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Title:
ARRAY SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE, AND FABRICATION METHOD OF ARRAY SUBSTRATE
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2014/190710
Kind Code:
A1
Abstract:
An array substrate, a display device, and a fabrication method of the array substrate. The array substrate comprises two or more GOA units (2) and an STV signal line. A transmission channel between two adjacent GOA units (2) is formed of a via hole and a gate line metal layer or a source/drain metal layer; a front-side via hole region (3) and a back-side via hole region (4) are provided on the array substrate, the front-side via hole region (3) is used to dispose a front-side via hole for forming a front-side transmission channel connecting an output end of the mth GOA unit (2) and an input end of the (m+1)th GOA unit (2), and the first GOA unit (2) is provided with a connecting point connected to the STV signal line; the back-side via hole region (4) is used to dispose a back-side via hole for forming a back-side transmission channel connecting an output end of the (m+1)th GOA unit (2) and an input end of the mth GOA unit (2), and the last GOA unit (2) is provided with a connecting point connected to the STV signal line, wherein m is an integer not less than 1. The array substrate is manufactured in low cost and has a desirable drive effect.

Inventors:
MA YU (CN)
Application Number:
PCT/CN2013/088716
Publication Date:
December 04, 2014
Filing Date:
December 06, 2013
Export Citation:
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Assignee:
BOE TECHNOLOGY GROUP CO LTD (CN)
BEIJING BOE DISPLAY TECH CO (CN)
International Classes:
G09G3/20
Foreign References:
CN103018991A2013-04-03
CN102393587A2012-03-28
CN102540595A2012-07-04
CN103295516A2013-09-11
Attorney, Agent or Firm:
LIU, SHEN & ASSOCIATES (CN)
北京市柳沈律师事务所 (CN)
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Claims:
权利要求书

1、一种阵列基板,包括两个以上的栅极驱动 G0A单元以及垂直开启 STV 信号线; 相邻两所述 GOA单元之间的传输通路由过孔与栅线金属层或源漏 金属层组成, 其中,

所述阵列基板上设有正向过孔区域以及反向过孔区域;

所述正向过孔区域用于设置形成连接第 m个所述 GOA单元的输出端与 第 m+1 个所述 GOA单元的输入端的正向传输通路的正向过孔, 首个所述 GOA单元上设有与 STV信号线相连的连接点;

所述反向过孔区域用于设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的输出端 与第 m个所述 GOA单元的输入端的反向传输通路的反向过孔, 末个所述 GOA单元上设有与 STV信号线相连的连接点;

其中, 所述 m= ( 1、 2、 3…… M ) ,Μ为 GOA单元的个数。

2、 根据权利要求 1所述的阵列基板, 其中,

所述正向过孔区域还用于设置形成连接第 m个所述 GOA单元的复位端 与所述第 m+1个所述 GOA单元的输出端的正向复位通路的正向复位过孔; 所述反向过孔区域还用于设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的复位 端与所述第 m个所述 GOA单元的输出端的正向复位通路的反向复位过孔。

3、 一种显示装置, 包括权利要求 1或 2所述的阵列基板。

4、一种阵列基板的制备方法, 包括在基板上形成正向过孔区域与反向过 孔区域的步骤;

其中, 所述阵列基板为正向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所述正向过 孔区域设置形成连接第 m个栅极驱动 GOA单元的输出端与第 m+1个 GOA 单元的输入端的正向传输通路的正向过孔,首个所述 GOA单元上设有与 STV 信号线相连的连接点;

所述阵列基板为反向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所述反向过孔区域 设置形成连接第 m+1个 GOA单元的输出端与第 m个 GOA单元的输入端的 反向传输通路的反向过孔, 末个所述 GOA单元上设有与 STV信号线相连的 连接点;

其中, 所述 m= ( l、 2、 3…… M ) ,Μ为 GOA单元的个数。 5、 根据权利要求 4所述的阵列基板的制备方法, 其中, 所述阵列基板为正向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所述正向过孔区域 设置形成连接第 m个所述 GOA单元的复位端与所述第 m+1个所述 GOA单 元的输出端的正向复位通路的正向复位过孔;

所述阵列基板为反向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所述反向过孔区域 设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的复位端与所述第 m个所述 GOA单 元的输出端的正向复位通路的反向复位过孔。

