71 55.1 (0.351,0.609) 110.2 63 (200:200)5%

실시예 화합물 57:PH-3:GD-1

4.07 52.9 (0.348,0.612) 79.9 64 (200：200)5%

실시예 화합물 58:PH-1:GD-1

4.2 51.7 (0.347,0.610) 88.7 65 (200:200)5%

실시예 화합물 6:PH-2:GD-1

4.21 53.4 (0.347,0.613) 100.1 66 (200:200)5%

실시예 화합물 50:PH-2:GD-1

4.17 58.1 (0.348,0.612) 78.9 67 (160:240)7%

실시예 화합물 60:PH-2:GD-1

4.23 51.7 (0.347,0.611) 89.2 68 (160:240)5%

실시예 화합물 61:PH— 3:GD-1

4.11 54.2 (0.351,0.613) 106.2 69 (200：200)5%

실시예 화합물 62:PH-2:GD-1

4.22 51.9 (0.351,0.613) 170.7 70 (160:240)5%

【표 5】

호스트: 도펀트 전압 (V) 효율 (Cd/A) 색좌표 수명 (T ₉₅ , h)

No.

(두께， A)도편트함량 (@ 10mA/ cm ² ) (@10mA/cm ² ) (x,y) (@20mA/cm ² ) 실시예 화합물 63:PH-3:GD-1

. 4.31 54.2 (0.349,0.613) 134.9 71 (200:200)5%

실시예 화합물 64:PH-1:GD-1

4.30 54.3 (0.347,0.612) 135.4 72 (160:240)7%

실시예 화합물 65:PH-2:GD-1

4.19 52.9 (0.351,0.613) 170.9 73 (200:200)5%

실시예 화합물66: ¾-1 1)-1

3.92 52.3 (0.351,0.613) 171.4 74 (160:240)10%

실시예 화합물 67:PH-2:GD-1

4.12 .54.9 (0.350,0.611) 128.2 75 (200:200)5%

실시예 화합물 68:PH-1:GD-1

3.76 56.8 (0.352,0.609) 104 76 (160:240)5%

실시예 화합물 69:PH-2:GD-1

4.10 55.1 (0.351,0.613) 103.2 77 (160:240)7%

실시예 화합물 70:PH-1:GD-1

4.17 56.53 (0.351,0.613) 104.5 78 (160:240)5%

실시예 화합물 71:PH-3:GD-1

4.24 54.6 (0.346,0.612) 137.9 79 (200:200)7%

실시예 화합물 72:PH— 2:GD-1

4.32 56.1 (0.350,0.612) 158.8 80 (200:200)5%

실시예 화합물 73:PH-2:GD-1

4.42 51.24 (0.346,0.611) 102.5 81 (160:240)5%

실시예 화합물 74:PH— 2:GD-1

4.13 54.7 (0.350,0.611) 119.9 82 (160:240)10%

실시예 화합물 75:PH— 3:GD一 1

4.43 50.35 (0.346,0.613) 95.2 83 (200:200)7% 실시예 화합물 76:PH-3:GE L

4.14 52.8 (0.346,0.612) 105.7

84 (160:240)10%

실시예 화합물 77:PH-1:GD-1

4.35 56.4 (0.347,0.611) 62.9 85 (200:200)5%

실시예 화합물78:^-1:61)一1

3.92 54 (0.352,0.609) 81.2 86 (200：200)5%

실시예 화합물 79:PH-3:GD-1

4.16 56.13 (0.351,0.613) 104.3 87 (160:240)5%

실시예 화합물 80:PH— 1:GD-1

4.32 50.89 (0.346,0.611) 100.4 88 (160:240)5%

실시예 화합물 59:PH-1:GD— 1

4.29 53.7 (0.347,0.614) 92.6 89 (160:240)6%

실시예 화합물 45:PH-1:GD-1

4.31 57.3 (0.350,0.611) 168.1 90 (160:240)7%

【표 6]

상기 표 1 내지 6에서 보는 바와 같이， 본 발명에 따른 화합물을 인광 호스트 물질로 사용하여 제조된 유기 발광 소자의 경우에 비교예의 유기 발광 소자에 비하여 구동전압， 전류효율 및 수명 측면에서 우수한 성능을 나타냄을 확인할 수 있다. 특히， 실시예에 따른 유기 발광 소자는 통상적으로 사용되는 인광 호스트 물질인 화합물 I를 사용한 비교예 9 및 19에 따른 유기 발광 소자에 비하여 최소 150% 이상의 수명증가를 나타내었다. 또한, 실시예 4， 8 및 50에 따른 유기 발광 소자는 본 발명에 따른 화합물과 트리아지닐기의 치환 위치가 상이한 화합물 A 및 F를 각각 사용한 비교예 1， 6， 11 및 16에 따른 유기 발광 소자에 비하여 약 250% 이상의 수명 증가를 나타내었다. 그리고， 실시예 28에 따른 유기 발광 소자 또한， 화합물 C를 사용한 비교예 3에 따른 유기 발광 소자에 비하여 약 370% 이상의 수명 증가를 나타내었으며， 실시예 30 및 31에 따른 유기 발광 소자 또한, 화합물 G를 사용한 비교예 7에 따른 유기 발광 소자에 비하여 약 250% 이상의 수명 증가를 나타내었다. 추가적으로， 트리아지닐기가 포함되지 않은 화합물 E를 사용한 비교예 5에 따른 유기 발광 소자의 구동전압， 전류효율 및 수명은 실시예에 따른 유기 발광 소자에 비해 현저히 낮음을 알 수 있었다. 또한， 디메틸플루오레닐기가 치환된 화합물 H를 사용한 비교예 8 및 18에 따른 유기 발광 소자도 실시예에 따른 유기 발광 소자에 비하여 현저히 낮은 수명을 나타냄을 알 수 있는 데， 이는 소자 제작 시 또는 구동 중에 디메틸플루오레닐에 의한 라디칼이 형성됨에 따라 생성되는 불순물의 발생으로 인한 것으로 여겨진다.

[부호의 설명】

기판

극

발광층

정공 주입층 정공 수송층

발광층 전자 수송층