Title:
拡散パターンを有する反射偏光モジュール及びこれを備えたバックライトユニット
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018517934
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、屈折率が相互異なる複数個のレイヤーが積層され、光を選択的に透過させる反射偏光シート、上記反射偏光シートの下部から上部へ行くほど横断面積が減少する第１単位集光体が連続的に繰り返される第１構造化パターンを有し、上記第１単位集光体の上側端部が上記反射偏光シートの下部で横方向に第１幅を有するように接合される第１集光シート、及び上記反射偏光シートの上面に位置し、上面に突出された複数個の拡散突起からなる拡散パターンが形成され、上記反射偏光シートを透過して伝達される光を拡散させるコーティング層；を含み、上記複数個の拡散突起のうち、少なくとも一部は横方向による幅が上記第１幅より相対的に小さく形成されることを特徴とする反射偏光モジュールが提供される。
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Inventors:
Min Ji Hong
Lee Eun Mi
Lee Eun Mi
Application Number:
JP2017560546A
Publication Date:
July 05, 2018
Filing Date:
May 21, 2016
Export Citation:
Assignee:
LMS CO., LTD.
International Classes:
G02B5/08; F21S2/00; G02B5/02; G02B5/30
Domestic Patent References:
| JP2008122525A | 2008-05-29 | |||
| JP2009211924A | 2009-09-17 |
Attorney, Agent or Firm:
Samejima Mutsumi
Hiroshi Okabe
Hiroshi Okabe