6、根据权利要求 4或 5所述的阵列基板的制备方法, 其中, 所述过孔掩 膜板工艺为 4掩膜板工艺或 5掩膜板工艺中的过孔掩膜板工艺。

Description:
阵列基板、 显示装置及阵列基板的制备方法 技术领域

本发明的实施例涉及显示领域, 尤其涉及一种阵列基板、 显示装置及阵 列基板的制备方法。 背景技术

GOA ( Gate Driver On Array, 阵列基板上的栅极驱动)技术是将栅极驱 动集成在阵列基板上,从而省略了在基板的边 缘再设置如柔性电路薄膜 COF ( Chip On Film )等附加驱动, 从而有利于阵列基板的小型化, 且降低了材 料成本以及制作工艺的成本。

一个 GOA单元对应阵列基板上一条栅线,具体的每一 GOA单元的输出 端连接一条栅线, 且同时还连接到下一扫描栅线所连接的 GOA单元的输入 端。

现有的扫描方式有两种:

第一种 : 正向扫描, 即从阵列基板近印刷电路板 PCB ( Print Circuit Board )端开始扫描至远 PCB端;

第二种: 反向扫描, 即从阵列基板远 PCB端开始扫描至近 PCB端。 正向扫描的阵列基板和反向扫描的阵列基板在 制备的过程中 GOA单元 内部结构、 过孔的布局结构有 4艮大不同, 在采用掩膜板工艺进行制作时, 基 本上每一张掩膜板都不相同, 这样导致生产工艺兼容性差, 生产成本高、 设 计成本高等问题。 发明内容

本发明旨在提供一种正反向扫描两种阵列基板 的生产工艺兼容性强、 生 产及设计成本低且驱动效果良好的阵列基板、 显示装置及阵列基板的制备方 法。

根据本发明的第一方面, 提供一种阵列基板, 包括两个以上的栅极驱动 GOA单元以及与垂直开启 STV信号线;相邻两所述 GOA单元之间的传输通 路由过孔与栅线金属层或源漏金属层组成,

所述阵列基板上设有正向过孔区域以及反向过 孔区域;

所述正向过孔区域用于设置形成连接第 m个所述 GOA单元的输出端与 第 m+1 个所述 GOA单元的输入端的正向传输通路的正向过孔, 首个所述 GOA单元上设有与 STV信号线相连的连接点;

所述反向过孔区域用于设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的输出端 与第 m个所述 GOA单元的输入端的反向传输通路的反向过孔, 末个所述 GOA单元上设有与 STV信号线相连的连接点;

其中, 所述 m= ( 1、 2、 3…… M ) ,Μ为 GOA单元的个数。

在一个示例中, 所述阵列基板为正向扫描时, 所述正向过孔区域还用于 设置形成连接第 m个所述 GOA单元的复位端与所述第 m+1个所述 GOA单 元的输出端的正向复位通路的正向复位过孔;

所述阵列基板为反向扫描时, 所述反向过孔区域还用于设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的复位端与所述第 m个所述 GOA单元的输出端的正 向复位通路的反向复位过孔。

根据本发明的第二方面, 提供一种显示装置, 包括上述阵列基板。

根据本发明的第三方面, 提供一种阵列基板的制备方法, 包括在基板上 形成正向过孔区域与反向过孔区域的步骤;

在一个示例中, 所述阵列基板为正向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所 述正向过孔区域设置形成连接第 m个栅极驱动 GOA单元的输出端与第 m+1 个 GOA单元的输入端的正向传输通路的正向过孔, 首个所述 GOA单元上设 有与 STV信号线相连的连接点;

所述阵列基板为反向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所述反向过孔区域 设置形成连接第 m+1个 GOA单元的输出端与第 m个 GOA单元的输入端的 反向传输通路的反向过孔, 末个所述 GOA单元上设有与 STV信号线相连的 连接点;

其中, 所述 m= ( 1、 2、 3…… M ) ,Μ为 GOA单元的个数。

在一个示例中, 所述阵列基板为正向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所 述正向过孔区域设置形成连接第 m个所述 GOA单元的复位端与所述第 m+1 个所述 GOA单元的输出端的正向复位通路的正向复位过 孔; 所述阵列基板为反向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所述反向过孔区域 设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的复位端与所述第 m个所述 GOA单 元的输出端的正向复位通路的反向复位过孔。

在一个示例中, 所述过孔掩膜板工艺为 4掩膜板工艺或 5掩膜板工艺中 的过孔掩膜板工艺。

本发明阵列基板、 显示装置及阵列基板的制备方法, 通过在同一张阵列 基板上预留出正向过孔区域以及反向过孔区域 , 从而使得正向扫描阵列基板 和反向扫描阵列基板的生产工艺兼容性强, 两者之间的设计变更少、 生产成 本低, 且同一批产品可以根据生产需要及时、 筒便的变更成另外一种扫描方 式的阵列基板。 另外, 可以使正反向扫描两种类型的阵列基板的结构 差异小 的同时驱动效果良好。 附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案, 下面将对实施例的附图作 筒单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图 仅仅涉及本发明的一些实施例, 而非对本发明的限制。

