Title:
放射性廃水の処理方法及び装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017501421
Kind Code:
A
Abstract:
放射性廃水をディスクチューブ型逆浸透（ＤＴＲＯ）膜モジュールで処理することにより、高除染係数と高濃縮倍率の効果を同時に得ることができる放射性廃水の処理方法及び装置を提供する。前記方法では、放射性廃水を順に第一段膜モジュールと第二段の膜モジュールに通し、第二段の清水を取得し、第一段の膜モジュールから送り出される第一段濃縮水を第三段の膜モジュールに送り込み、濃縮液を得る。
Inventors:
Lee Shunfeng
Wo Jian Dragon
Zhao Tree
Wo Jian Dragon
Zhao Tree
Application Number:
JP2016549613A
Publication Date:
January 12, 2017
Filing Date:
January 07, 2015
Export Citation:
Assignee:
Qinghua University
International Classes:
G21F9/06; G21F9/12
Domestic Patent References:
| JP2013096701A | 2013-05-20 | |||
| JPS5343200U | 1978-04-13 | |||
| JPS5584586A | 1980-06-25 | |||
| JPS61116695A | 1986-06-04 | |||
| JP2007203144A | 2007-08-16 | |||
| JPS50157800A | 1975-12-19 | |||
| JPS5385299A | 1978-07-27 | |||
| JP2007136413A | 2007-06-07 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent Corporation yki International Patent Office