軟Ｘ線スキャタロメトリに依拠するオーバレイ計測方法及びシステム

Japanese Patent JP2023509480

A

軟Ｘ線（ＳＸＲ）スキャタロメトリ計測データに基づきオーバレイ及びエッジ配置誤差を実行する方法及びシステムが、本願にて提示される。短波長ＳＸＲ輻射を小さな照明スポットサイズにて集束させることで、デザインルールターゲット又はインダイ能動デバイス構造の計測を可能とするものである。ある種の実施形態では、ＳＸＲスキャタロメトリ計測が、１０～５０００電子ボルトの範囲内のエネルギを有するＳＸＲ輻射で以て実行される。結果として、ＳＸＲ波長での計測により、実デバイスオーバレイを密に表現するプロセスデザインルールでのターゲット設計が可能となる。ある種の実施形態では、オーバレイ及び形状パラメータのＳＸＲスキャタロメトリ計測が、同じ計量ターゲットをもとに同時実行され、それによりエッジ配置誤差の正確な計測が可能となる。また、ある態様では、非周期的デバイス構造のオーバレイが、その実デバイスターゲットの参照計測を基準としてそのＳＸＲ計測を校正することにより、デザインルールターゲットのＳＸＲ計測を踏まえ推定される。

JPS6413758	INTEGRATED CIRCUIT DEVICE
JPH08167635	JIG FOR PREVENTING POSITIONAL DEVIATION OF INTEGRATED CIRCUIT PACKAGE
JP2016184607	EVALUATION DEVICE AND EVALUATION METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT

Shegrov Andrey Buoy
Goodman Nadab
Kuznetsov Alexander
Jerino Antonio

JP2022541623A

March 08, 2023

January 06, 2021

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KLA Corporation

H01L21/66; G01N23/201

Patent Attorney Corporation YKI International Patent Office

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