图 1为本发明实施例一所述的阵列基板的局部结 示意图;

图 2为本发明实施例一所述的阵列基板为正向扫 时的信号流转图; 图 3为本发明实施例一所述的阵列基板为反向扫 时的信号流转图。 具体实施方式

为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚, 下面将结合本发 明实施例的附图,对本发明实施例的技术方案 进行清楚、 完整地描述。显然, 所描述的实施例是本发明的一部分实施例, 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例, 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提 下所获 得的所有其他实施例, 都属于本发明保护的范围。

实施例一:

如图 1所示, 阵列基板 1 , 包括两个以上的栅极驱动 GOA单元 2以及垂 直开启 STV(Start vertical)信号线; 相邻两所述 GOA单元 2之间的传输通路 由过孔与栅线金属层或源漏金属层组成; 阵列基板上设有像素矩阵, 栅线以 及数据线, GOA单元 2为依时序向与各自相连的栅线提供电压的驱 单元; 在阵列基板上前一个 GOA单元通过过孔连接到栅线金属层,后一个 GOA单 元同样的通过过孔连接到栅线金属层, 则这两个 GOA单元之间形成了传输 通路。 在另一实施例中, 还可以采用过孔连接到源漏金属层形成传输通 路; 所述阵列基板上设有正向过孔区域 3以及反向过孔区域 4 (正向和反向 过孔区域 3、 4的数量根据 GOA的个数来决定);

如图 1-图 2所示, 所述阵列基板 1为正向扫描时, 所述正向过孔区域 3 用于设置正向过孔; 所述正向过孔用以形成连接第 m个所述 GOA单元的输 出端 OUTPUT端与第 m+1个所述 GOA单元的输入端 INPUT端的正向传输 通路, 首个所述 GOA单元上设有与 STV信号线相连的连接点; 其中, m为 大于或等于 1的正整数, 例如 m=l、 2、 3…… M, 其中最大值 M为 GOA单 元的个数;

如图 1、 图 3所示, 所述阵列基板 1为反向扫描时, 所述反向过孔区域 4 用于设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的输出端 OUTPUT端与第 m个 所述 GOA单元的输入端 INPUT端的反向传输通路的反向过孔, 末个所述 GOA单元上设有与 STV信号线相连的连接点。

在本实施例中,首个 GOA单元为近 PCB端的 GOA单元,末个 GOA单 元为远 PCB端的 GOA单元, 即 GOA单元的计数为从近 PCB端向远 PCB 端进行的。

在本实施例中, 通过在阵列基板上同时预留出正向过孔区域以 及反向过 孔区域, 在具体的生产工艺中, 反向扫描的阵列基板与正向扫描的阵列基板 之间只是过孔位置的不同, 从而生产工艺兼容性高, 正向扫描的阵列基板与 反向扫描的阵列基板之间设计变更少, 故筒化了设计, 从而同时节省了设计 成本, 在从生产正向扫描的阵列基板改变到生产反向 扫描的阵列基板时, 仅 需改变过孔位置, 故生产线切线方便。 综合上述本实施例所述的阵列基板通 过预留出正向过孔区域以及反向过孔区域, 具有生产成本低、 设计成本低, 正反向扫描阵列基板之间差异小的多重优点。

作为本实施例的进一步的改进, 如图 1、 图 2所示, 所述阵列基板 1为 正向扫描时, 所述正向过孔区域 3还用于设置形成连接第 m个所述 GOA单 元的复位端 Reset端与所述第 m+1个所述 GOA单元的输出端 OUTPUT端的 正向复位通路的正向复位过孔。

或者, 如图 1、 图 3所示, 所述阵列基板 1为反向扫描时, 所述反向过 孔区域 4还用于设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的复位端 Reset与所 述第 m个所述 GOA单元的输出端 OUTPUT的正向复位通路的反向复位过 孔。

通过正向过孔的设置实现了 STV帧开启信号通过垂直开启 STV信号线 从近 PCB端到远 PCB端的正向传输,通过反向过孔的设置实现了 STV帧开 启信号由远 PCB端到近 PCB端的反向传输;

通过正向复位过孔的设置, 实现了通过远 PCB端的后一扫描 GOA单元 的输出信号触发近 PCB端的前一扫描 GOA单元的复位;

