新規なジアミン及びその製造方法、並びに該ジアミンより製造されるポリアミック酸及びポリイミド

Title:

新規なジアミン及びその製造方法、並びに該ジアミンより製造されるポリアミック酸及びポリイミド

Document Type and Number:

Japanese Patent JP7320334

Kind Code:

B1

Abstract:

【課題】下記式（８）で表されるジアミンと類似の構造を有し、且つ溶媒溶解性に優れる、新規なジアミンの提供。TIFF0007320334000019.tif15116【解決手段】鋭意研究を重ねた結果、下記式（１）で表されるジアミンが、上記式（８）で表されるジアミンと類似の構造を有するにも拘わらず優れた溶媒溶解性を示し、前記課題が解決可能であることを見出した。また、本発明のジアミンより製造される本発明のポリイミドは、高Ｔｇ、低ＣＴＥ、低誘電特性（低誘電率、低誘電正接）に優れ、特に高周波ＦＰＣ基板材料（例えば、フレキシブル銅張積層板やカバーレイフィルム等の積層体における樹脂基板等）として好適に使用することができる。TIFF0007320334000020.tif20121【選択図】なし

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Inventors:

Yuji Sakaguchi
Ryoki Yuasa
Hidefumi Nakatsuji

Application Number:

JP2023046456A

Publication Date:

August 03, 2023

Filing Date:

March 23, 2023

Export Citation:

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Assignee:

Taoka Chemical Co., Ltd.

International Classes:

C07C229/60; C07C205/57; C07C227/04; C08G73/10

Domestic Patent References:

JP2008255252A

Foreign References:

WO2022239534A1
CN114989429A

Other References:

HASEGAWA Masatoshi and HISHIKI Tomoaki,Poly(ester imide)s Possessing Low Coeffcients of Thermal Expansion and Low Water Absorption (V). Eff,Polymers,2020年04月08日,12, 859,doi:10.3390/polym12040859

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