Title:
水処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2002090266
Kind Code:
A1
Abstract:
この発明は、被処理水を貯留する水槽と、少なくとも２枚の電極板からなる電極組に通電して被処理水を電気化学分解によって滅菌する電解槽と、前記被処理水を水槽から電解槽に導入し、かつ電解槽内で滅菌処理後に水槽に還流させる水処理経路と、前記電解槽に導入される前の被処理水の残留塩素濃度を測定する残留塩素センサと、残留塩素センサで測定された残留塩素濃度に基づき、前記電解槽における被処理水の電気化学分解量を制御し、水槽に還流される水の残留塩素濃度を所定の範囲に保つ制御手段とを備えた水処理装置において、水処理経路の前記電解槽よりも上流側で分岐して被処理水を取り出し、その被処理水を前記残留塩素センサに導いて被処理水の残留塩素濃度を測定させ、測定後の被処理水を前記電解槽に排出する分岐経路を設けたことを特徴とする水処理装置である。この構成によれば、分岐経路で残留塩素濃度が測定された被処理水は電解槽へ戻されるので、捨水が発生しない。また、電解槽へ戻された被処理水は電解槽内で滅菌処理された後、水槽へ戻される。従って、滅菌処理されていない被処理水が水槽へ戻されることがない。
Inventors:
中西 稔
岸 稔
稲本 吉宏
廣田 達哉
川村 保
河村 要藏
近藤 文剛
岸 稔
稲本 吉宏
廣田 達哉
川村 保
河村 要藏
近藤 文剛
Application Number:
JP2002587352A
Publication Date:
August 19, 2004
Filing Date:
April 02, 2002
Export Citation:
Assignee:
三洋電機株式会社
International Classes:
C02F1/46; C02F1/467; G01F23/24; G01N27/416; C02F1/00; C02F1/461; C02F9/00
Domestic Patent References:
| JPH1190447A | 1999-04-06 | |||
| JPH11132560A | 1999-05-21 | |||
| JPH09189141A | 1997-07-22 | |||
| JP2000046795A | 2000-02-18 | |||
| JP2001062453A | 2001-03-13 | |||
| JP3069296U | 2000-06-06 | |||
| JPH0933479A | 1997-02-07 | |||
| JPH10192867A | 1998-07-28 | |||
| JP2000301153A | 2000-10-31 | |||
| JPH09168787A | 1997-06-30 |