Title:
粉体膜形成方法及び粉体成膜装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2018143459
Kind Code:
A1
Abstract:
粉体膜形成方法は、スクリーン版（２）に形成された開口部（３）に、粉体（９）を充填する充填工程と、スクリーン版（２）と基板（１０）との間に電位差を生じさせて、開口部（３）に充填された粉体（９）を基板（１０）に移動させ、粉体膜（１１）を形成する成膜工程と、を備える。
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Inventors:
Nishiura Sosuke
Tsuyoshi Sugio
Hideyuki Fukui
Tsuyoshi Sugio
Hideyuki Fukui
Application Number:
JP2018566157A
Publication Date:
November 21, 2019
Filing Date:
February 05, 2018
Export Citation:
Assignee:
Hitachi Zosen Corporation
International Classes:
B41M1/42; B05B5/057; B05D1/26; B05D3/14; B05D7/24; B41F15/08; B41N1/24
Domestic Patent References:
| JP2010207780A | 2010-09-24 | |||
| JP2010207779A | 2010-09-24 | |||
| JPS57107270A | 1982-07-03 | |||
| JP2016077982A | 2016-05-16 | |||
| JP2014061703A | 2014-04-10 | |||
| JP2016129954A | 2016-07-21 | |||
| JP2009101665A | 2009-05-14 | |||
| JPH06328873A | 1994-11-29 | |||
| JPH09169103A | 1997-06-30 | |||
| JP2010214296A | 2010-09-30 |
Foreign References:
| US3081698A | 1963-03-19 |
Attorney, Agent or Firm:
Harakenzo world patent & trademark