Title:
光酸発生剤及び光反応性組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2011129206
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、近紫外線領域である３００〜４００ｎｍ付近での感度が非常に高く、反応速度を非常に高めることができる光酸発生剤、及び近紫外線照射による反応時間が非常に短い光反応性組成物を提供する。より詳しくは、下記の化学式（１）に示すフェニルチオフェンスルホニウム塩化合物及び該化合物を含有する光反応性組成物を提供する。（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜８のアシル基、又は水酸基を示し、Ｘ−は、アニオンを示す。）
Inventors:
Katsumasa Yamamoto
Hiroshi Yamaguchi
Hidehiko Akemi
Hiroshi Yamaguchi
Hidehiko Akemi
Application Number:
JP2012510617A
Publication Date:
July 18, 2013
Filing Date:
April 01, 2011
Export Citation:
Assignee:
Sumitomo Seika Co., Ltd.
International Classes:
C07D333/34; C09K3/00
Attorney, Agent or Firm:
Mitsuo Tanaka
Hiroshi Yamazaki
Tsuyoshi Sato
Keiji Sakata
Hiroshi Yamazaki
Tsuyoshi Sato
Keiji Sakata