Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Reinigung einer Halbleiterscheibe.

Stand der Technik

Halbleiterscheiben, die beispielsweise als Substrate für die Herstellung mikroelektronischer Bauelemente dienen, meist Siliciumscheiben, werden nach dem Polieren, Beschichten (beispielsweise durch epitaktische Abscheidung) oder thermischen Behandlungsschritten (engl. „Annealing“) bzw. vor Hochtemperaturprozessschritten mit nasschemischen Verfahren gereinigt. Ziel der Reinigung ist es, Kontaminationen der Halbleiterscheiben, beispielsweise mit Metallen wie Kupfer oder mit organischen Substanzen, sowie an der Scheibenoberfläche haftende Partikel möglichst vollständig zu entfernen, da diese Kontaminationen bei der nachfolgenden Herstellung von Bauelementen zu Problemen führen, beispielsweise zu einem inhomogenen Aufwachsen der Gate-Oxide oder zu einem inhomogenen Abscheiden der Polysilicium-Gates.

In Anwendung sind dabei Einzelscheibenreinigungsverfahren, bei denen eine Halbleiterscheibe in eine schnelle Rotation um ihre Mittelachse versetzt wird und dabei zunächst mit einer oder mehreren Flüssigkeiten gereinigt, anschließend mit entionisiertem Wasser gespült und getrocknet wird. Die Flüssigkeiten werden auf die rotierende Halbleiterscheibe aufgebracht und durch die Zentrifugalkraft zum Scheibenrand hin beschleunigt, sodass die Flüssigkeiten nach außen abfließen und dabei auf der Scheibenoberfläche einen in der Regel ganzflächigen, dünnen Film bilden. Bei der anschließenden Trocknung unter weiterer Rotation der Halbleiterscheibe, beispielsweise unter Zugabe eines die Oberflächenspannung des Flüssigkeitsfilms reduzierenden Dampfes (z. B. von Isopropanol) fließt der Flüssigkeitsfilm vollständig nach außen ab. Derartige Verfahren sind beispielsweise in US 20041 0 103 915 A1 und EP 0 905 747 A1 beschrieben.

Aus der Schrift US 2014/048 100 A1 ist ein Verfahren zum Reinigen von Halbleiterscheiben bekannt, bei dem die folgenden Verfahrensschritte verwendet werden:

(1 ) ein erster Reinigungsschritt zum Reinigen mit ozonisiertem Wasser und anschließendem Spülschritt mit gereinigtem Wasser, (2) ein zweiter Reinigungsschritt, der einen Behandlungsschritt mit ozonisiertem Wasser enthält, der gefolgt wird von einem Behandlungsschritt mit einer HF enthaltenden Flüssigkeit, wobei der zweite Reinigungsschritt mehrfach wiederholt werden kann,

(3) ein dritter Reinigungsschritt zum Reinigen mit ozonisiertem Wasser und anschlie- ßendem Spülschritt mit gereinigtem Wasser,

(4) ein Trocknungsschritt, bei dem die Seite der Halbleiterscheibe getrocknet wird.

Beim Test dieses Verfahrens haben die Erfinder entdeckt, dass Defektmuster auf dem Wafer auftreten können, die mit einer LLS Messung messbar sind. Diese Defekte treten offenbar bevorzugt im Zentrum des Substrates auf und können sich negativ auf das Verhalten der betroffenen Halbleiterscheiben im Fertigungsprozess für Bauelemente auswirken.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Verfügung zu stellen, das diese Defekte nicht hat, oder zumindest die Wahrscheinlichkeit für das Auftreten dieser Defekte minimiert. Die Aufgabe wird gelöst durch die in den Ansprüchen beschriebenen Verfahren.

Kurzbeschreibung der Figuren

Abbildung 1 zeigt als Illustration die radiale Defektdichte, die gemessen werden kann, nachdem eine Halbleiterscheibe mit dem nach dem Stand der Technik bekannten Verfahren behandelt wurde (A) und eine andere Halbleiterscheibe, die mit dem erfinderischen Verfahren gereinigt wurde. Deutlich ist zu erkennen, dass das erfinderische Verfahren (B) im Zentrum der Halbleiterscheibe besser Defekte vermeiden mag als das Verfahren nach dem Stand der Technik (A).

Abkürzungen

DIW deionisiertes Wasser.

O3W ozonisiertes Wasser bestehend aus 15 - 20 ppm Ozon (O3) gelöst in deionisiertem Wasser.

SC1 „Standard Clean 1“ enthaltend 0,3% Tetramethylammoniumhydroxid (TMAH, [N(CHS)4]OH ) und 0,7% Wasserstoffperoxid (H2O2) in deionisiertem Wasser.

