Title:
センサーに導入されるガスの流れを安定させるためのシステム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023510419
Kind Code:
A
Abstract:
センサーに導入されるガスの流れを安定化するためのシステムが開示されており、このシステムは、プロセスチャンバーと、このプロセスチャンバーの内部ガスを排気するために設置されたプロセスチャンバー用の真空ポンプと、プロセスチャンバーの内部ガスをセンサー接続パイプを介して受け取り、その成分を検出できるように構成されたセンサー装置とを備えた製造装置に関連しており、このシステムは、センサー接続管と、センサー接続管から分岐して、ガスの一部をセンサーに導くことなく直接外部に排出できるようにしたバイパス管とを備え、このシステムは、さらに、この構成により、プロセスチャンバーの圧力状態の変化に関わらず、時間当たり所定範囲内でセンサー装置に内部ガスの一部を安定的に供給するように構成されている。本発明によれば、半導体デバイス製造装置等の真空が適用されるプロセスチャンバーに接続されるセンサー装置に関し、ガス流の安定化システムを、プロセスチャンバーの圧力変動によりＭＳの内圧が急変した場合にセンサー装置の分析値が大きく変化することによる分析値データの信頼性の低下を防止するために用いられてもよく、ＭＳセンサー装置の耐久／寿命を向上でき、その修理／メンテナンスの必要性を低減でき、管理負担を軽くすることが可能となる。
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Inventors:
Hong Young Ho
Choi Hyungsik
Hong Ki-woo
Hirofumi Nagao
Shinichi Miki
Choi Hyungsik
Hong Ki-woo
Hirofumi Nagao
Shinichi Miki
Application Number:
JP2022543504A
Publication Date:
March 13, 2023
Filing Date:
January 15, 2021
Export Citation:
Assignee:
ATIK CO., LTD.
International Classes:
H01L21/205; H01L21/3065
Attorney, Agent or Firm:
Akira Imai