Title:
焦点感応オーバーレイターゲットを使用する焦点決定のためのシステムおよび方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018517932
Kind Code:
A
Abstract:
リソグラフィマスクが開示される。リソグラフィマスクは、少なくとも１つの非対称セグメント化パターン要素を含む。特定の非対称セグメント化パターン要素が、少なくとも２つのセグメントを含み、連続するセグメント間の分離距離が、特定の非対称セグメント化パターン要素の画像が非セグメント化パターン画像であるように、試料上に特定の非対称セグメント化パターン要素の画像を生成するための一組の投影光学系の分解能より小さい。試料上の非セグメント化パターン画像の位置が、一組の投影光学系の光軸に沿った試料の場所を示す。
Inventors:
Meeher Walter
Application Number:
JP2017559548A
Publication Date:
July 05, 2018
Filing Date:
May 13, 2016
Export Citation:
Assignee:
KLA-Tenker Corporation
International Classes:
G03F1/70; G03F7/20; G03F7/207
Attorney, Agent or Firm:
Patent Corporation yki International Patent Office