HF 0,5% - 1 % Fluorwasserstoff (HF) gelöst in deionisiertem Wasser.

DRY Trocknungsprozess, der in 100%-iger Stickstoffatmosphäre (N2) durchgeführt wird.

Detaillierte Beschreibung erfindungsgemäßer Ausführungsbeispiele

Beim Test eines Verfahrens aus dem Stand der Technik zum Reinigen von Halbleiterscheiben mittels einer Vorrichtung zum Reinigen von einzelnen Scheiben („single wafer cleaner“) haben die Erfinder festgestellt, dass Defektmuster auf dem Wafer auftreten können, die mit einer LLS Messung messbar sind.

Diese Defektmuster können durch eine Streulichtmessung (light scattering), beispielsweise mit einem Messgerät von KLA-Tencor unter Verwendung des Surfscan SP1 MX, sichtbar gemacht werden und wird daher auch als Localized Light Scattering-Belastung bezeichnet. W02005101483 A1 offenbart eine Methode zur Streulichtmessung bei epitaktisch beschichteten Halbleiterscheiben.

Wie Abbildung 1 zeigt, treten diese Defekte bevorzugt im Zentrum der Halbleiterscheibe auf. Sie können sich negativ auf das Verhalten der betroffenen Halbleiterscheiben im Fertigungsprozess für Bauelemente auswirken. Bei dem Versuch, diese Defekte nicht auftreten zu lassen, haben die Erfinder entdeckt, dass es vorteilhaft und damit bevorzugt ist, zuerst einen erster Reinigungsschritt zum Reinigen mit ozonisiertem Wasser und anschließendem Spülschritt mit gereinigtem Wasser durchzuführen, dann einen zweiter Reinigungsschritt, der einen Behandlungsschritt mit ozonisiertem Wasser enthält, der gefolgt wird von einem Behandlungsschritt mit einer HF enthaltenden Flüssigkeit, wobei der zweite Reinigungsschritt mehrfach wiederholt werden kann durchzuführen, dann einen dritten Reinigungsschritt zum Reinigen mit ozonisiertem Wasser und anschließendem Spülschritt mit gereinigtem Wasser durchzuführen, und einen Trocknungsschritt, bei dem die Seite der Halbleiterscheibe getrocknet wird, durchzuführen.

Dabei ist bevorzugt, dass direkt vor dem ersten Reinigungsschritt ein Vorreinigungsschritt mit Wasser erfolgt. Dabei ist essenziell, dass die eine Seite der Halbleiterscheibe, die die Reinigung erfährt, noch nass ist, bevor der erste Reinigungsschritt beginnt.

Die Erfinder haben dabei ferner erkannt, dass es bevorzugt ist, dass während des Vorreinigungsschritts der Anteil von ozonisiertem Wasser von 0% am Anfang des Vorreinigungsschritts auf 100% am Ende des Vorreinigungsschritts gesteigert wird, wobei die Dauer mit einem Anteil kleiner als 5% kleiner ist als 10 s und größer ist als 1 s.

Diese kontinuierliche Erhöhung des Anteils an ozonisiertem Wasser zwischen dem Vorreinigungsschritt hin zum ersten Reinigungsschritt bewirkt offenbar, dass die Anzahl der gefundenen Defekte noch weiter gesenkt wird.

Besonders bevorzugt ist, wenn der Vorreinigungsschritt mindestens 1 s und maximal 15 s dauert, ganz besonders bevorzugt dauert der Schritt mindestens 3 s und maximal 8 s.

Essenziell für das Verfahren ist es, wenn die Seite des Halbleiterscheibe, die gereinigt werden soll, horizontal ausgerichtet ist und während des Vorreinigungsschrittes mit einer Geschwindigkeit von größer als 500 U/rnin und kleiner als 1000 U/rnin rotiert. Besonders bevorzugt ist es, wenn zum Aufträgen des Wassers im Vorreinigungsschritt eine Düse verwendet wird. Die Düsenströmung beträgt dabei besonders bevorzugt zwischen 0,5 m/s und 2 m/s, wobei der zugehörige Durchfluss bevorzugt zwischen 0,5 l/min und 1 ,5 l/min beträgt. Bevorzugt ist es ebenfalls dass die Düse so ausgerichtet ist, dass die Richtung der Düsenströmung mit der Oberfläche der Halb-Ieiterscheibe einen Winkel a bildet, der kleiner ist als 70° und größer ist als 30°.

Eine ganz besonders bevorzugte Ausprägung des erfinderischen Verfahrens ist in Tabelle 1 gezeigt.

Tabelle 1