通过反向复位过孔的设置, 实现了通过近 PCB端的后一扫描 GOA单元 的输出信号触发远 PCB端的前一扫描 GOA单元的复位。

本实施例所述的阵列基板,同时预留了正向过 孔区域以及反向过孔区域, 方便了生产制作过程中, 制作成本以及设计成本的降低, 具有实现筒便的优 点。

图 2与图 3中的 CLK1为用于向 GOA单元输入的第一时钟信号的输入 端、 VSS为低电平输入端、 CLK2为用于向 GOA单元输入第二时钟信号的 输入端。

实施例二:

本实施例的显示装置, 包括实施例一中所述的阵列基板。

该显示装置的一个示例为液晶显示装置, 其中, 阵列基板与对置基板彼 此对置以形成液晶盒, 在液晶盒中填充有液晶材料。 该对置基板例如为彩膜 基板。 阵列基板的每个像素单元的像素电极用于施加 电场对液晶材料的旋转 的程度进行控制从而进行显示操作。 在一些示例中, 该液晶显示装置还包括 为阵列基板提供背光的背光源。

该显示装置的另一个示例为有机电致发光显示 装置(OLED ), 其中, 阵 列基板上形成有有机发光材料叠层, 每个像素单元的像素电极作为阳极或阴 极用于驱动有机发光材料发光以进行显示操作 。

该显示装置的再一个示例为电子纸显示装置, 其中, 阵列基板上形成有 电子墨水层, 每个像素单元的像素电极作为用于施加驱动电 子墨水中的带电 微颗粒移动以进行显示操作的电压。

实施例三:

本实施例阵列基板的制备方法, 包括形成正向过孔区域与反向过孔区域 的步骤; 其中,

所述阵列基板为正向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所述正向过孔区域 设置形成连接第 m个所述 GOA单元的输出端与第 m+1个所述 GOA单元的 输入端的正向传输通路的正向过孔, 首个所述 GOA单元上设有与 STV信号 线相连的连接点;

所述阵列基板为反向扫描时, 通过过孔掩膜板工艺在所述反向过孔区域 设置形成连接第 m+1个所述 GOA单元的输出端与第 m个所述 GOA单元的 输入端的反向传输通路的反向过孔, 末个所述 GOA单元上设有与 STV信号 线相连的连接点;

其中, 所述 m= ( 1、 2、 3…… M ) ,Μ为 GOA单元的个数。

在采用如构图工艺等生产制作工艺制作所述本 发明所述的阵列基板时, 与传统的阵列基板的制备方法不同的是, 本实施例所述的阵列基板的制备方 法需要在阵列基板的母板上预留出两个区域: 一个用于正向过孔的设置的正 向过孔区域, 另一个为用于反向过孔的设置的反向过孔区域 。 由于本实施例 所述方法制作的阵列基板, 反向扫描的阵列基板与正向扫描的基板之间的 差 异仅是过孔位置的不同,从而具有工艺兼容性 强、制作和设计成本低的优点。 为了达到两种扫描方式的阵列基板工艺兼容性 好的特点, 为了减小正向扫描 的阵列基板与反向扫描的阵列基板之间的结构 差异, 在传统的方法中, 提出 了一种将 GOA单元中的晶体管组 Μ3与晶体管组 Μ4之间相互对调,用以形 成正反向扫描两种不同的阵列基板, 然而这种仅适用于小尺寸的阵列基板, 在大尺寸的阵列基板中由于晶体管组 Μ3与晶体管组 Μ4之间的差异大, 筒 单的对调实现正反向扫描阵列基板的生产, 将导致反向扫描的阵列基板出现 严重的驱动不良的现象。

综合上述, 本实施例所述方法制备的阵列基板以及本发明 所述的阵列基 板,具有正反向扫描两种阵列基板的制备方法 兼容性好、制作与设计成本低, 且驱动效果好的优点。

实施例四: 本实施例所述的阵列基板的制备方法, 在上一实施例的基础上, 进一步 将所述过孔掩膜板 Mask工艺限定为 4Mask工艺或 5Mask工艺中的过孔掩膜 板工艺。

采用 4Mask工艺或 5Mask工艺具有制备成本低、制作筒便等优点。 过 本实施的方法制备的正向扫描的阵列基板与反 向扫描的阵列基板之间结构差 异小, GOA单元内部结构没有区别, 从而制作工艺的兼容性好, 制作成本低 且设计成本低、 驱动效果良好。

以上所述仅是本发明的示范性实施方式, 而非用于限制本发明的保护范 围, 本发明的保护范围由所附的权利要求确定。